CN112882274B - 一种彩膜基板及其制作方法和显示面板 - Google Patents

一种彩膜基板及其制作方法和显示面板 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种彩膜基板及其制作方法和显示面板,所述彩膜基板包括衬底、黑矩阵层、第一凹槽和反射层;衬底包括显示区和非显示区,所述非显示区围绕所述显示区设置;所述黑矩阵层设置在所述衬底上,至少包括设置在所述显示区内的第一黑矩阵层和形成在所述非显示区的第二黑矩阵层;所述第一凹槽设置在所述第二黑矩阵层中,环绕所述显示区设置;所述反射层覆盖在所述第一凹槽,通过在第一凹槽内涂布反射层,有效增加边缘黑矩阵层的遮光作用,同时可以减少边缘非显示区黑矩阵长度,从而减少非显示区域大小,实现窄边框,反射层能够有效阻隔静电对显示器件破坏,起到抗静电作用。

Description

一种彩膜基板及其制作方法和显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法和显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展,人们对显示装置的显示品质的追求越来越高,其中,窄边框甚至于无边框显示屏幕已成为显示屏幕设计的亮点之一。在显示装置的制造过程中,通常是将阵列基板事先独立制造,再将阵列基板和彩膜基板进行对盒,形成液晶盒。其中,彩膜基板上的黑矩阵与阵列基板上的数据线、扫描线、薄膜晶体管等部件的位置相对应,以遮挡住数据线、扫描线、薄膜晶体管等部件。
液晶显示屏生产成本日益降低、制造工艺日趋完善,成为平板显示主流技术。液晶显示面板包括阵列基板、对盒基板和其间的液晶分子,对盒基板周边非显示区有黑矩阵层(BM)结构,其作用是防止漏光;目前,液晶显示市场需求更多的窄边框甚至无边框产品,减少边缘黑矩阵层长度,这样会导致漏光现象发生和静电积累损伤,影响产品品质。
发明内容
本申请的目的是提供一种彩膜基板及其制作方法和显示面板,改善传统黑矩阵漏光效果且增加了显示器抗静电能力。
本申请公开了一种彩膜基板,包括衬底、黑矩阵层、第一凹槽和反射层;所述黑矩阵层设置在所述衬底上;所述衬底包括显示区和非显示区,所述非显示区围绕所述显示区设置;所述黑矩阵层设置在所述衬底上,至少包括设置在所述显示区内的第一黑矩阵层和形成在所述非显示区的第二黑矩阵层;所述第一凹槽设置在所述第二黑矩阵层中,环绕所述显示区设置;所述反射层覆盖所述第一凹槽。
可选的,所述第一凹槽环绕设置在所述第二黑矩阵层靠近所述显示区的一边,所述第一凹槽设置在所述第一黑矩阵层和所述第二黑矩阵层之间。
可选的,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度大于所述第一凹槽的长度;其中,所述反射层的长度为所述反射层靠近所述显示的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离;所述第一凹槽的长度为所述第一凹槽靠近所述显示区的一端到所述第一凹槽远离所述显示区的一端的距离。
可选的,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度等于所述第一凹槽与所述第二黑矩阵层的长度之和;其中,所述反射层的长度为所述反射层靠近所述显示的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离;所述第一凹槽的长度为所述第一凹槽靠近所述显示区的一端到所述第一凹槽远离所述显示区的一端的距离;所述第二黑矩阵层的长度为所述第二黑矩阵层靠近所述显示区的一端到所述第二黑矩阵层远离所述显示区的一端的距离。
可选的,所述彩膜基板还包括第二凹槽,所述第二凹槽围绕所述第二黑矩阵层设置,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度等于所述第一凹槽、第二黑矩阵层和所述第二凹槽的长度之和。
可选的,所述反射层包括第一反射层和第二反射层,所述第一反射层设置在所述第一凹槽内,所述第二反射层设置在所述第二黑矩阵层内。
可选的,所述第一凹槽环绕设置在所述第二黑矩阵层远离所述显示区的一边。
可选的,所述反射层包括第一反射层和第二反射层,所述第一反射层设置在所述第一凹槽内,所述第二反射层设置在所述第二黑矩阵层内。
本申请还公开了一种彩膜基板的制作方法,包括步骤:
在衬底上形成黑矩阵层;
在黑矩阵层上形成第一凹槽;以及
在所述第一凹槽内涂布反射层。
本申请还公开了一种显示面板,包括如上任一所述的彩膜基板以及与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板。
相对于通过在黑矩阵上形成通槽,将黑矩阵隔断从而改善静电和漏光的方案来说,本申请中第一凹槽贯穿所述黑矩阵层,通过在第一凹槽内涂布反射层,有效增加边缘黑矩阵(BM)遮光作用,同时可以减少边缘非显示区黑矩阵长度,从而减少非显示区域大小,实现窄边框,反射层能够有效阻隔静电对显示器件破坏,起到抗静电作用。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解,其构成了说明书的一部分,用于例示本申请的实施方式,并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中:
图1是本申请的一实施例的显示面板的示意图;
图2是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图3是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图4是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图5是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图6是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图7是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图8是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图9是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图10是本申请的另一实施例的显示面板的示意图;
图11是本申请的另一实施例的彩膜基板制作方法的流程示意图。
其中,100、彩膜基板;110、衬底;111、显示区;112、非显示区;120、黑矩阵层;121、第一黑矩阵层;122、第二黑矩阵层;130、第一凹槽;140、反射层;141、第一反射层;142、第二反射层;143、第三反射层;150、第二凹槽;200、阵列基板;300、上偏光片;400、下偏光片;500、液晶;600、显示面板。
具体实施方式
需要理解的是,这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节,仅仅是为了描述具体实施例,是代表性的,但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现,不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
在本申请的描述中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示相对重要性,或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,除非另有说明,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征;“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形,意为不排他的包含,可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
另外,“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语,是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的,仅是为了便于描述本申请的简化描述,而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
下面参考附图和可选的实施例对本申请作详细说明,需要说明的是,在不相冲突的前提下,以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
如图1所示,作为本申请的一实施例,公开了一种显示面板600,所述显示面板600包括彩膜基板100、阵列基板200、上偏光片300、下偏光片400和液晶500,所述彩膜基板100和所述阵列基板200对盒设置,所述液晶500设置在所述彩膜基板100和阵列基板200之间,所述上偏光片300设置在所述彩膜基板100远离所述阵列基板200的一面上,所述下偏光片400设置在所述阵列基板200远离所述彩膜基板100的一面上。
其中,彩膜基板100包括衬底110、黑矩阵层120、第一凹槽130和反射层140;所述黑矩阵层120设置在所述衬底110上;所述第一凹槽130贯穿所述黑矩阵层120,第一凹槽130可以理解为是黑矩阵层120上挖的通槽;所述反射层140覆盖所述第一凹槽,部分或全部所述反射层140设置在所述第一凹槽130内,其中,第一凹槽130也可以看成在黑矩阵层120上进行环形挖槽而形成的,通过挖槽可以提高黑矩阵层120的抗静电效果,在第一凹槽130涂布反射层140,该反射层140的反射材料是具有超高反射率物质(比如纳米二氧化钛)、反射背光源的发射出来光,改善传统黑矩阵漏光效果,第一凹槽130内涂布反射层140非常有效的增强漏光效果和抗静电,还可以减少黑矩阵层120的边缘长度,进而实现窄边框。
所述衬底110包括显示区111和非显示区112,所述非显示区112围绕所述显示区111设置;所述黑矩阵层120包括第一黑矩阵层121和第二黑矩阵层122,所述第一黑矩阵层121形成在所述显示区111;所述第二黑矩阵层122形成在所述非显示区112;其中,所述第一凹槽130设置在所述第一黑矩阵层121和所述第二黑矩阵层122之间;第一凹槽环绕所述显示区设置,第一黑矩阵层在所述显示区内也是环绕设置,故第一凹槽在环绕所述显示区的同时也环绕所述第一黑矩阵层,而第二黑矩阵层环绕所述第一凹槽,通过在黑矩阵层120在靠近显示区111的一侧挖槽形成第一凹槽130,在第一凹槽130内涂覆一层反射层140,反射背光源的发射出来光,改善传统黑矩阵漏光效果,进而可以减少黑矩阵宽度,实现LCD显示屏更加窄的边框。同时,黑矩阵层120一般树脂制成,容易静电积累,反射层140增加了显示器件抗静电能力。
一般的,所述第一黑矩阵层121的厚度与所述第二黑矩阵层122的厚度相等,当然也可以不相等,其中,所述反射层140的厚度与所述第二黑矩阵层122的厚度相关联,所述发射层的厚度可以等于所述第二黑矩阵的厚度,也可以小于所述第二黑矩阵层122的厚度,当然也可以大于所述第二黑矩阵的厚度,可根据工艺进行调整;在增加反射层140后,黑矩阵层120加上反射层140的整体结构比原来短,一般产品BM宽度2000-10000μm(根据不同尺寸产品),可以按比例缩短,反射层140占整个结构10-20%左右。总体宽度可以比原有基础上减少10-60%,很大程度上实现窄边框的效果。
如图2所示,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度大于所述第一凹槽的长度;其中,所述反射层的长度为所述反射层靠近所述显示的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离;所述第一凹槽的长度为所述第一凹槽靠近所述显示区的一端到所述第一凹槽远离所述显示区的一端的距离;以图2进行示例说明,所述第二黑矩阵层122的长度为d1,所述第一凹槽130的长度为d2,所述反射层140的长度为d3,作为本申请的一实施例,与上述实施例不同的是,所述反射层140的长度d3大于所述第一凹槽130的长度d2,在涂覆反射层140时,不仅可以覆盖所述第一凹槽130,同时也可以覆盖所述第二黑矩阵层122靠近所述第一凹槽130的侧边,防止第二黑矩阵靠近所述第一凹槽130的侧边处漏光;其中,第二黑矩阵层122远离所述第一凹槽130的一边的与所述衬底110的边缘在同一直线上,所述反射层140的一边与所述第一凹槽130靠近所述显示区111的一边重合,所述反射层140的另一边位于所述第二黑矩阵层122的两侧边之间。
如图3所示,作为本申请的另一实施例,与上述实施例不同的是,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度等于所述第一凹槽与所述第二黑矩阵层的长度之和;其中,所述反射层的长度为所述反射层靠近所述显示的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离;所述第一凹槽的长度为所述第一凹槽靠近所述显示区的一端到所述第一凹槽远离所述显示区的一端的距离;所述第二黑矩阵层的长度为所述第二黑矩阵层靠近所述显示区的一端到所述第二黑矩阵层远离所述显示区的一端的距离;以图3进行示例说明,所述反射层140的长度d3等于所述第一凹槽130d2与所述第二黑矩阵层122d1的长度之和,其中,第二黑矩阵层122远离所述第一凹槽130的一边的与所述衬底110的边缘在同一直线上,所述反射层140的一边与所述第一凹槽130靠近所述显示区111的一边重合,所述反射层140的另一边与所述第二黑矩阵层122远离所述第一凹槽130的一边以及所述衬底110的边缘在同一直线上,所述将反射层140涂覆在黑矩阵上方和靠近显示区111的一方,同时能反射来自背光横向竖向以及任意角度光,增加非显示区112遮光效果,进而可以减少黑矩阵宽度,实现LCD显示屏更加窄的边框,同时增强抗静电能力。
如图4所示,作为本申请的另一实施例,与上述实施例不同的是,所述反射层140包括第一反射层141和第二反射层142,所述第一反射层141设置在所述第一凹槽130内,所述第二反射层142设置在所述第二黑矩阵层122内,第一反射层和第二反射层142一体成型,黑矩阵吸收反射层140遗漏的光,同时防止外界光被反射出来造成漏光视觉感受,减少外界光给发射层发射出,减少背光漏光;在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,其中第二反射层142的长度可等于所述第二黑矩阵层122的长度,当然也可小于所述第二黑矩阵层122的长度,常规黑矩阵遮光浓度OD值一定,若在第二黑矩阵层122内加一层反射层140,可以大大提高遮光效果,进而可以减少黑矩阵长度,实现LCD显示屏更加窄的边框。
如图5所示,作为本申请的另一实施例,与上述实施例不同的是,所述彩膜基板100还包括第二凹槽150,所述第二凹槽150围绕所述第二黑矩阵层122设置,优选的,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层140的长度等于所述第一凹槽130、第二黑矩阵层122和所述第二凹槽150的长度之和,反射层140完全覆盖所述第二黑矩阵层122上,不仅防止黑矩阵侧边漏光,也增强了反射功能;反射层140涂布时,反射层140的一边与所述第一凹槽130靠近所述显示区111的一边重合,所述反射层140的另一边与所述第二凹槽150远离所述第二黑矩阵层122的一边重合,第二凹槽150远离所述第二黑矩阵层122的一边与所述衬底110的一边以及所述反射层140远离所述显示区111的一边在同一直线上;进一步的,如图6所示,在所述第二黑矩阵层122内设置有第二反射层142,既能减少外界光给发射层发射出,同时又能减少背光漏光。
如图7所示,作为本申请的另一实施例,与上述实施例不同的是,所述彩膜基板100还包括第二凹槽150,所述第二凹槽150围绕所述第二黑矩阵层122设置,所述反射层140包括第一反射层141、第二反射层142和第三反射层143,所述第一反射层141设置在所述第一凹槽130内,所述第二反射层142设置在所述第二黑矩阵层122内,第三反射层143设置在第二凹槽150内,第一发射层、第二反射层142以及第三反射层143一体成型,既能减少外界光给发射层发射出,同时又能减少背光漏光。
如图8所示,作为本申请的另一实施例,与上述实施例不同的是,所述第一凹槽130设置在所述黑矩阵层120的边缘,第一凹槽环绕所述非显示区内的第二黑矩阵层设置,而第二黑矩阵层环绕所述显示区,第一黑矩阵层在所述显示区内也是环绕设置,故第二黑矩阵层在环绕所述显示区的同时也环绕所述第一黑矩阵层;在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层140的长度大于所述第一凹槽130的长度,在涂覆反射层140时,不仅可以覆盖所述第一凹槽130,同时也可以覆盖所述第二黑矩阵层122靠近所述第一凹槽130的侧边,防止第二黑矩阵靠近所述第一凹槽130的侧边处漏光;其中,所述反射层140的一边与所述第一凹槽130靠近所述显示区111的一边重合且与所述衬底110的边缘在同一直线上,所述反射层140的另一边位于所述第二黑矩阵层122的两侧边之间。
如图9所示,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层140的长度等于所述第一凹槽130与所述第二黑矩阵层122的长度之和,其中,第二黑矩阵层122远离所述第一凹槽130的一边的与所述衬底110的边缘在同一直线上,所述反射层140的一边与所述第一凹槽130靠近所述显示区111的一边重合,所述反射层140的另一边与所述第一凹槽130的一边以及所述衬底110的边缘在同一直线上,所述将反射层140涂覆在黑矩阵上方和靠近显示区111的一方,同时能反射来自背光横向竖向以及任意角度光,增加非显示区112遮光效果,进而可以减少黑矩阵长度,实现LCD显示屏更加窄的边框,同时增强抗静电能力。
如图10所示,所述反射层140包括第一反射层141和第二反射层142,所述第一反射层141设置在所述第一凹槽130内,所述第二反射层142设置在所述第二黑矩阵层122内,第一发射层和第二反射层142一体成型,既能减少外界光给发射层发射出,同时又能减少背光漏光,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,第二反射层142的长度可等于所述第二黑矩阵层122的长度,当然也可小于所述第二黑矩阵层122的长度。
在上述任一实施例中,反射层140与第二黑矩阵层122整体厚度与所述第一黑矩阵层121的厚度相等,当然也可以不等,反射层140的厚度与第二黑矩阵层122的厚度之和大于第一黑矩阵层121的厚度,能够有效增加边缘黑矩阵(BM)遮光作用,同时可以减少边缘非显示区112黑矩阵宽度,从而减少非显示区112域大小,实现窄边框,反射层140能够有效阻隔静电对显示器件破坏,起到抗静电作用。
在上述任一实施例中,提到的长度都是在以图为例的水平方向上的长度,比如第一凹槽的长度则指的是第一凹槽靠近显示区的一端到所述凹槽靠近所述非显示区的一端的距离,反射层的长度指所述反射层靠近所述显示区的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离。
如图11所示,作为本申请的另一实施例,公开了一种彩膜基板的制作方法,包括步骤:
S1:在衬底上形成黑矩阵层;
S2:在黑矩阵层上形成第一凹槽;以及
S3:在所述第一凹槽内涂布反射层。
通过在第一凹槽内涂布反射层,有效增加边缘黑矩阵层的遮光作用,同时可以减少边缘非显示区黑矩阵宽度,从而减少非显示区域大小,实现窄边框,反射层能够有效阻隔静电对显示器件破坏,起到抗静电作用。
作为本申请的另一实施例,与上述制作方法不同的是,在黑矩阵层上还形成第二凹槽;反射层同时涂布至第一凹槽和第二凹槽内。
其中,所述黑矩阵层包括第一黑矩阵层和第二黑矩阵层,所述第一黑矩阵层形成在所述显示区;所述第二黑矩阵层形成在所述非显示区;其中,所述第一凹槽设置在所述第一黑矩阵层和所述第二黑矩阵层之间;即所述第一凹槽围绕所述显示区设置,第二黑矩阵层围绕所述第一凹槽设置,第二凹槽围绕所述第二黑矩阵层设置,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度等于所述第一凹槽、第二黑矩阵层和所述第二凹槽的长度之和,反射层完全覆盖所述第二黑矩阵层上,射层涂布时,反射层的一边与所述第一凹槽靠近所述显示区的一边重合,所述反射层的另一边与所述第二凹槽远离所述第二黑矩阵层的一边重合,第二凹槽远离所述第二黑矩阵层的一边与所述衬底的一边以及所述反射层远离所述显示区的一边在同一直线上,不仅防止黑矩阵侧边漏光,也增强了反射功能,实现窄边框。
需要说明的是,本方案中涉及到的各步骤的限定,在不影响具体方案实施的前提下,并不认定为对步骤先后顺序做出限定,写在前面的步骤可以是在先执行的,也可以是在后执行的,甚至也可以是同时执行的,只要能实施本方案,都应当视为属于本申请的保护范围。
本申请的技术方案可以广泛用于各种显示面板,如TN(Twisted Nematic,扭曲向列型)显示面板、IPS(In-Plane Switching,平面转换型)显示面板、VA(VerticalAlignment,垂直配向型)显示面板、MVA(Multi-Domain Vertical Alignment,多象限垂直配向型)显示面板,当然,也可以是其他类型的显示面板,如OLED(Organic Light-EmittingDiode,有机发光二极管)显示面板,均可适用上述方案。
以上内容是结合具体的可选实施方式对本申请所作的进一步详细说明,不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本申请的保护范围。

Claims (6)

1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:
衬底,包括显示区和非显示区,所述非显示区围绕所述显示区设置;
黑矩阵层,设置在所述衬底上,至少包括设置在所述显示区内的第一黑矩阵层和形成在所述非显示区的第二黑矩阵层;
第一凹槽,设置在所述第二黑矩阵层中,环绕所述显示区设置;以及
反射层,覆盖所述第一凹槽;
其中,所述第一凹槽环绕设置在所述第二黑矩阵层靠近所述显示区的一边,所述第一凹槽设置在所述第一黑矩阵层和所述第二黑矩阵层之间;
所述反射层包括第一反射层和第二反射层,所述第一反射层设置在所述第一凹槽内,所述第二反射层设置在所述第二黑矩阵层内。
2.根据权利要求1所述的一种彩膜基板,其特征在于,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度大于所述第一凹槽的长度;
其中,所述反射层的长度为所述反射层靠近所述显示区的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离;
所述第一凹槽的长度为所述第一凹槽靠近所述显示区的一端到所述第一凹槽远离所述显示区的一端的距离。
3.根据权利要求1所述的一种彩膜基板,其特征在于,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度等于所述第一凹槽与所述第二黑矩阵层的长度之和;
其中,所述反射层的长度为所述反射层靠近所述显示区的一端到所述反射层远离所述显示区的一端的距离;
所述第一凹槽的长度为所述第一凹槽靠近所述显示区的一端到所述第一凹槽远离所述显示区的一端的距离;
所述第二黑矩阵层的长度为所述第二黑矩阵层靠近所述显示区的一端到所述第二黑矩阵层远离所述显示区的一端的距离。
4.根据权利要求1所述的一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括第二凹槽,所述第二凹槽围绕所述第二黑矩阵层设置,在所述第一凹槽沿所述第二黑矩阵层的方向上,所述反射层的长度等于所述第一凹槽、第二黑矩阵层和所述第二凹槽的长度之和。
5.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:
在衬底上形成黑矩阵层;
在黑矩阵层上形成第一凹槽;以及
在所述第一凹槽内涂布反射层;
其中,所述第一凹槽环绕设置在所述第二黑矩阵层靠近所述显示区的一边,所述第一凹槽设置在所述第一黑矩阵层和所述第二黑矩阵层之间;
所述反射层包括第一反射层和第二反射层,所述第一反射层设置在所述第一凹槽内,所述第二反射层设置在所述第二黑矩阵层内。
6.一种显示面板,其特征在于,包括:
如权利要求1-4任意一项所述的彩膜基板;以及
阵列基板,与所述彩膜基板对盒设置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112882274B (zh) 2021-02-05 2022-01-07 惠科股份有限公司 一种彩膜基板及其制作方法和显示面板

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103926742A (zh) * 2013-12-31 2014-07-16 上海天马微电子有限公司 一种彩膜基板以及液晶显示面板
CN106842678A (zh) * 2017-02-13 2017-06-13 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板及显示装置
WO2018223765A1 (zh) * 2017-06-07 2018-12-13 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法、显示面板和显示装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000066180A (ja) * 1998-08-24 2000-03-03 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置
KR101333739B1 (ko) * 2007-03-07 2013-12-02 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치용 컬러필터 기판
TWI379131B (en) * 2008-08-27 2012-12-11 Tpo Displays Corp System for displaying images and manufacturing method of the same
CN103926739B (zh) * 2013-12-31 2017-01-04 上海天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
JP2016038434A (ja) * 2014-08-06 2016-03-22 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
CN104360534B (zh) * 2014-12-04 2018-09-14 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板的制作方法、彩膜基板及显示装置
KR102319565B1 (ko) * 2015-01-08 2021-11-01 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN106226944A (zh) * 2016-07-28 2016-12-14 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板及显示装置
CN205862051U (zh) * 2016-08-01 2017-01-04 合肥京东方光电科技有限公司 一种彩膜基板及显示装置
CN106154632A (zh) * 2016-09-21 2016-11-23 合肥京东方光电科技有限公司 显示面板和显示设备
CN206618922U (zh) * 2017-03-28 2017-11-07 惠科股份有限公司 一种阵列基板和显示面板
CN107589588A (zh) * 2017-10-31 2018-01-16 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板以及液晶显示装置
US20190129262A1 (en) * 2017-10-31 2019-05-02 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
CN108459430A (zh) * 2018-02-07 2018-08-28 京东方科技集团股份有限公司 全反射液晶显示装置及其制备方法
CN108761893B (zh) * 2018-06-21 2021-10-29 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置
CN109188807A (zh) * 2018-09-25 2019-01-11 广州市得胜光电科技有限公司 一种改善液晶显示器像素边缘漏光的方法
CN109613739A (zh) * 2018-11-27 2019-04-12 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及液晶显示面板
CN110456556A (zh) * 2019-08-27 2019-11-15 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板和显示面板
CN210835532U (zh) * 2019-12-20 2020-06-23 京东方科技集团股份有限公司 反射式显示屏及反射式显示装置
CN111025735B (zh) * 2019-12-20 2022-02-15 昆山龙腾光电股份有限公司 液晶显示面板及液晶显示装置
CN111367113A (zh) * 2020-04-09 2020-07-03 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板以及显示装置
CN112882274B (zh) * 2021-02-05 2022-01-07 惠科股份有限公司 一种彩膜基板及其制作方法和显示面板

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103926742A (zh) * 2013-12-31 2014-07-16 上海天马微电子有限公司 一种彩膜基板以及液晶显示面板
CN106842678A (zh) * 2017-02-13 2017-06-13 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、显示面板及显示装置
WO2018223765A1 (zh) * 2017-06-07 2018-12-13 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法、显示面板和显示装置

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