CN112684527B

CN112684527B - 一种反射镜、镜头及激光投影设备

Info

Publication number: CN112684527B
Application number: CN202011592893.5A
Authority: CN
Inventors: 阴亮
Original assignee: Qingdao Hisense Laser Display Co Ltd
Current assignee: Qingdao Hisense Laser Display Co Ltd
Priority date: 2020-12-29
Filing date: 2020-12-29
Publication date: 2023-04-21
Anticipated expiration: 2040-12-29
Also published as: CN112684527A

Abstract

本发明公开了一种反射镜、镜头及激光投影设备，能够防止激光投影设备在工作的过程中反射镜出现热变形的现象。该反射镜包括基底和覆于基底的金属反射层，金属反射层的厚度为40nm～70nm。该反射镜用于激光投影设备的镜头中。

Description

一种反射镜、镜头及激光投影设备

技术领域

本发明涉及激光投影设备技术领域，尤其涉及一种反射镜、镜头及激光投影设备。

背景技术

超短焦投影设备具有投影距离要求小、安装方便，节省空间的优势，使得超短焦投影技术逐渐成为投影市场的热点。

超短焦镜头是超短焦投影设备实现超短焦投影的主要部件。超短焦镜头包括处于同一主光轴的折射镜和反射镜。投影光束经过折射镜折射后，在折射镜和反射镜之间进行第一次成像，反射镜将第一次成像反射至投影屏幕形成第二次成像，即可在投影屏幕上成像。

超短焦镜头中的反射镜包括基底和涂覆于基底上的金属反射层。现有技术中，金属反射层的厚度一般不小于100μm。此时，由于金属反射层的厚度较厚，使得反射镜在在反射投影光线时，金属反射层的膜层内部吸收的热量较多，导致基底出现受热变形的现象，进而导致反射镜反射至投影屏幕上的二次成像的出现色彩不均匀的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种反射镜、镜头及激光投影设备，能够防止反射镜中的基底出现热变形的现象。

为了实现上述目的，本发明提供了一种反射镜。该反射镜包括基底和涂覆于基底的金属反射层，所述金属反射层的厚度为40nm～70nm。

本发明提供的反射镜中，厚度为40nm～70nm的金属反射层的反射率与现有技术中厚度为100nm的金属反射层的金属反射率相同，使得本发明提供的金属反射层的反射吸收与现有技术中厚度为100nm的金属反射层的反射吸收相同。

同时，相对于现有技术中金属反射层的厚度为100nm，本发明实施例提供的金属反射层的厚度为40nm～70nm，使得反射镜用于激光投影镜头中来反射投影光线时，金属反射层的膜层内部吸收大幅度减小，从而可以进一步降低金属反射层的反射吸收。

由此可知，本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为40nm～70nm，能够减小金属反射层的反射吸收和膜层内部吸收，使得金属反射层在反射投影光线时吸收的热量降低，从而可以防止基底出现受热变形的现象，保证激光投影设备投射到投影屏幕上的投影色彩均匀性较好。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为相关技术中，激光投影设备的使用示意图；

图2为本发明实施例提供的激光投影设备的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的镜头的光学结构示意图；

图4为本发明实施例提供的反射镜的结构示意图之一；

图5为本发明实施例提供的介质层的结构示意图之一；

图6为本发明实施例提供的反射镜的结构示意图之二；

图7为本发明实施例提供的介质层的结构示意图之二；

图8为本发明实施例提供的反射镜的结构示意图之三；

图9为本发明实施例提供的反射镜的结构示意图之四；

图10为本发明实施例提供的反射镜为凸面非球面反射镜时，凸面非球面反射镜的工作场景图；

图11为本发明实施例提供的反射镜为凹面非球面反射镜时，凹面非球面反射镜的工作场景图；

图12为本发明实施例一提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图12中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图13为本发明实施例二提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图13中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图14为本发明实施例三提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图，其中，图14中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图15为本发明实施例四提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图15中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图16为本发明实施例五提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图16中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图17为本发明实施例六提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图17中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图18为本发明实施例七提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图18中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图19为本发明实施例八提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图19中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图20为本发明实施例九提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图20中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图21为本发明实施例十提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图21中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线；

图22为本发明实施例十一提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图22中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60时的反射曲线；

图23为本发明实施例十二提供的反射镜中反射膜的反射率测试结果图；其中，图23中的线条A为反射膜的入射角为15°时的反射率曲线，线条B为反射膜入射角为30°时的反射曲线，线条C为反射膜入射角为60°时的反射曲线。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

激光投影设备是一种采用激光光源作为显示光源，并配合投影显示技术成像，配备专用投影屏幕的投影设备。图1示出了激光投影设备的使用示意图。参见图1，激光投影设备A将成像后的激光光束投射至投影屏幕B上，即可使得激光光束能够显示激光投影设备A投射的图像。

参见图1，上述投影屏幕B为光学屏幕。

参见图2，激光投影设备A包括整机壳体(图中未示出)。并且，按照光学功能部分，激光投影设备A还包括整机壳体中的光源A1，光机A2，以及镜头A3，且光源A1、光机A2和镜头A3沿着光束传播方向依次连接。

作为一种可能的实现方式，光机A2和镜头A3连接且沿着整机第一方向设置，比如第一方向可以为整机的宽度方向，或者按照使用方式，第一方向与用户观看的方向相对。光源A1位于光机A2、镜头A3和一部分整机机壳围合的空间内。在此情况下，参见图2，光源A1、光机A2和镜头A3呈“L”型排列，其中光机A2和镜头A3沿“L”型的长边方向排列设置，光源A1沿着“L”型的短边方向设置。

此时，激光投影设备在工作时，光源A1能够向光机A2提供激光光束。光机A2能够将光源A1提供的激光光束进行调制得到影像光束，并将影像光束投影到镜头A3上，使得影像光束穿过镜头A3在投影屏幕上进行成像。

目前，随着激光投影技术的逐渐进步，短焦投影设备的逐渐成为投影市场的热点。超短焦镜头是超短焦投影设备实现超短焦投影的主要部件。参见图3，超短焦镜头包括处于同一主光轴的折射镜A31和反射镜A32。投影像光束经过折射镜A31折射后，在折射镜A31和反射镜A32之间进行第一次成像，反射镜A32将第一次成像反射至投影屏幕形成第二次成像，即可在投影屏幕上成像。

超短焦镜头中的反射镜A32包括塑胶基底100和涂覆于塑胶基底100上的金属反射层200。现有技术中，金属反射层200的厚度一般不小于100μm。但是，由于金属反射层200厚度较厚，会使得金属反射层200在反射影像光束时会吸收较多的热量，导致塑胶基底100出现受热变形的现象，进而导致反射镜A32投射在投影屏幕上的投影颜色出现误差。

为了防止反射镜A32的基底100出现热变形的现象，本发明实施例提供了一种反射镜。参见图4～图9，上述反射镜包括基底100和涂覆于基底100上的金属反射层200，且金属反射层200的厚度为40nm～70nm。

与现有技术相比，本发明实施例提供的反射镜中，厚度为40nm～70nm的金属反射层200的反射率与现有技术中厚度为100nm的金属反射层200的反射率相同，使得本发明提供的金属反射层200的反射吸收与现有技术中厚度为100nm的金属反射层200的反射吸收相同。

同时，相对于现有技术中金属反射层200的厚度为100nm，本发明实施例提供的金属反射层200的厚度为40nm～70nm，使得反射镜用于激光投影镜头反射投影光线时，金属反射层200的膜层内部吸收大幅度减小，从而可以进一步降低金属反射层的吸收的热量。

由此可知，本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层反射吸收和膜层内部吸收均较小，使得金属反射层在反射投影光线时吸收的热量降低，从而可以防止基底出现受热变形的现象，保证激光投影设备投射到投影屏幕上的投影色彩均匀性较好。

可以理解的是，上述反射镜A32中基底100的材质可以根据实际情况进行选择，在此不做限定。

例如：上述基底100可以为玻璃基底。

上述基底100也可以为橡胶基底。此时，基底的成本较低，从而可以减小反射镜的生产成本。

上述金属反射层200的材质在此不做限定，只要金属反射层200具有较高的反射率即可。

例如：上述金属反射层200可以为铝反射层、银反射层或者镍反射层。此时，上述金属反射层200的反射率最低为85％，从而可以进一步降低金属反射层200的反射吸收。

可以理解的是，上述金属反射层200的入射角可以根据情况进行选择。例如：金属反射层200的入射角为10°～60°。

需要说明的是，上述反射镜A32的形状不影响本发明效果的实现，因此，反射镜A32的形状在此不做限定。

例如：参见图6，上述反射镜A32可以为平面反射镜。此时，基底100具有平面，且金属反射层200涂覆于基底100的平面上，且金属反射层200也为平面结构。

参见图4，上述反射镜A32还可以为曲面反射镜。此时，基底100具有曲面，且金属反射层200涂覆于基底100的曲面上。

当反射镜A32为曲面反射镜时，上述反射镜A32可以为凹面非球面反射镜和凸面非球面反射镜。

若反射镜A32为凸面非球面反射镜时，上述基底100上的曲面也为凸面非球面。参见图10，当上述反射镜A32为凸面非球面反射镜时，折射镜A31能够将影像光束进行第一次成像，并将第一次成像入射至反射镜A32；反射镜A32能够将第一次成像反射至投影屏幕B的表面。

若反射镜A32为凹面非球面反射镜时，上述基底100上的曲面也为凹面非球面。此时，反射镜A32的凹面非球面的曲面方程为：

其中，C为反射镜A32的凹面非球面的曲率，且C＝2.56893170×10^-2；H为反射镜A32的凹面非球面上的点与光轴之间的距离；k表示反射镜A₃₂的凹面非球面的圆锥系数，且k＝-3.95065729×10⁰；A₄为反射镜A32的凹面非球面的四次非球面系数，且A₄＝4.6809535710×^-6；A₆为反射镜A32的凹面非球面的六次非球面系数，且A₆＝-2.16706399×10^-9；A₈为反射镜A32的凹面非球面的八次非球面系数，且A₈＝5.300738684×10^-13；A₁₀反射镜A32的凹面非球面的十次非球面系数，且A₁₀＝3.40759897×10^-16；A₁₂反射镜A32的凹面非球面的十二次非球面系数，且A₁₂＝-3.599634309×10^-19。

参见图11，当上述反射镜A32为凹面非球面反射镜时，折射镜A31将影像光束进行第一次成像，并将第一次成像入射至反射镜；反射镜A32能够将第一次成像反射至投影屏幕B的表面。

在一些实施例中，参见图4～图9，为了进一步提高反射镜的反射率，以降低反射镜的反射吸收，上述反射镜A32上还设有介质层300，介质层300设于金属反射层200远离基底100的一侧，且介质层300为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的偶数膜层结构，且第一折射膜层310的折射率小于第二折射膜层320。

当上述介质层300为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的偶数膜层结构，且第一折射膜层310的折射率小于第二折射膜层320，使得介质层300和金属反射层200能够组成金属电介质反射膜，从而可以提高反射镜A32的反射率，降低反射镜A32的反射吸收。

需要说明的是，上述介质层300的膜层数量可以根据实际情况进行选择，例如：参见图4～图9，上述介质层300可以为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠的八膜层结构；上述介质层300还可以为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠的六膜层结构；上述介质层300也可以为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠两次而成的四膜层结构。

当介质层300为四膜层结构、六膜层结构和八膜层结构时，能够使得反射膜200具有较高的反射率，同时还能够方便介质层300的蒸镀，只需要进行四次蒸镀、六次蒸镀或者八次蒸镀即可完成介质层300的蒸镀。

并且当反射镜A32为曲面反射镜时，介质层300的多个膜层蒸镀的次数较少，能够减小蒸镀得到的介质层300的不同位置的厚度误差，使得反射镜A32不同位置的反射率的差异降低，进而能够进一步提高反射镜A32反射至投影屏幕上的图像的色彩均匀性。

当上述介质层300为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的偶数膜层结构时，上述第一折射膜层310的材料和第二折射膜层320的材料可以根据实际情况进行选择，只要第一折射膜层310的折射率小于第二折射膜层320的折射率即可。

例如：上述第一折射膜层310可以为二氧化硅层、一氧化硅层或氟化镁层，此时，第一折射膜的折射率较小。

上述第二折射膜层320可以为五氧化三钛层、二氧化钛层或硫化锡层。此时，第二折射膜层320的折射率较高。

需要说明的是，当上述介质层300的膜层数量相同的情况下，第二折射膜层320的折射率与第一折射膜层310的折射率之比越大，反射膜200的反射率越高。为了进一步提高反射镜A32的反射率nd2，第二折射膜层320的折射率nd2与第一折射膜层310的折射率nd1之比为：1＜(nd2：nd1)≤3.5。

需要说明的是，当介质层300为由第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的偶数膜层结构时，上述第一折射膜层310的厚度和第二折射膜层320的厚度均可以根据实际情况进行选择。

例如：介质层300中，与金属反射层200相贴的第一折射膜层310的厚度为80nm～120nm，此时，本发明提供的反射镜A32中的反射膜200能够选择性提高反射反射镜对红色光线、蓝色光线和绿色光线的反射率，使得本发明实施例提供的发射镜的反射膜200反射到投影屏幕上的图像亮度更高。

其余的第一折射膜层310的厚度均为20nm～150nm，第二折射膜层320的厚度为20nm～150nm。

作为一种实施例，参见图4～图9，上述反射膜200还包括有机氟材料层400，有机氟材料层400设于介质层300远离金属反射层200的一侧。此时，有机氟材料层400能够防止空气和水进入至介质层300和金属反射层200中，能够防止金属反射层200或者介质层300中的材料发生氧化或者腐蚀现象，保证金属反射层200和介质层300的化学稳定性，进而可以使得反射膜200能够持续维持较高的反射率。

需要说明的是，上述有机氟材料层400的具体材质不影响发明目的的实现，因此，上述有机氟材料层400的具体材质在此不做限定。

例如：上述有机氟材料层400为二氟代甲基-丙烷、九氟代-丁烷和含氟聚合物的混合物层。其中，二氟代甲基-丙烷、九氟代-丁烷和含氟聚合物的质量比为50：30：20。

上述有机氟材料层400的厚度一般根据实际情况选择即可，只要有机氟材料层400能够防止氧气和水分子渗透至介质层300和金属反射层200即可。例如：上述有机氟材料层400的厚度为1nm～2nm。

作为一种可能的实现方式，参见图4～图9，上述反射膜200还包括金属氧化物层500，且金属氧化物层500位于基底100与金属反射层200之间。此时，由于金属氧化物层500与基底100和金属反射层200之间均具有较高的粘合力，因此，金属氧化物层500能够提高金属反射层200在基底100上的附着力，提高反射膜200在基底100上粘接的可靠性。

需要说明的是上述金属氧化物层500的中氧化物可以根据实际情况进行选择，在此不做限定。

例如：上述金属氧化物层500可以为氧化铝层、氧化铜层、氧化钛层或氧化锌层。

当时上述金属反射层200为铝反射层时，上述金属氧化物层500为氧化铝层。此时，氧化铝层与铝反射层之间的粘合力更高，从而可以进一步提高金属反射层200在基底100上的附着力。

作为一种实施例，参见图4～图9，上述反射膜200还包括防水层600，防水层600设于金属氧化物层500和金属反射层200之间。此时，防水层600能够防止基底100和金属氧化物层500中的水进入至金属反射层200中，从而可以进一步防止金属反射层200出现腐蚀的现象。

需要说明的是，上述防水层600的种类可以根据实际情况进行选择，在此不做限定。

例如：上述防水层600可以为二氧化硅层。

为了更清楚地对本发明进行说明，下面采用实施例一～实施例十二对本发明实施例进行进一步说明。

其中，对实施例一～实施例十二中的反射膜200的反射率进行测试时，采用的光谱(Illuminan)为白光(white)，媒介为(Medium)为空气(Air)，基底(Substrate)为玻璃(Glass)，出射介质(Exit)为空气(Air)，侦测器(Detector)为理想的侦测器，参考波长(Reference)为550nm。

实施例一

本实施例提供了一种镜头。该镜头包括基底100和涂覆于基底100的反射膜200。反射膜200包括依次涂覆于基底100表面的金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300。

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表1。

在550nm的波长下检测本实施例一提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图12所示。

表1实施例一中反射镜的物理、化学参数

实施例二

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表2。

在550nm的波长下检测本实施例二提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图13所示。

表2实施例二中反射膜的物理、化学参数

实施例三

本实施例提供了一种镜头A3。该镜头A3包括基底100和涂覆于基底100的反射膜200。反射膜200包括依次涂覆于基底100表面的金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300。

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表3。

在550nm的波长下检测本实施例二提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图14所示。

表3实施例三中反射膜的物理、化学参数

实施例四

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表4。

在550nm的波长下检测本实施例二提供的镜头中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图15所示。

表4实施例四中反射膜的物理、化学参数

实施例五

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表5。

在550nm的波长下检测本实施例二提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图16所示。

表5实施例五中反射膜的物理、化学参数

实施例六

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表6。

在550nm的波长下检测本实施例二提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图17所示。

表6实施例六中反射膜的物理、化学参数

实施例七

本实施例提供了一种镜头。该镜头包括基底100和涂覆于基底100的反射膜200。反射膜200包括依次涂覆于基底100表面的金属氧化物层500、金属反射层200和介质层300。

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表7。

在550nm的波长下检测实施例一提供的镜头中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图18所示。

表7实施例七中反射膜的物理、化学参数

实施例八

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)(均参见表8。

在550nm的波长下检测实施例一提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图19所示。

表8实施例八中反射膜的物理、化学参数

实施例九

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的八膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的八个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表9。

在550nm的波长下检测实施例一提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图20所示。

表9实施例九中反射膜的物理、化学参数

实施例十

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的六膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的六个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表10。

在550nm的波长下检测实施例一提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图21所示。

表10实施例十中反射膜的物理、化学参数

实施例十一

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的六膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的六个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表11。

在550nm的波长下检测实施例一提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图22所示。

表11实施例十一中反射膜的物理、化学参数

实施例十二

其中，介质层300为第一折射膜层310和第二折射膜层320依次交替层叠而成的六膜层结构。且金属氧化物层500、防水层600、金属反射层200和介质层300中的六个膜层的材质、厚度和光学厚度(QWOT)均参见表12。

在550nm的波长下检测实施例一提供的镜头A3中的反射镜在不同入射角的反射率，测试结果如图23所示。

表12实施例十二中反射膜的物理、化学参数

参见实施例一～实施例十二和图8～图19能够看出，本发明实施例提供的反射镜A32在445nm～650nm的波长范围内，入射角为15°、30°和60°的反射率均大于95％，因此，本发明提供的反射镜A32的反射膜200的反射吸收均较小，从而可以减小反射镜A32的反射膜200的反射吸收热量。

实施例十三

本发明实施例提供了一种反射镜。该反射镜的反射层与实施例一的反射层的区别之处在于本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为40nm。

实施例十四

本发明实施例提供了一种反射镜。该反射镜的反射层与实施例一的反射层的区别之处在于本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为70nm。

对比例一

本发明实施例提供了一种反射镜。该反射镜的反射层与实施例一的反射层的区别之处在于本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为30nm。

对比例二

本发明实施例提供了一种反射镜。该反射镜的反射层与实施例一的反射层的区别之处在于本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为80nm。

对比例三

本发明实施例提供了一种反射镜。该反射镜的反射层与实施例一的反射层的区别之处在于本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为35nm。

对比例四

本发明实施例提供了一种反射镜。该反射镜的反射层与实施例一的反射层的区别之处在于本发明实施例提供的反射镜中，金属反射层的厚度为75nm。

分别在550nm的波长下检测实施例一、实施例十三、实施例十四和对比例一～对比例四提供的反射镜光通量为2000流明的条件下工作2h后，分别检测实施例一、实施例十三、实施例十四和对比例一～对比例四提供的反射镜的温度，测试结果如表13所示。

参见表十三，实施例一、实施例十三和实施例十四提供的反射镜的温度较低，说明实施例一、实施例十三和实施例十四提供的反射镜的温度明显小于对比例一～对比例四提供的反射镜的温度，说明本发明实施例提供的反射镜中的金属反射层具有较低的膜层内部吸收，能够防止反射镜在使用时出现基底热变形的现象。

表13反射镜的温度测试结果

本发明还提供了一种镜头。参见图3，上述镜头A3包括折射镜A31和上述反射镜A32，且折射镜A31组与反射镜A32位于同一主光轴，折射镜A31用于将影像光束进行第一次成像，并将第一次成像入射至反射镜A31中。反射镜A31用于将第一次成像反射至投影屏幕表面进行成像。

与现有技术相比，本发明提供的镜头A3的有益效果与上述反射镜A32的有益效果相同，在此不做赘述。

本发明还提供了一种激光投影设备。参见图2，该激光投影设备包括激光光源A1、光机A2和镜头A3。激光光源A1用于向光机A2提供激光光束。光机A2将激光光束进行调制得到影像光束，并将影像光束投影到镜头A3中的折射镜A31上。

具体的，上述光源A1为纯三色激光光源A1，能够发出红色激光，蓝色激光和绿色激光。并且为了保证光源A1能够向光机A2提供照明光束，光源A1具有光出口，该光出口所在的面即为光源A1与光机A2的连接面，通过连接面，光源A1为光机A2提供照明光束。

同时，根据光机A2内部照明光路的设计，光机A2具有入光口和出光口，其中光机A2的入光口与光源A1的出光口连接，光机A2的出光口与镜头A3连接。其中，光机A2的入光口和出光口通常位于光机A2呈垂直关系的不同侧面上，此处的垂直是空间位置关系上的垂直，不同的侧面可以是长方体光机A2壳体的不同侧面，也可以是不规则立体结构的不同侧面。

具体的，为了使整机壳体内的各个光学部件达到密封和气密需求，光源A1、光机A2和镜头A3均具有各自对应壳体进行包裹。

示例性的，上述激光投影设备还包括多个电路板，多个电路板位于光机A2、镜头A3和另一部分整机壳体围合的空间内。此时，光机A2和镜头A3沿着设备整机第一方向设置，将整机隔成两个部分，一部分可容纳光源A1，另一部可容纳电路板，这两个部分分别如图2所示的两部分。这样的划分可视为将光学部分和电学部分分开。

具体的，多个电路板包括电源板，TV板，控制板，显示板等，多个电路板可以平放层叠设置，或者多个电路板也可以一部分沿着整机壳体的底面放置，一部分沿整机壳体的侧面竖直设置。多个电路板呈集中设置，与前述的光学部分沿着整机长度方向(与第一方向相垂直的方向)设置。

示例性的，上述激光投影设备还包括音响，风扇等多个结构，音响、风扇灯结构均设于整机壳体内。

需要说明的是，光学部分中也通常设置有驱动电路，但是由于相比于显示板，信号板，电源板等电路部分体积较小，复杂度也较低，因此，位于光源A1一侧的驱动电路可以认为左半部分主机为光学部分，位于电路板一侧的为电路部分。这样将不同的主机分开设置，既便于整机的组装和调试，同时也便于光学部分和电学部分各自的设计需求，比如散热，走线，电磁测试等。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种反射镜，其特征在于，包括：

基底；

涂覆于所述基底的金属反射层，所述金属反射层的厚度为40nm～70nm；

介质层，所述介质层设于所述金属反射层远离所述基底的一侧，且所述介质层为由第一折射膜层和第二折射膜层依次交替层叠而成的偶数膜层结构，且所述第一折射膜层的折射率小于所述第二折射膜层的折射率；

金属氧化物层，所述金属氧化物层位于所述基底与所述金属反射层之间；

其中，与所述金属反射层贴合的所述第一折射膜层的厚度为80nm～120nm。

2.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述金属反射层为铝反射层、银反射层或镍反射层。

3.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述金属反射层的入射角为10°～60°。

4.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述基底具有曲面，所述金属反射层涂覆于所述基底的曲面上。

5.根据权利要求4所述的反射镜，其特征在于，所述基底的曲面为凹面。

6.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，其余的所述第一折射膜层的厚度均为20nm～150nm；所述第二折射膜层的厚度均为20nm～150nm；和/或，

所述第二折射膜层的折射率与所述第一折射膜层的折射率之比为1～3.5。

7.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述介质层为四膜层结构、六膜层结构或八膜层结构。

8.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述第一折射膜层为二氧化硅层、一氧化硅层或氟化镁层；和/或，

所述第二折射膜层为五氧化三钛层、二氧化钛层或硫化锡层。

9.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述反射镜还包括有机氟材料层，所述有机氟材料层设于所述介质层远离所述金属反射层的一侧。

10.根据权利要求9所述的反射镜，其特征在于，所述有机氟材料层为二氟代甲基-丙烷、九氟代-丁烷和含氟聚合物的混合物层。

11.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述金属氧化物层为氧化铝层。

12.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，所述反射镜还包括防水层，所述防水层设于所述金属氧化物层和所述金属反射层之间。

13.根据权利要求12所述的反射镜，其特征在于，所述防水层为二氧化硅层。

14.一种镜头，其特征在于，包括折射镜和权利要求1～13中任一项所述的反射镜，所述折射镜与所述反射镜位于同一主光轴，所述折射镜用于将影像光束进行第一次成像，并将所述第一次成像入射至所述反射镜，所述反射镜用于将所述第一次成像反射至投影屏幕表面进行成像。

15.一种激光投影设备，其特征在于，包括激光光源、光机和权利要求14所述的镜头，所述激光光源用于向所述光机提供激光光束；所述光机用于将所述激光光束进行调制得到影像光束，并将所述影像光束投影到所述镜头中的所述折射镜上。