CN112415862B - 一种数据处理系统及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种数据处理系统及方法，用于处理第一光学邻近效应校正任务，第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，系统包括：第一处理单元和第二处理单元。第一处理单元用于处理第一子任务，第二处理单元用于处理第二子任务。在接收到第二光学邻近效应校正任务且第二光学邻近效应校正任务的优先级大于第一光学邻近效应校正任务的优先级时，第一处理单元停止处理第一子任务，而处理第二光学邻近效应校正任务。在第一处理单元停止处理第一子任务时，第二处理单元处理第二子任务和第一子任务未经处理的部分。在接收到优先级较高的任务时，优先级较高的校正任务和优先级较低的校正任务能够被同时处理，节省光学邻近效应校正时间。

Description

一种数据处理系统及方法

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种数据处理系统及方法。

背景技术

光刻技术是半导体制作技术中至关重要的一项技术，能够实现将图形从掩膜板中转移到硅片表面，形成符合设计要求的半导体产品。随着设计尺寸的不断缩小，设计尺寸已经接近或者小于光刻过程中使用的光波波长，光的衍射效应和干涉效应变得越来越明显，导致实际形成的光刻图案相对于掩膜板上的图案产生严重畸变，最终在硅片上经过光刻形成的实际图形变得和设计图形不同，这种现象称为光学邻近效应(Optical ProximityEffect，OPE)。

为了减小光学邻近效应引起的光刻图形的畸变，常用方法是光学邻近效应校正(optical proximity correction，OPC)。光学邻近效应校正是一种光刻增强技术，主要在半导体器件的生产过程中使用，目的是为了保证生产过程中设计的图形的边缘得到完整的刻蚀，尽可能的使硅片上生产出的电路与原始的电路一致。

目前光学邻近效应校正需要在校正之前限定处理单元的数量，但是由于处理单元的资源有限，使得在校正优先级较低的任务时如果遇到优先级较高的任务，通常会停止处理优先级较低的任务，而去处理优先级较高的任务。当优先级较高的任务处理完成后，重新处理优先级较低的任务，导致耗费较多的时间。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种数据处理系统及方法，节省光学邻近效应校正时间。

为实现上述目的，本发明有如下技术方案：

一种数据处理系统，用于处理第一光学邻近效应校正任务，所述第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，所述系统包括：第一处理单元和第二处理单元；

所述第一处理单元用于处理所述第一子任务，所述第二处理单元用于处理所述第二子任务；

所述第一处理单元还用于：在接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务；

所述第二处理单元还用于：在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。

可选的，所述第一处理单元，还用于：在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

可选的，还包括：控制器，

所述控制器用于，在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，将所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分分为第三子任务和第四子任务，以使所述第一处理单元处理所述第三子任务，所述第二处理单元处理所述第四子任务。

可选的，所述第一处理单元的数量是预先设定的或者是由所述控制器根据所述第二光学邻近效应校正任务确定的。

可选的，所述第一处理单元和所述第二处理单元的总数量根据所述第一光学邻近效应校正任务中光刻图形的特征尺寸和图案密度确定。

可选的，所述第一处理单元和所述第二处理单元还用于：在所述第一光学邻近校正任务的处理结果的检验结果为失败时，协同进行所述第一光学邻近效应校正任务的再处理。

一种数据处理方法，应用于第一处理单元，包括：

所述第一处理单元用于在处理第一光学邻近效应校正任务中的第一子任务时，若接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务，以便所述第二处理单元在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第一光学邻近效应校正任务的第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。

可选的，还包括：

所述第一处理单元在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则所述第一处理单元协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

一种数据处理方法，应用于第二处理单元，包括：

所述第二处理单元用于，在第一处理单元接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务时，处理所述第一子任务未经处理的部分和所述第一光学邻近效应校正任务中的第二子任务。

可选的，还包括：

在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，所述第二处理单元协同所述第一处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

本发明实施例提供的一种数据处理系统，用于处理第一光学邻近效应校正任务，第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，系统包括：第一处理单元和第二处理单元。第一处理单元用于处理第一子任务，第二处理单元用于处理第二子任务。第一处理单元还用于，在接收到第二光学邻近效应校正任务且第二光学邻近效应校正任务的优先级大于第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理第一子任务，而处理第二光学邻近效应校正任务。第二处理单元还用于，在第一处理单元停止处理第一子任务时，处理第二子任务和第一子任务未经处理的部分。这样，在接收到优先级较高的第二光学邻近效应校正任务时，第一处理单元处理优先级较高的第二光学邻近效应校正任务，第二处理单元能够处理优先级较低的第一光学邻近效应校正任务。由于优先级较高的校正任务和优先级较低的校正任务能够被同时处理，避免在处理优先级较高的校正任务时需要停止处理优先级较低的校正任务而导致的优先级较低的校正任务需要被重新处理的情况的发生，从而节省光学邻近效应校正时间。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1示出了一种数据处理方法的流程示意图；

图2示出了根据本发明实施例一种数据处理系统的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其它不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

光学邻近效应校正是在掩膜设计时采用将图形预先畸变的方法对光学邻近效应加以校正，使光刻后能得到符合设计要求的电路图形。光学邻近效应是指随着光刻技术的不断发展，光刻线条的尺寸越来越窄，当曝光线条的特征尺寸接近曝光系统的理论分辨极限时，空间像将发生明显的畸变。

空间像发生的畸变通常表现为：边角圆化或畸变、线条缩短、疏密线条线宽偏差等。边角圆化或畸变的原因是理想的像强度频谱分布取决于掩膜上的线条的特征尺寸、形状和分布规律，其中边角或细锐的线条为频谱提供较多的高频成分，由于衍射受限，这些高频成分不能够经过系统达到实际空间像面对应的边角处，导致空间像在边角处的光强分布失配，造成空间像线条边角处的圆化或畸变。线条缩短的原因是在亚微米光刻中，线条的高频成分较多，线条尾部的高频成分更多，成像系统的非线性滤波滤掉到达线条尾部的大部分能量，仅一部分零频光参与线尾的成像，线条尾部空间像的边缘衬度大大下降，造成线尾缩短，从而导致线条缩短。疏密线条线宽偏差的原因是实际像与理想像强度频谱不同，成像系统的非线性滤波作用使像产生不同程度的畸变，造成线宽的差异。

目前光学邻近效应校正需要在校正之前限定处理单元的数量，但是由于处理单元的资源有限，使得在校正优先级较低的任务时如果遇到优先级较高的任务，通常会停止处理优先级较低的任务，而去处理优先级较高的任务。当优先级较高的任务处理完成后，重新处理优先级较低的任务，参考图1所示，导致耗费较多的时间。

为此，本申请实施例提供一种数据处理系统，参考图2所示，用于处理第一光学邻近效应校正任务，所述第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，所述系统包括：第一处理单元102和第二处理单元104；

所述第一处理单元102用于处理所述第一子任务，所述第二处理单元104用于处理所述第二子任务；

所述第一处理单元102还用于：在接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务；

所述第二处理单元104还用于：在所述第一处理单元102停止处理所述第一子任务时，处理所述第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。

本申请实施例中，第一光学邻近效应校正任务包括第一子任务和第二子任务，数据处理系统包括第一处理单元102和第二处理单元104。第一处理单元102用于处理第一子任务，第二处理单元104用于处理第二子任务。当接收到第二光学邻近效应校正任务且第二光学邻近效应校正任务的优先级大于第一光学邻近效应校正任务的优先级时，第一处理单元102停止处理第一子任务，而处理第二光学邻近效应校正任务。可以理解的是，在第一处理单元102处理当前任务时，如果接收到比当前优先级更高的任务时，将停止处理当前任务，转而处理优先级更高的任务。此处优先级可以是指紧急程度，优先级较高是指紧急程度较大。本实施例中，第一处理单元102和第二处理单元104的总数量可以是根据第一光学邻近效应校正任务中光刻图形的特征尺寸和图案密度确定的。

当第一处理单元102停止处理第一子任务时，第二处理单元104处理第二子任务和第一子任务未经处理的部分。可以理解的是，当第一处理单元102停止处理第一子任务时，第一子任务未经处理的部分交由第二处理单元104进行处理，此时第二处理单元104既要处理第二子任务又要处理第一子任务未经处理的部分。具体的，第二处理单元104可以先处理第二子任务，待第二子任务处理完毕后，再处理第一子任务未经处理的部分。第二处理单元104也可以先处理第一子任务未经处理的部分，待第一子任务未经处理的部分处理完毕后，再处理第二子任务。当然，如果第一子任务和第二子任务之间的处理结果有交互时，例如，部分第二子任务的处理需要依据第一子任务的处理数据，第二处理单元104可以同时处理第二子任务和第一子任务未经处理的部分。

本申请实施例中，由于在接收到优先级较高的第二光学邻近效应校正任务时，第一处理单元102停止处理第一子任务，转而处理优先级较高的第二光学邻近效应校正任务，将第一子任务未处理的部分交由第二处理单元104进行处理，使得第二处理单元104处理第二子任务和第一子任务未处理的部分。此时，优先级较低的第一光学邻近效应校正任务并未停止处理，即数据处理系统能够同时处理优先级较高的第二光学邻近效应校正任务和优先级较低的第一光学邻近效应任务，避免由于需要处理优先级较高的任务时停止处理优先级较低的任务而导致的优先级较低的任务被重新处理的情况的发生，从而节省光学邻近效应校正时间。

本实施例中，可以理解的是，将第一处理单元102和第二处理单元104同时处理的第一光学邻近效应校正任务，交由第二处理单元104单独进行处理后，第一光学邻近效应校正任务的处理时间将会延长。因此，当第一处理单元102在完成第二光学邻近效应校正任务后，如果此时第二处理单元104未完成第一光学邻近效应校正任务，第一处理单元102可以协同第二处理单元处理104第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分，以进一步缩短光学邻近效应校正时间。

第一处理单元102协同第二处理单元104处理第一光学邻近效应校正未经处理的部分可以为，将第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分重新分配为两部分，分别交由第一处理单元102和第二处理单元104进行。例如，当第一光学邻近效应校正认为未经处理的部分包括第一子任务和第二子任务时，第一处理单元102协同第二处理单元104处理第一光学邻近效应校正未经处理的部分可以为，第一处理单元102处理第一子任务未经处理的部分，第二处理单元104处理第二子任务未经处理的部分。

数据处理系统还可以包括控制器，控制器用于在第一处理单元102完成第二光学邻近效应校正任务时，将第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分分为第三子任务和第四子任务，以使第一处理单元102处理第三子任务，第二处理单元104处理第四子任务。在具体的应用中，第一处理单元102的数量可以是预先设定的，即预先设定一定数量的第一处理单元102，这些第一处理数据单元102用于在接收到优先级更高的光学邻近效应校正任务时，停止当前正在处理的任务，转而处理优先级更高的光学邻近效应校正任务。第一处理单元102的数量也可以是控制器根据第二光学邻近效应校正任务确定的，即在接收到第二光学邻近效应校正任务时，控制器可以根据第二光学邻近效应校正任务中的特征尺寸和图案密度等确定所需的第一处理单元102的数量，而后利用确定的第一处理单元102处理第二光学邻近效应校正任务。

本实施例中，当第一光学邻近效应校正任务完成后，可以对第一光学邻近效应校正任务的处理结果进行检验，当检验结果为成功时，第一光学邻近效应校正任务完成，当检验结果为失败时，第一处理单元102协同第二处理单元104进行第一光学邻近效应校正任务的再处理。再处理可以是第一处理单元处理第一子任务，第二处理单元处理第二子任务，也可以是将第一光学邻近效应校正任务重新分配后交由第一处理单元102和第二处理单元104进行处理。

以上对本申请实施例提供的一种数据处理系统进行了详细的描述，该系统中的第一处理单元102在接收到优先级较高的第二光学邻近效应校正任务时，停止处理第一子任务，转而处理优先级较高的第二光学邻近效应校正任务，第二处理单元104能够处理优先级较低的第一光学邻近效应校正任务。由于优先级较高的校正任务和优先级较低的校正任务能够被同时处理，避免在处理优先级较高的校正任务时需要停止处理优先级较低的校正任务而导致的优先级较低的校正任务需要被重新处理的情况的发生，从而节省光学邻近效应校正时间。

本申请实施例还提供一种数据处理方法，应用于第一处理单元102，包括：

所述第一处理单元102用于在处理第一光学邻近效应校正任务中的第一子任务时，若接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务，以便所述第二处理单元104在所述第一处理单元102停止处理所述第一子任务时，处理所述第一光学邻近效应校正任务的第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。

本实施例中，第一处理单元102在完成优先级较高的第二光学临近效应校正任务时，若第二处理单元104未完成第一光学邻近效应校正任务，则第一处理单元102协同第二处理单元104处理第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

本申请实施例还提供一种数据处理方法，应用于第二处理单元104，包括：

所述第二处理单元104用于，在第一处理单元102接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务时，处理所述第一子任务未经处理的部分和所述第一光学邻近效应校正任务中的第二子任务。

本实施例中，在第一处理单元102完成优先级较高的第二光学邻近效应校正任务时，若第二处理单元104未完成第一光学邻近效应校正任务，第二处理单元104协同第一处理单元102处理第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处。尤其，对于方法实施例而言，由于其基本相似于系统实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，虽然本发明已以较佳实施例披露如上，然而并非用以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何的简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (10)

1.一种数据处理系统，其特征在于，用于处理第一光学邻近效应校正任务，所述第一光学邻近效应校正任务包括：第一子任务和第二子任务，所述系统包括：第一处理单元和第二处理单元；

所述第一处理单元用于处理所述第一子任务，所述第二处理单元用于处理所述第二子任务；

所述第一处理单元还用于：在接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级时，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务；

所述第二处理单元还用于：在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元，还用于：在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，还包括：控制器，

所述控制器用于，在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，将所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分分为第三子任务和第四子任务，以使所述第一处理单元处理所述第三子任务，所述第二处理单元处理所述第四子任务。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元的数量是预先设定的或者是由所述控制器根据所述第二光学邻近效应校正任务确定的。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元和所述第二处理单元的总数量根据所述第一光学邻近效应校正任务中光刻图形的特征尺寸和图案密度确定。

6.根据权利要求1-4任意一项所述的系统，其特征在于，所述第一处理单元和所述第二处理单元还用于：在所述第一光学邻近效应校正任务的处理结果的检验结果为失败时，协同进行所述第一光学邻近效应校正任务的再处理。

7.一种数据处理方法，其特征在于，应用于第一处理单元，包括：

所述第一处理单元用于在处理第一光学邻近效应校正任务中的第一子任务时，若接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于所述第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理所述第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务，以便第二处理单元在所述第一处理单元停止处理所述第一子任务时，处理所述第一光学邻近效应校正任务的第二子任务和所述第一子任务未经处理的部分。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括：

所述第一处理单元在完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，则所述第一处理单元协同所述第二处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

9.一种数据处理方法，其特征在于，应用于第二处理单元，包括：

所述第二处理单元用于，在第一处理单元接收到第二光学邻近效应校正任务且所述第二光学邻近效应校正任务的优先级大于第一光学邻近效应校正任务的优先级，停止处理第一子任务，而处理所述第二光学邻近效应校正任务时，处理所述第一子任务未经处理的部分和所述第一光学邻近效应校正任务中的第二子任务。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述第一处理单元完成所述第二光学邻近效应校正任务时，若所述第二处理单元未完成所述第一光学邻近效应校正任务，所述第二处理单元协同所述第一处理单元处理所述第一光学邻近效应校正任务未经处理的部分。

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