CN112405352B - 一种改善抛光头研磨液结晶的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及半导体硅片加工技术领域。一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，剪裁精抛研磨布，以精抛研磨布作为抛光头保护垫；步骤二，抛光头表面擦拭干净；步骤三，将剪裁好的抛光头保护垫粘附在所述抛光头的上表面。本专利解决了抛光头结晶造成机械伤不良。解决了抛光头停机保养困难.提高产能工作效率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体硅片加工技术领域，具体涉及一种改善抛光头研磨液结晶的方法。
背景技术
在半导体硅片镜面抛光过程中，颗粒的落入无疑是造成机械伤的主要原因，对于镜面抛光工序来说最易产生大颗粒区域为抛光头上研磨液结晶。抛光头结晶长时间堆积，达到一定的厚度在加工产品过程中自然脱落造成机械伤。
传统研磨头的保养方法为1)抛光头停止定盘上铺上塑料薄膜；2)拆去抛光头外罩；3)抛光头涂NaOH药液腐蚀4小时；4)腐蚀结束后使用纯水冲洗抛光头；5)待抛光头NaOH药液冲洗干净使用刀片刮去未腐蚀掉的研磨剂结晶；6)刀片刮干净后在使用纯水冲洗抛光头。
通过上述保养方法对抛光头结晶的清除，常需要大量的人力物力时间停机进行抛光头结晶清除。
发明内容
针对现有技术存在的问题，本发明提供一种改善抛光头研磨液结晶的方法，以解决抛光头上存有研磨液结晶的问题。
本发明的技术方案是：一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一，剪裁精抛研磨布，以精抛研磨布作为抛光头保护垫；
步骤二，抛光头表面擦拭干净；
步骤三，将剪裁好的抛光头保护垫粘附在所述抛光头的上表面。
本专利解决了抛光头结晶造成机械伤不良。解决了抛光头停机保养困难.提高产能工作效率。改善后抛光头保养无需每月停机一天做保养，只需要在平时工作中抛光头保护垫破损污迹更换大约6个月/次。保养方便更换一枚抛光头保护垫3-5分钟完成简单方便。灵活多样可以适应不同抛光设备抛光头，灵活裁剪抛光头大小的保护垫制作防护垫。
进一步优选地，步骤三之后，黏贴完成压去抛光头保护垫上气泡冲洗干净。
进一步优选地，抛光头保护垫通过纯水冲洗干净。避免引入杂质。
进一步优选地，所述抛光头保护垫是一内开圆孔的圆形保护垫。便于匹配抛光头的结构。
进一步优选地，所述抛光头保护垫的外径大于抛光头外径，且差值为28mm-32mm。
进一步优选地，所述抛光头保护垫的内径与传动主轴的外径之间差值为0mm-1mm。
进一步优选地，所述抛光头保护垫的圆孔的内径为130mm，所述圆形保护垫的外径为390mm。
该尺寸适用于抛光头的外径为360mm，抛光头的传动主轴的外径为130mm。
进一步优选地，所述抛光头保护垫上开设有一径向延伸的割痕。
便于抛光头保护垫安装至抛光头上。
进一步优选地，每5-6个月替换一次抛光头保护垫。
进一步优选地，步骤二，通过酒精对抛光头表面擦拭干净。
附图说明
图1为本发明的局部结构示意图。
图中，1为抛光头保护垫，2为抛光头，3为传动主轴。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的说明。
具体实施例1，参见图1，一种改善抛光头研磨液结晶的方法，包括如下步骤：步骤一，剪裁精抛研磨布，以精抛研磨布作为抛光头保护垫1；步骤二，抛光头2表面擦拭干净；步骤三，将剪裁好的抛光头保护垫1粘附在抛光头的上表面。本专利解决了抛光头结晶造成机械伤不良。解决了抛光头停机保养困难.提高产能工作效率。改善后抛光头保养无需每月停机一天做保养，只需要在平时工作中抛光头保护垫破损污迹更换大约6个月/次。保养方便更换一枚抛光头保护垫3-5分钟完成简单方便。
本专利使用现场废弃精抛研磨布按照抛光头尺寸裁剪粘贴；有①节能环保废物在利用②裁剪制作简单工作量少③减少结晶④保持时间长耐用⑤更换保养方便等优点。
步骤三之后，黏贴完成压去抛光头保护垫上气泡冲洗干净。抛光头保护垫通过纯水冲洗干净。避免引入杂质。
抛光头保护垫是一内开圆孔的圆形保护垫。便于匹配抛光头的结构。
抛光头保护垫1的外径大于抛光头外径，且差值为28mm-32mm。抛光头保护垫1的内径与传动主轴3的外径之间差值为0mm-1mm。具体的可以是，所述抛光头保护垫的圆孔的内径为130mm，所述圆形保护垫的外径为390mm。该尺寸适用于抛光头2的外径为360mm，抛光头2的传动主轴3的外径为130mm。抛光头保护垫上开设有一径向延伸的割痕。便于抛光头保护垫安装至抛光头上。
每5-6个月替换一次抛光头保护垫。
步骤二，通过酒精对抛光头表面擦拭干净。
以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一，剪裁现场废弃精抛研磨布，以精抛研磨布作为抛光头保护垫；
步骤二，抛光头表面擦拭干净；
步骤三，将剪裁好的抛光头保护垫粘附在所述抛光头的上表面；
所述抛光头保护垫的外径大于抛光头外径，且差值为28mm-32mm；
所述抛光头保护垫是一内开圆孔的圆形保护垫；
所述抛光头保护垫上开设有一径向延伸的割痕。
2.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：步骤三之后，黏贴完成压去抛光头保护垫上气泡冲洗干净。
3.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：抛光头保护垫通过纯水冲洗干净。
4.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：所述抛光头保护垫的内径与传动主轴的外径之间差值为0mm-1mm。
5.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：所述抛光头保护垫的圆孔的内径为130mm，所述圆形保护垫的外径为390mm。
6.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：每5-6个月替换一次抛光头保护垫。
7.根据权利要求1所述的一种改善抛光头研磨液结晶的方法，其特征在于：步骤二，通过酒精对抛光头表面擦拭干净。
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