CN112796060B - 一种服装表面处理设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种服装表面处理设备，本发明在使用时，将基板下表面敷在服装表面上，各个光罩的下表面与服装表面接触，光罩对服装表面进行压迫，开启光源区域中的各个光源，光源出射的光经过增透膜后照射在耦出区域的各个阵列反射波导上，光通过耦出区域的阵列反射波导耦出后向下照射，并透出光罩，光罩上所覆盖的调光层能够对通过的光的强度进行衰减调整；独立控制的调光层可以自动、快速地调整高温区域的光罩通过的光能量；耦出的光照射向光罩的方向并从光罩透出照射在服装表面上，照射在服装表面的光产生热效应，从而将服装表面上的瑕疵灼烧掉，实现了对服装表面的瑕疵、浮毛的处理。

Description

一种服装表面处理设备
技术领域
本发明涉及服装处理技术领域，具体涉及一种服装表面处理设备。
背景技术
在服装生产过程中，很多时候不可避免地会在服装表面上造成一些不平整瑕疵：例如浮毛、浮线等。目前对于这些瑕疵的处理，多采用剃毛器的方式来进行剃毛处理。有时会采用灼烧的方式进行处理，在灼烧方式中，一般采用明火对服装表面快速掠过。在剃毛器的处理方式中，由于剃毛器内存在刀片，在刀片刮过服装表面时，容易损坏服装表面；在明火处理方式中，由于火焰温度难以控制，掠过服装表面速度时间难以控制，也会有可能损坏服装表面。
发明内容
针对现有技术中的缺陷，本发明提供一种服装表面处理设备，能够对服装表面进行均匀地灼烧处理，并且本发明所输出的光能量可控，可根据服装材质的情况来调整到合适的输出光能量。
一种服装表面处理设备，包括基板，所述基板上设有多个分区，所述分区上设有突出于基板下表面的光罩，所述光罩表面为球面或椭球面；
所述基板内设有光学板，所述光学板包括从左往右依次排布的耦出区域、增透膜和光源区域，所述耦出区域、和光源区域均由透明材料制成，所述增透膜设置在所述耦出区域和光源区域相接的界面上；
所述光源区域设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源，所述光源向左照射透出光源区域和所述增透膜后照射在所述耦出区域中，各个所述光源的主光轴互相平行；
所述耦出区域中并列平行设置多个阵列反射波导，所述阵列反射波导数量与所述光源数量相等，所述阵列反射波导的长度方向平行于光源的主光轴，各个所述光源的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导，各光源出射的光耦入对应的所述阵列反射波导中；
所述光罩所罩的基板部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板的耦出区域的表面，通光孔处还设有散焦透镜；各所述光罩上覆盖有调光层，所述调光层由一个或多个液晶电控调光膜构成，不同光罩的调光层的控制相互独立；
所述基板下表面还设有多个温度探测器，各个光罩边缘处设置至少一个所述温度探测器，所述温度探测器与其最近的所述调光层连接，温度探测器探测服装表面温度达到预设值时，对应位置处的所述调光层转换为散射状态。
进一步的，
所述液晶电控调光膜采用PDLC调光膜。
进一步的，
所述调光层由多个液晶电控调光膜重叠构成，所述温度探测器的触发值包括多个温度预设值，各温度预设值对应触发不同数量的液晶电控调光膜；温度预设值越高，触发的液晶电控调光膜的数量越多。
进一步的，
所述光源的出射光束为准直光束。
进一步的，
所述光源的出射光谱中包括有紫外光。
进一步的，
多个所述分区为互相独立的板块，所述基板包括有骨骼框架，所述分区可拆卸安装在骨骼框架上。
进一步的，
所述光罩和所述分区一体成型。
进一步的，
所述光罩采用玻璃制成，且熔融一体成型在所述分区上，所述分区采用高分子材料制成。
本发明的有益效果体现在：本发明在使用时，将基板下表面覆盖在服装表面上，快速地在服装表面进行来回压迫搓动，各个光罩的下表面与服装表面接触，光罩对服装表面进行压迫，开启光源区域中的各个光源，光源出射的光经过增透膜后照射在耦出区域的各个阵列反射波导上，光耦入阵列反射波导内进行全反射传播，阵列反射波导作用在于将在其内部全反射传播的光不断从侧面耦出，耦出的光照射向光罩的方向并从光罩透出照射在服装表面上，照射在服装表面的光产生热效应，从而将服装表面上的瑕疵灼烧掉，实现了对服装表面的瑕疵、浮毛的处理。
本发明在使用过程中，各个构造的效果在于：
通过多个分区上的光罩对服装的均匀地进行大范围照射，能够增大对服装的照射面积；
球面或椭球面的光罩能够使得与服装表面接触的光罩表面不会存在棱角伤害服装表面的情况；
基板可采用不透明材料制成，不透明的基板使得光只能从光罩透出，防止了基板四处散光导致的光污染，也避免了对不必处理的部位进行照射；
基板内部设置的空腔中安装光学板，光源出射的光依次透过光源区域、增透膜、耦出区域，采用透明材料制成的光源区域、增透膜、耦出区域能够一定程度防止光能量的浪费。一些没有耦入阵列反射波导的光线也能够透射透明的光源区域、增透膜、耦出区域，并且这些没有耦入阵列反射波导的光透过三个区域后能够一定程度地从光罩向外照射，这样能够一定程度地避免光源的光能量的浪费；
通过增透膜，光源出射的光能够以更高的透射率透过光源区域进入耦出区域，提升进入耦出区域的光能量，有效降低光源区域和耦出区域界面之间的端面反射；
光通过耦出区域的阵列反射波导耦出后向下照射，并透出光罩，光罩上所覆盖的调光层能够对通过的光的强度进行衰减调整；具体的，调光层由液晶电控调光膜构成，不同光罩的调光层的控制相互独立，当某个光罩旁侧的温度探测器探测到此处光罩下方的服装表面温度达到预设值时，则该处的调光层触发，调光层转换为散射状态，对此位置的光罩通过的光进行衰减，从而降低照射在此处服装表面的光的强度，防止灼伤服装表面，温度预设值可根据服装的材料而设定，独立控制的调光层可以自动、快速地调整高温区域的光罩通过的光能量，可以针对性地只调节照射在服装的高温区域上的光能量，不会降低照射在服装其他区域的光能量；
调光层的转换状态包括透明和部分透明两种状态；一般的，液晶电控调光膜可采用PDLC薄膜，其透明和部分透明两种状态对应的是透射或散射的两种状态。当某层液晶电控调光膜处于透射状态时，光线能够透过该层液晶电控调光膜直接透射，不会发生衰减；当某层液晶电控调光膜处于散射状态时，光线则会在该层液晶电控调光膜上发生散射，光线不会完全透射过该层液晶电控调光膜，会存在一定的光能量衰减；
阵列反射波导的长度方向平行于光源的主光轴，并且各个所述光源的主光轴互相平行，阵列反射波导与光源的数量也相同，因此每个光源出射的光均能够单独耦入其对应的阵列反射波导内，防止有些阵列反射波导无法接收到光；
通过阵列反射波导，阵列反射波导内阵列排布的半反半透界面能够将光源出射的单束光变为多束光耦出，节省了光源的数量，只用单个光源便可实现一个方向的大范围照射；这样便可以均匀地将光能量分布在服装表面上，防止某区域的光能量过大而烧坏服装；
在阵列反射波导将其内部全反射的光耦出的过程中，光源出射的光耦入阵列反射波导后全反射传播，向下耦出的光中能够进入光罩范围的光从光罩处透出，设置在光罩里的散焦透镜能够对通过的光进行散焦，以实现更大的照射范围，从而增大从光罩出射的光的发散角，以实现更高的辐照灼烧效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
图1为本发明主要结构示意图；
图2为本发明的内部结构示意图；
图3为本发明部分结构示意图；
图4为本发明部分结构示意图；
图5为图4在实际工作中的一种光路大致示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本发明的保护范围。
需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域技术人员所理解的通常意义。
实施例一：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；
如图2所示，所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、和光源区域203均由透明材料制成，所述增透膜202设置在所述耦出区域201和光源区域203相接的界面上；
如图3所示，所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203和所述增透膜202后照射在所述耦出区域201中，各个所述光源204的主光轴互相平行；
如图4和图5所示，所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011，各光源204出射的光耦入对应的所述阵列反射波导2011中；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103；各所述光罩102上覆盖有调光层104，所述调光层104由一个或多个液晶电控调光膜构成，不同光罩102的调光层104的控制相互独立；所述基板1下表面还设有多个温度探测器105，各个光罩102边缘处设置至少一个所述温度探测器105，所述温度探测器105与其最近的所述调光层104连接，温度探测器105探测服装表面温度达到预设值时，对应位置处的所述调光层104转换为散射状态。
本实施例在使用时，将基板1下表面覆盖在服装表面上，快速地在服装表面进行来回压迫搓动，各个光罩102的下表面与服装表面接触，光罩102对服装表面进行压迫，开启光源区域203中的各个光源204，光源204出射的光经过增透膜202后照射在耦出区域201的各个阵列反射波导2011上，光耦入阵列反射波导2011内进行全反射传播，阵列反射波导2011作用在于将在其内部全反射传播的光不断从侧面耦出(参照图4和图5，光的耦出示意图可以是如图5所示)，耦出的光照射向光罩102的方向并从光罩102透出，光通过调光层104的调光后照射在服装表面上，调光层104能够对通过的光实现一定程度的衰减，照射在服装表面的光产生热效应，从而将服装表面上的瑕疵灼烧掉，实现了对服装表面的瑕疵、浮毛的处理。
在使用过程中，通过多个分区101上的光罩102对服装的均匀地进行大范围照射，能够增大对服装的照射面积。
球面或椭球面的光罩102能够使得与服装表面接触的光罩102表面不会存在尖锐棱角伤害服装表面。
基板1可采用不透明材料制成，不透明的基板1使得光只能从光罩102透出，防止了基板1四处散光导致的光污染，也避免了对不必处理的部位进行照射。
基板1内部设有空腔，光学板2固定在空腔内，光源204出射的光依次透过光源区域203、增透膜202、耦出区域201，采用透明材料制成的光源区域203、增透膜202、耦出区域201能够一定程度防止光能量的浪费。一些没有耦入阵列反射波导2011的光线、或在界面处发生散射反射的光线也能够透射透明的光源区域203、增透膜202、耦出区域201，并且这些没有耦入阵列反射波导2011的光透过三个区域后能够一定程度地从光罩102向外照射，这样能够一定程度地避免光源204的光能量的浪费。
光源204可采用激光器，其热效应较佳，容易对服装表面进行灼烧处理。
如图3所示，通过增透膜202，光源204出射的光能够以更高的透射率透过光源区域203进入耦出区域201，提升进入耦出区域201的光能量，有效降低光源区域203和耦出区域201之间界面的端面反射；同时，对光源区域203和耦出区域201做分离结构的设计，有便于后续维护更换光源区域203和耦出区域201；
如图4所示，光通过耦出区域201的阵列反射波导2011耦出后向下照射，并透出光罩102，光罩102上所覆盖的调光层104能够对通过的光的强度进行衰减调整；具体的，调光层104由液晶电控调光膜构成，不同光罩102的调光层104的控制相互独立，当某个光罩102旁侧的温度探测器105探测到此处光罩102下方的服装表面温度达到预设值时，则该处的调光层104触发，调光层104转换为散射状态，对此位置的光罩102通过的光进行衰减，从而降低照射在此处服装表面的光的强度，防止灼伤服装表面，温度预设值可根据服装的材料而设定，例如有些材料达到50°时会被损坏，则温度预设值设定为50°。
独立控制的调光层104能够独立地控制对服装表面不同区域照射的光能量，使得工作过程更为灵活，可以针对性地只调节照射在服装的高温区域上的光能量，不会降低照射在服装其他区域的光能量。在一些应用场景中，当对服装表面某区域进行来回多次辐照处理时，基板1在服装表面某个大区域内重复游走时，此时来回游走的中部区域会被持续照射，边缘会不断交替地暴露在空气中，被持续照射的中部区域的温度升高较快，时而暴露在空气中的边缘区域可以备受降温，此时通过独立控制的调光层104，便可自动、快速地调整高温区域的光罩102通过的光能量。
调光层104的转换状态包括透明和部分透明两种状态；一般的，液晶电控调光膜可采用PDLC薄膜，其透明和部分透明两种状态对应的是透射或散射的两种状态。当某层液晶电控调光膜处于透射状态时，光线能够透过该层液晶电控调光膜直接透射，不会发生衰减；当某层液晶电控调光膜处于散射状态时，光线则会在该层液晶电控调光膜上发生散射，光线不会完全透射过该层液晶电控调光膜，会存在一定的光能量衰减。
阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，并且各个所述光源204的主光轴互相平行，阵列反射波导2011与光源204的数量也相同，因此每个光源204出射的光均能够单独耦入其对应的阵列反射波导2011内，防止有些阵列反射波导2011无法接收到光。
通过阵列反射波导2011，阵列反射波导2011内阵列排布的半反半透界面能够将光源204出射的单束光变为多束光耦出，节省了光源的数量，只用单个光源便可实现一个方向的大范围照射。一般的，选用均匀耦出的阵列反射波导，其各个耦出区域的耦出能量比例相同，这样便可以均匀地将光能量分布在服装表面上，防止某区域的光能量过大而烧坏服装。
在阵列反射波导2011将其内部全反射的光耦出的过程中，参照图4和图5，光源204出射的光耦入阵列反射波导2011后全反射传播，在图5中横向向左的带箭头直线代表全反射传播的光的宏观传播方向(其实际光路并非是笔直向左传播，而是以全反射的方式在阵列反射波导2011内传播，但宏观的传播方向为向左)；照射在阵列反射波导2011内的半反半透界面上的光被向下耦出，向下指向的带箭头实现表示被耦出的光的宏观传播方向，其实际光路并非是笔直向下，耦出NA(数值孔径)由耦入NA决定。向下耦出的光中能够进入光罩102范围的光从光罩102处透出，设置在光罩102里的散焦透镜103能够对通过的光进行散焦，以实现更大的照射范围，从而增大从光罩102出射的光的发散角，以实现更高的辐照灼烧效率。
在光学板2的构造中，耦出区域201、增透膜202和光源区域203可以是独立的三块板体，三者互相拼接安装或者采用一体成型工艺合成。也可以是光学板2包括有框架，耦出区域201、增透膜202和光源区域203安装在框架上的对应位置处。
实施例二：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。所述液晶电控调光膜采用PDLC调光膜。
在本实施例中，PDLC调光膜的材料为聚合物分散液晶，又称为PDLC(polymerdispersed liquid crystal)，是液晶以微米量级的小微滴分散在有机固态聚合物基体内，由于由液晶分子构成的小微滴的光轴处于自由取向，其折射率与基体的折射率不匹配，当光通过基体时被微滴强烈散射而呈不透明的乳白状态或半透明状态。施加电场可调节液晶微滴的光轴取向，当两者折射率相匹配时，呈现透明态。除去电场，液晶微滴又恢复最初的散射状态，在散射状态时整个薄膜为半透明状态，能够一定程度地对光源204出射的光进行衰减。通过多个PDLC调光膜的重叠设置，便可实现不同的衰减程度，根据需要控制一个或多个PDLC调光膜即可。
实施例三：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。液晶电控调光膜可采用PDLC调光膜。
在本实施例中，所述调光层104由多个液晶电控调光膜重叠构成，所述温度探测器105的触发值包括多个温度预设值，各温度预设值对应触发不同数量的液晶电控调光膜；温度预设值越高，触发的液晶电控调光膜的数量越多。
通过多个液晶电控调光膜重叠构成调光层104，能够多级调节通过光罩102的光的衰减程度，在一些应用场景中，一些服装的最高耐受温度对应所有液晶电控调光膜处于散射状态，对光进行最大程度的衰减；当温度下降到低于最高温度的下一个预设值时，则转换其中一个液晶电控调光膜处于透射状态，对光的透射率提高一个级次；当温度再下降到下一个预设值时，同理再转换其中一个液晶电控调光膜处于透射状态，此时两个液晶电控调光膜处于透射状态；以此类推。通过这种方式，能够多级调节通过光罩102的光能量；一方面能够有效防止服装表面被灼坏；一方面能够渐进式地调整光能量，不会在服装表面达到高温时大量衰减光能量，而是可以使得温度不会灼坏服装表面的同时，也能有足够的光能量对服装表面进行有效地灼烧处理。
实施例四：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。液晶电控调光膜可采用PDLC调光膜。调光层104可由多个液晶电控调光膜重叠构成，温度探测器105的触发值包括多个温度预设值，各温度预设值对应触发不同数量的液晶电控调光膜；温度预设值越高，触发的液晶电控调光膜的数量越多。
在本实施例的光源区域203中，光源区域203中的光源204的出射光束为准直光束，光源204出射的光能够准直入射并耦入阵列反射波导2011中。
光源204的出射光束为准直光束，能够防止有光向其他方向照射造成光能量浪费，光源204出射的光能够准直、准确地进入对准的阵列反射波导2011内。
实施例五：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。
液晶电控调光膜可采用PDLC调光膜。在本实施例的光源区域203中，光源区域203中的光源204的出射光束可以是准直光束，光源204出射的光能够准直入射并耦入阵列反射波导2011中。
本实施例中，所述光源204的出射光谱中包括有紫外光，紫外光成分能够对服装表面进行杀菌处理，在对服装表面瑕疵浮毛的处理的同时，能够实现对服装进行杀菌处理。
实施例六：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。液晶电控调光膜可采用PDLC调光膜。光源区域203中的光源204的出射光束可以是准直光束，光源204的出射光谱中可以包括有紫外光。
在本实施例中，如图1所示，多个所述分区101为互相独立的板块，所述基板1包括有骨骼框架，所述分区101可拆卸安装在骨骼框架上。若某个光罩102出现问题，在需要维修或更换该光罩102时，只需要拆下该分区101即可，无需拆换整个基板1。
实施例七：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。
液晶电控调光膜可采用PDLC调光膜。光源区域203中的光源204的出射光束可以是准直光束，光源204的出射光谱中可以包括有紫外光。
多个所述分区101可以是互相独立的板块，所述基板1包括有骨骼框架，所述分区101可拆卸安装在骨骼框架上。
本实施例中，特别的，光罩102和所述分区101一体成型。
本实施例可以使得光罩102在分区101上的固定更加牢固，并且通过一体成型的方式将光罩102和分区101合为一体，能够使得光罩102和分区101之间的相接点更为平滑，防止有尖锐的结合点损坏服装表面。
实施例八：
本实施例提出一种服装表面处理设备，如图1～4所示，包括基板1，所述基板1上设有多个分区101，所述分区101上设有突出于基板1下表面的光罩102，所述光罩102表面为球面或椭球面；所述基板1内设有光学板2，所述光学板2包括从左往右依次排布的耦出区域201、增透膜202和光源区域203，所述耦出区域201、增透膜202和光源区域203均由透明材料制成；所述光源区域203设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源204，所述光源204向左照射透出光源区域203后照射在所述增透膜202上，各个所述光源204的主光轴互相平行；所述增透膜202内部设有多张重叠的液晶电控调光膜，每张所述液晶电控调光膜的调光状态为透明和部分透明两种状态，所述液晶电控调光膜的表面与所述光源204的主光轴相互垂直；所述耦出区域201中并列平行设置多个阵列反射波导2011，所述阵列反射波导2011数量与所述光源204数量相等，所述阵列反射波导2011的长度方向平行于光源204的主光轴，各个所述光源204的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导2011；所述光罩102所罩的基板1部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板2的耦出区域201的表面，通光孔处还设有散焦透镜103。
液晶电控调光膜可采用PDLC调光膜。光源区域203中的光源204的出射光束可以是准直光束，光源204的出射光谱中可以包括有紫外光。
多个所述分区101可以是互相独立的板块，所述基板1包括有骨骼框架，所述分区101可拆卸安装在骨骼框架上。
光罩102和所述分区101优选可采用一体成型制成为一个整体。
本实施例中，优选的，所述光罩102采用玻璃制成，且熔融一体成型在所述分区101上，所述分区101采用高分子材料制成。玻璃制成的光罩102能够保证足够的透射率，高分子材料的分区101的强度足够大，并且高分子材料和玻璃之间较易进行一体成型工艺，两者均可在高温下融化，两者在高温融化状态时相互接合即可。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本发明的权利要求和说明书的范围当中。

Claims (6)

1.一种服装表面处理设备，其特征在于：包括基板(1)，所述基板(1)上设有多个分区(101)，所述分区(101)上设有突出于基板(1)下表面的光罩(102)，所述光罩(102)表面为球面或椭球面；
所述基板(1)内设有光学板(2)，所述光学板(2)包括从左往右依次排布的耦出区域(201)、增透膜(202)和光源区域(203)，所述耦出区域(201)、和光源区域(203)均由透明材料制成，所述增透膜(202)设置在所述耦出区域(201)和光源区域(203)相接的界面上；
所述光源区域(203)设有多个内陷凹槽，各凹槽中均插入固定一个光源(204)，所述光源(204)向左照射透出光源区域(203)和所述增透膜(202)后照射在所述耦出区域(201)中，各个所述光源(204)的主光轴互相平行；
所述耦出区域(201)中并列平行设置多个阵列反射波导(2011)，所述阵列反射波导(2011)数量与所述光源(204)数量相等，所述阵列反射波导(2011)的长度方向平行于光源(204)的主光轴，各个所述光源(204)的主光轴一一对准各个所述阵列反射波导(2011)，各光源(204)出射的光耦入对应的所述阵列反射波导(2011)中；
所述光罩(102)所罩的基板(1)部分开有通光孔，所述通光孔连通至所述光学板(2)的耦出区域(201)的表面，通光孔处还设有散焦透镜(103)；各所述光罩(102)上覆盖有调光层(104)，所述调光层(104)由一个或多个液晶电控调光膜构成，不同光罩(102)的调光层(104)的控制相互独立；
所述基板(1)下表面还设有多个温度探测器(105)，各个光罩(102)边缘处设置至少一个所述温度探测器(105)，所述温度探测器(105)与其最近的所述调光层(104)连接，温度探测器(105)探测服装表面温度达到预设值时，对应位置处的所述调光层(104)转换为散射状态；
所述液晶电控调光膜采用PDLC调光膜；
所述调光层(104)由多个液晶电控调光膜重叠构成，所述温度探测器(105)的触发值包括多个温度预设值，各温度预设值对应触发不同数量的液晶电控调光膜；温度预设值越高，触发的液晶电控调光膜的数量越多。
2.根据权利要求1所述的一种服装表面处理设备，其特征在于：
所述光源(204)的出射光束为准直光束。
3.根据权利要求2所述的一种服装表面处理设备，其特征在于：
所述光源(204)的出射光谱中包括有紫外光。
4.根据权利要求3所述的一种服装表面处理设备，其特征在于：
多个所述分区(101)为互相独立的板块，所述基板(1)包括有骨骼框架，所述分区(101)可拆卸安装在骨骼框架上。
5.根据权利要求4所述的一种服装表面处理设备，其特征在于：
所述光罩(102)和所述分区(101)一体成型。
6.根据权利要求5所述的一种服装表面处理设备，其特征在于：
所述光罩(102)采用玻璃制成，且熔融一体成型在所述分区(101)上，所述分区(101)采用高分子材料制成。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106436121A (zh) * 2016-08-31 2017-02-22 浙江中屹纺织机械科技有限公司 一种西服面料的高效烧毛机
CN109416432A (zh) * 2016-05-12 2019-03-01 奇跃公司 成像波导上的分布式光操纵
CN111045146A (zh) * 2019-11-08 2020-04-21 深圳奥比中光科技有限公司 一种光栅型光波导及其光传播调控方法
CN111195774A (zh) * 2020-01-09 2020-05-26 西安工程大学 一种胚布激光烧毛系统及方法
CN211494741U (zh) * 2019-11-18 2020-09-15 沈阳醛净时代科技有限公司 一种无纺布包装封口设备
CN111965813A (zh) * 2020-08-13 2020-11-20 上海慧希电子科技有限公司 光学器件、系统及光学设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109416432A (zh) * 2016-05-12 2019-03-01 奇跃公司 成像波导上的分布式光操纵
CN106436121A (zh) * 2016-08-31 2017-02-22 浙江中屹纺织机械科技有限公司 一种西服面料的高效烧毛机
CN111045146A (zh) * 2019-11-08 2020-04-21 深圳奥比中光科技有限公司 一种光栅型光波导及其光传播调控方法
CN211494741U (zh) * 2019-11-18 2020-09-15 沈阳醛净时代科技有限公司 一种无纺布包装封口设备
CN111195774A (zh) * 2020-01-09 2020-05-26 西安工程大学 一种胚布激光烧毛系统及方法
CN111965813A (zh) * 2020-08-13 2020-11-20 上海慧希电子科技有限公司 光学器件、系统及光学设备

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