CN112394620B - 测量装置和光刻机 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种测量装置和光刻机,所述测量装置用于检测测量光的偏振相差,所述测量装置包括测量主体、波片、偏振片、旋转台和图像采集分析单元,所述旋转台、所述偏振片和所述图像采集分析单元设置在所述测量主体上,所述旋转台用于驱动所述波片旋转,所述测量光经所述波片、所述偏振片后进入所述图像采集分析单元,所述图像采集分析单元用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差,所述测量装置还包括冷却组件,所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元和/或所述旋转台的热量。本发明中的测量装置和光刻机可改善测量装置和光刻机的稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种测量装置和光刻机。
背景技术
对于浸没式投影光刻机而言,投影物镜偏振相差的测量结果容易影响光刻机的分辨率。目前,光刻机多采用测量装置测量投影物镜偏振相差。然而,现有的测量装置多存在稳定性低的问题,投影物镜偏振相差的测量结果稳定性低,光刻机的分辨率易受投影物镜偏振相差的测量结果的影响而波动,导致光刻机的稳定性低。
因此,急需对现有的测量装置进行改进,以提高测量装置的稳定性,从而改善光刻机的稳定性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种测量装置和光刻机,以解决现有的测量装置和光刻机稳定性低的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种测量装置,用于检测测量光的偏振相差,包括测量主体、波片、偏振片、旋转台和图像采集分析单元,所述旋转台、所述偏振片和所述图像采集分析单元设置在所述测量主体上,所述旋转台用于驱动所述波片旋转,所述测量光经所述波片、所述偏振片后进入所述图像采集分析单元,所述图像采集分析单元用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差,所述测量装置还包括冷却组件,所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元和/或所述旋转台的热量。
可选的,所述冷却组件具有一冷却流道、流道入口和流道出口,所述冷却流道的一端与所述流道入口连通,另一端与流道出口连通,冷却介质可从所述流道入口流入所述冷却流道并从所述流道出口流出所述冷却流道。
可选的,所述冷却组件包括第一冷却件、至少两个第二冷却件和第三冷却件,所述第一冷却件固定设置在所述测量主体上,所述旋转台设置在所述第一冷却件上,所述波片设置在所述旋转台上,所述第二冷却件固定设置在所述第一冷却件上,所述偏振片固定设置在所述第二冷却件上,所述第三冷却件固定设置在所述第二冷却件上,所述图像采集分析单元固定设置在所述第三冷却件上。
可选的,所述冷却流道设置在所述第一冷却件中,所述流道入口和所述流道出口设置在所述第一冷却件上。
可选的,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述冷却流道、流道入口和流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间。
可选的,所述冷却流道设置在所述第三冷却件中,所述流道入口和所述流道出口设置在所述第三冷却件上。
可选的,所述冷却流道设置在所述第一冷却件、所述第二冷却件和所述第三冷却件中,所述流道入口和所述流道出口设置在所述第一冷却件和/或所述第三冷却件上。
可选的,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道、第一流道入口和第一流道出口,所述第一冷却流道的一端与所述第一流道入口连通,所述第一冷却流道的另一端与所述第一流道出口连通,所述第一冷却流道、所述第一流道入口和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三冷却流道的另一端与所述第三流道出口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通;其中,所述第一流道入口和所述第三流道出口中的一个为流道入口,另一个为流道出口。
可选的,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道和第一流道出口,所述第一冷却流道和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三冷却流道的另一端与所述第三流道出口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通,所述第三流道出口的数量为至少两个;其中,两个所述第三流道出口中的一个为流道入口,另一个为流道出口。
可选的,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道、第一流道入口和第一流道出口,所述第一冷却流道的一端与所述第一流道入口连通,所述第一冷却流道的另一端与所述第一流道出口连通,所述第一冷却流道、所述第一流道入口和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;所述第三冷却件包括第三冷却流道和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通;其中,两个所述第一流道入口中的一个为流道入口,另一个为流道出口。
可选的,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道、第一流道入口和第一流道出口,所述第一冷却流道的一端与所述第一流道入口连通,所述第一冷却流道的另一端与所述第一流道出口连通,所述第一冷却流道、所述第一流道入口和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三冷却流道的另一端与所述第三流道出口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通,所述第三流道出口的数量为至少两个;其中,两个所述第一流道入口中的一个为流道入口,另一个为流道出口,两个所述第三流道出口中的一个为流道入口,另一个为流道出口;或者,两个所述第一流道入口均为流道入口,两个所述第三流道出口均为流道出口。
可选的,所述第二冷却件包括第一连接件和第二连接件,所述测量装置还包括偏振片固定板,所述偏振片固定设置在所述偏振片固定板上,所述第一连接件与所述第一冷却件固定连接,所述第二连接件与所述第三冷却件固定连接,所述第二连接件用于将所述偏振片固定板固定设置在所述第一连接件上。
本发明还提供一种光刻机,所述光刻机还包括投影物镜、浸没头、浸没液、工件台、硅片台,以及上述的测量装置,所述硅片台设置在所述工件台上,所述投影物镜设置在所述硅片台上方,所述浸没头设置在所述投影物镜和所述硅片台之间,所述投影物镜、所述浸没头和所述硅片台之间设置有浸没液,所述测量装置设置在所述硅片台上,位于所述投影物镜的下方,且被所述浸没液包覆。
本发明提供的一种测量装置和光刻机,具有以下有益效果:
通过在测量装置中设置用于吸收图像采集分析单元和/或旋转台的热量的冷却组件,可有效避免图像采集分析单元和旋转台的温度过高,从而可改善测量装置稳定性,此外,可避免测量装置中的热量传递至浸没液中影响浸没液的温度,从而可避免浸没液的温度变化导致浸没液的折射率变化,间接影响测量装置的测量结果,从而可改善测量装置的测量结果的稳定性,进而改善光刻机的稳定性。
能够有效控制设备整体的垂向高度,保证结构紧凑性的同时,有效降温。这样有利于减小光学结构的设计和实现难度。
附图说明
图1是现有技术中的光刻机的结构示意图;
图2是本发明实施例一中测量装置设置在光刻机中的结构示意图;
图3是本发明实施例一中测量装置的一种结构示意图;
图4是本发明实施例一中测量装置的另一种结构示意图;
图5是本发明实施例一中测量装置的再一种结构示意图
图6是本发明实施例二中测量装置的一种结构示意图;
图7是本发明实施例二中测量装置的另一种结构示意图;
图8是本发明实施例三中测量装置的一种结构示意图;
图9是本发明实施例三中测量装置的另一种结构示意图;
图10是本发明实施例四中测量装置的一种结构示意图。
附图标记说明:
110-投影物镜;120-浸没头;130-工件台;140-硅片台;150-测量装置;160-浸没液;
210-测量主体;
220-波片;
230-偏振片;
240-旋转台;
250-图像采集分析单元;
310-第一冷却件;311-第一冷却流道;312-第一流道入口;313-第一流道出口;314-第一冷却板;317-第二冷却板;
320-第二冷却件;321-第一连接件;322-第一内腔;323-第一开口;324-第二开口;325-第二连接件;326-第二冷却流道;327-第二流道入口;328-第二流道出口;
330-第三冷却件;331-第三冷却流道;332-第三流道入口;333-第三流道出口;
400-偏振片固定板;
500-准直镜。
具体实施方式
如背景技术所述,现有的测量装置和光刻机存在稳定性低的问题。申请人研究后发现,测量装置的稳定性与测量装置内的环境温度有关,也与浸没液的折射率有关,而浸没液的折射率与测量装置内的环境温度也有关系。
具体的,如图1所示,图1是现有技术中的光刻机的结构示意图,所述光刻机包括投影物镜110、浸没头120、工件台130、硅片台140和测量装置150。硅片台140设置在工件台130上,投影物镜110设置在硅片台140上方,浸没头120设置在投影物镜110和硅片台140之间,投影物镜110、浸没头120和硅片台140之间设置有浸没液160。测量装置150设置在硅片台140上,位于投影物镜110的下方,且被浸没液160包覆。测量装置150测量投影物镜110的偏振相差时,从投影物镜110出射的测量光经过浸没液160后进入测量装置150中。
申请人发现,由于进入测量装置150的测量光需要经过浸没液160才能进入测量装置150中,因此,若浸没液160的折射率变动,则会导致测量装置150的测量结果波动,从而影响测量装置150的稳定性。
申请人进一步研究后发现,浸没液160的折射率波动是由浸没液160的温度变化导致的。在浸没式投影光刻机中,浸没液160相当于一块光学镜片,当浸没液160温度发生变化时其折射率也随之发生变化。
申请人进一步研究后发现,浸没液160的温度变化是由测量装置150内的温度变化引起的,当测量装置150内的温度变化导致浸没液160的温度变化超过一定阈值时,易引起浸没液160的折射率变化。
由此可知,如要避免浸没液160的折射率变化,则需要对测量装置150内的温度进行控制,避免测量装置150内的温度变化导致浸没液160温度变化。
此外,申请人还发现,若测量装置150内的温度变化较大,特别是温度过高时,容易导致测量装置150测量的偏振相差波动,从而导致测量装置150的测量稳定性低。
由上可知,若能对测量装置150内的温度进行有效控制,则可有效改善测量装置150的稳定性。
基于此,申请人提出了一种测量装置,用于测量投影物镜的偏振相差,所述测量装置包括测量主体、波片、偏振片、旋转台、图像采集分析单元和冷却组件,所述旋转台、所述偏振片、所述图像采集分析单元和所述冷却组件设置在所述测量主体上,所述旋转台用于驱动所述波片旋转,测量光经所述波片、所述偏振片后进入所述图像采集分析单元,所述图像采集分析单元用于采集和分析所述测量光,所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元和/或所述旋转台的热量。通过在测量装置中设置用于吸收图像采集分析单元和/或旋转台的热量的冷却组件,可有效避免图像采集分析单元和旋转台的温度过高,从而可改善测量装置稳定性,此外,可避免测量装置中的热量传递至浸没液中影响浸没液的温度,从而可避免浸没液的温度变化导致浸没液的折射率变化,间接影响测量装置的测量结果,从而可改善测量装置的测量结果的稳定性,进而改善光刻机的稳定性。
相应的,申请人还提出了一种光刻机,所述光刻机包括上述的测量装置。由于可对测量装置内的温度进行有效控制,从而可对浸没液的温度进行有效控制,减小由于浸没液的温度变化引起的浸没液折射率变化,也可改善光刻机的稳定性。
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的测量装置和光刻机作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书,本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
实施例一
本实施例提供一种测量装置,用于检测测量光的偏振相差。参考图2、图3和图4,图2是本发明实施例一中测量装置设置在光刻机中的结构示意图,图3是本发明实施例一中测量装置的一种结构示意图,图4是本发明实施例一中测量装置150的另一种结构示意图,所述测量装置150包括测量主体210、波片220、偏振片230、旋转台240和图像采集分析单元250。所述旋转台240、所述偏振片230和所述图像采集分析单元250设置在所述测量主体210上,所述旋转台240用于驱动所述波片220旋转,测量光经所述波片220、所述偏振片230后进入所述图像采集分析单元250,所述图像采集分析单元250用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差。
在测量装置150工作的过程中,测量光进入测量装置150后,依次经所述波片220、所述偏振片230后进入所述图像采集分析单元250,图像采集分析单元250采集和分析所述测量光,并且在测量过程中,旋转台240驱动波片220旋转,以使经过波片220的测量光具有不同状态,便于图像采集分析单元250采集和分析具有不同状态的测量光,从而获得测量光的偏振相差。当所述测量光为经过所述投影物镜110的测量光时,所述测量装置150可用于测量所述投影物镜110的偏振相差。
由于在测量装置150工作的过程中,旋转台240需要驱动波片220旋转,图像采集分析单元250需要采集和分析所述测量光,因此,旋转台240和图像采集分析单元250为主要的发热源。因此,本实施例中的测量装置150还包括冷却组件,所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元250和所述旋转台240的热量。
通过在测量装置150中设置用于吸收图像采集分析单元250和旋转台240的热量的冷却组件,可有效避免图像采集分析单元250和旋转台240的温度过高,从而可改善测量装置150稳定性,此外,可避免测量装置150中的热量传递至浸没液160中影响浸没液160的温度,从而可避免浸没液160的温度变化导致浸没液160的折射率变化,间接影响测量装置150的测量结果,从而可改善测量装置150的测量结果的稳定性,进而改善光刻机的稳定性。
所述冷却组件具有一冷却流道、流道入口和流道出口,所述冷却流道的一端与所述流道入口连通,另一端与流道出口连通。冷却介质可经所述流道入口流入所述冷却流道,流经所述冷却流道后经所述流道出口流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述冷却件固定连接的旋转台240进行冷却,也可对所述图像采集分析单元250进行冷却,改善冷却效果。其中,所述冷却介质可为恒温去离子水,也可为其它的冷却液体或者冷却气体,本发明对此不做限制。
参考图3,所述冷却组件包括第一冷却件310、三个第二冷却件320和第三冷却件330。所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240设置在所述第一冷却件310上,所述波片220设置在所述旋转台240上,所述第二冷却件320固定设置在所述第一冷却件310上,所述偏振片230固定设置在所述第二冷却件320上,所述第三冷却件330固定设置在所述第二冷却件320上,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上。也就是说,所述旋转台240通过所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述波片220通过所述旋转台240和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述偏振片230通过所述第二冷却件320和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述图像采集分析单元250通过所述第三冷却件330、所述第二冷却件320和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上。
在其它的实施例中,所述冷却组件可仅包括第一冷却件310,所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240设置在所述第一冷却件310上,所述波片220、所述偏振片230、所述图像采集分析单元250直接或者间接的固定设置在所述测量主体210上,即仅所述旋转台240通过第一冷却件310冷却,未设置冷却元件对所述图像采集分析单元250进行冷却。或者,仅包括第三冷却件330,所述旋转台240、所述波片220、所述偏振片230和所述图像采集分析单元250直接或者间接的固定设置在所述测量主体210上,所述第三冷却件330固定设置在所述测量主体210上,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上,即仅所述图像采集分析单元250通过第三冷却件330冷却,未设置冷却元件对所述旋转台240进行冷却。
在其它实施例中,所述第二冷却件320的数量为两个、四个或者其它,只要可以使所述第三冷却件330和所述第一冷却件310连接即可。
由于将所述第三冷却件330固定设置在所述第二冷却件320上,将所述第二冷却件320固定设置在所述第一冷却件310上,将所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,且图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上,因此可通过第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330对所述图像采集分析单元250进行冷却。图像采集分析单元250产生的部分热量可被第三冷却件330吸收,并经所述第三冷却件330、所述第二冷却件320传递给所述第一冷却件310。此外,由于将所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240固定设置在所述第一冷却件310上,因此可通过第一冷却件310吸收旋转台240处产生的热量,并且热量可经第一冷却件310传递给第二冷却件320和第三冷却件330,从而使第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330对所述旋转台240进行冷却,即可使所述第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330同时对所述旋转台240和所述图像采集分析单元250进行冷却,从而可优化测量装置150内部的温度梯度分布,使测量装置150有效冷却,进而可对测量装置150内的温度进行有效控制,避免测量装置150因为温度过高影响测量装置150本身的精度,降低测量装置150的测量稳定性,也可避免测量装置150产生的热量传递给浸没液160,使浸没液160的温度发生变化,影响浸没液160的折射率,使测量装置150的测量结果的稳定性降低。通过设置第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330可有效控制设备整体的垂向高度,保证结构紧凑性的同时,有效降温,且可利于减小测量装置150内的光学结构的设计和实现难度。
本实施例中,所述冷却流道、流道入口和流道出口设置在所述第一冷却件310上。
具体的,参考图3和图4,所述第一冷却件310具有第一冷却流道311、第一流道入口312和第一流道出口313,所述冷却介质可经所述第一流道入口312流入所述第一冷却流道311,流经所述第一冷却流道311后经所述第一流道出口313流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述第一冷却件310固定连接的旋转台240进行冷却,也可对所述图像采集分析单元250进行冷却,进一步改善冷却效果。即本实施例中,所述冷却流道仅包括所述第一冷却流道311。所述第一流道入口312即为所述冷却组件的流道入口,所述第一流道出口313即为所述冷却组件的流道出口。
具体的,所述第一冷却件310包括第一冷却板314和第二冷却板317,所述第一冷却板314固定设置在所述测量主体210上,所述第二冷却板317固定设置在所述第一冷却板314上,所述第二冷却件320固定设置在所述第二冷却板317上,所述旋转台240固定设置在所述第二冷却板317上,所述第一冷却流道311、第一流道入口312和第一流道出口313设置在所述第一冷却板314和所述第二冷却板317之间。
所述第一冷却板314和所述第二冷却板317可通过螺纹连接的方式固定连接。如图3所示,所述第一冷却板314包括第一底板部,开设在所述第一底板部上的第一冷却流道311,以及开设在所述第一底板部上的第一安装孔。所述第二冷却板317包括第二底板部,开设在所述第二底板部上的第二安装孔。所述第一冷却件310还包括螺钉,所述螺钉穿过所述第一安装孔与所述第二安装孔螺纹连接,并使所述第一冷却板314和第二冷却板317固定连接。
优选的,在所述第一安装孔和所述第二安装孔中可填充隔热材料。
进一步的,所述第二冷却板317与所述旋转台240之间设置有导热介质,可便于旋转台240处的热量传导至第二冷却板317,改善冷却效果。所述第二冷却板317与所述旋转台240可通过螺纹连接的方式固定连接。
本实施例中,所述第一冷却板314与所述测量主体210通过螺纹连接的方式固定连接,且所述第一冷却板314与所述测量主体210之间部分连接面上设置有粘结剂,部分连接面上填充有隔热材料。即所述第一冷却板314与所述测量主体210既通过螺纹连接,又通过粘结剂连接。在其它的实施例中,所述第一冷却板314与所述测量主体210可仅通过螺纹连接,或者仅通过粘结的方式固定连接,所述第一冷却板314与所述测量主体210可填充有隔热材料,或者未填充隔热材料,本发明对此不作限制。在其它的实施例中,所述第一冷却板314与所述测量主体210之间还可设置隔热层。
其中,所述第一冷却板314与所述测量主体210螺纹连接处也可填充隔热材料。
所述第二冷却件320包括至少第一连接件321和第二连接件325,所述测量装置150还包括偏振片固定板400,所述偏振片230固定设置在所述偏振片固定板400上。所述第一连接件321与所述第一冷却件310固定连接,所述第二连接件325与所述第三冷却件330固定连接,所述第二连接件325用于将所述偏振片固定板400固定设置在所述第一连接件321上。
具体的,如图3所示,所述第一连接件321为螺杆,所述第一连接件321的一端设置有与所述第一冷却件310固定连接的外螺纹,所述第一连接件321的另一端设置有与所述第二连接件325固定连接的螺孔。所述第二连接件325为螺杆,所述第二连接件325的一端设置有与所述第一连接件321的螺孔固定连接的外螺纹,所述第二连接件325的另一端设置有与所述第三冷却件330固定连接的螺孔。所述偏振片固定板400上设置有与所述第二连接件325相互配合的安装孔。所述第二连接件325穿过所述偏振片固定板400上的安装孔与所述第一连接件321固定连接,且将所述偏振片固定板400固定设置在所述第一连接件321上。
本实施例中,偏振片固定板400上的安装孔的数量与所述第二连接件325的数量相对应,三个第二连接件325穿过偏振片固定板400上的安装孔与对应的第一连接件321螺纹连接,且将所述偏振片固定板400夹紧在所述第一连接件321和所述第二连接件325之间。
所述第一连接件321与所述第一冷却件310螺纹连接处优选填充有隔热材料,所述第二连接件325与所述第一连接件321螺纹连接处优选填充有隔热材料。
所述第三冷却件330呈板状,所述第三冷却件330可与所述第二冷却件320螺纹连接,具体的,可与所述第二冷却件320中的第二连接件325螺纹连接。所述第三冷却件330与所述第二冷却件320螺纹连接处优选填充有隔热材料。
参考图4和图5,图5是本发明实施例一中测量装置150的再一种结构示意图,所述第三冷却件330为Y型板,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上。
优选的,所述第三冷却件330通过粘结剂与图像采集分析单元250固定连接。其中,部分的连接面上设置有粘结剂,部分的连接面上设置有导热介质。
参考图2,所述测量主体210呈板状,所述测量主体210的一侧上设置有所述第一冷却件310,所述测量主体210的另一侧上设置有浸没液160。所述测量主体210固定设置在所述硅片台140上。
参考图2和图3,所述测量装置150还包括准直镜500,所述准直镜500用于调整所述测量光的折射角。所述准直镜500固定设置在所述测量主体210上。测量光进入测量装置150后,依次经过准直镜500、波片220、偏振片230进入图像采集与分析单元。
本实施例中,所述冷却介质仅能从所述第一流道入口312流入所述第一冷却件310中的第一冷却流道311,流经所述第一冷却流道311后,从所述第一流道出口313流出。从所述图像采集分析单元250和所述旋转台240处产生的热量传递到所述第三冷却件330后,仅能通过所述第三冷却件330直接进行冷却,第三冷却件330内未设置可以吸收热量的冷却介质。
实施例二
本实施例提供一种测量装置150。本实施例中的测量装置150与实施例一中的测量装置150的区别在于,本实施例中,所述第一冷却件310内未设置冷却通道,且第一冷却件310内未设置冷却介质,所述第三冷却件330内设置有冷却通道,且冷却通道内设有冷却介质。
参考图6和图7,图6是本发明实施例二中测量装置150的一种结构示意图,图7是本发明实施例二中测量装置150的另一种结构示意图,所述测量装置150包括测量主体210、波片220、偏振片230、旋转台240、图像采集分析单元250和冷却组件。所述旋转台240、所述偏振片230、所述冷却组件和所述图像采集分析单元250设置在所述测量主体210上。所述旋转台240用于驱动所述波片220旋转,测量光经所述波片220、所述偏振片230后进入所述图像采集分析单元250。所述图像采集分析单元250用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差。所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元250和所述旋转台240的热量。
参考图6,所述冷却组件包括第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330。所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240设置在所述第一冷却件310上,所述波片220设置在所述旋转台240上,所述第二冷却件320固定设置在所述第一冷却件310上,所述偏振片230固定设置在所述第二冷却件320上,所述第三冷却件330固定设置在所述第二冷却件320上,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上。也就是说,所述旋转台240通过所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述波片220通过所述旋转台240和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述偏振片230通过所述第二冷却件320和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述图像采集分析单元250通过所述第三冷却件330、所述第二冷却件320和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上。
在其它的实施例中,所述冷却组件可仅包括第一冷却件310,所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240设置在所述第一冷却件310上,所述波片220、所述偏振片230、所述图像采集分析单元250直接或者间接的固定设置在所述测量主体210上,即仅所述旋转台240通过第一冷却件310冷却,未设置冷却元件对所述图像采集分析单元250进行冷却。或者,仅包括第三冷却件330,所述旋转台240、所述波片220、所述偏振片230和所述图像采集分析单元250直接或者间接的固定设置在所述测量主体210上,所述第三冷却件330固定设置在所述测量主体210上,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上,即仅所述图像采集分析单元250通过第三冷却件330冷却,未设置冷却元件对所述旋转台240进行冷却。
由于将所述第三冷却件330固定设置在所述第二冷却件320上,将所述第二冷却件320固定设置在所述第一冷却件310上,将所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,且图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上,因此可通过第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330对所述图像采集分析单元250进行冷却。图像采集分析单元250产生的部分热量可被第三冷却件330吸收,并经所述第三冷却件330、所述第二冷却件320传递给所述第一冷却件310。此外,由于将所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240固定设置在所述第一冷却件310上,因此可通过第一冷却件310吸收旋转台240处产生的热量,并且热量可经第一冷却件310传递给第二冷却件320和第三冷却件330,从而使第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330对所述旋转台240进行冷却,即可使所述第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330同时对所述旋转台240和所述图像采集分析单元250进行冷却,从而可优化测量装置150内部的温度梯度分布,使测量装置150有效冷却,进而可对测量装置150内的温度进行有效控制,避免测量装置150因为温度过高影响测量装置150本身的精度,降低测量装置150的测量稳定性,也可避免测量装置150产生的热量传递给浸没液160,使浸没液160的温度发生变化,影响浸没液160的折射率,使测量装置150的测量结果的稳定性降低。
所述冷却组件具有一冷却流道、流道入口和流道出口,所述冷却流道的一端与所述流道入口连通,另一端与流道出口连通。冷却介质可经所述流道入口流入所述冷却流道,流经所述冷却流道后经所述流道出口流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述冷却件固定连接的旋转台240进行冷却,也可对所述图像采集分析单元250进行冷却,改善冷却效果。其中,所述冷却介质可为恒温去离子水等其他冷却介质。
具体的,本实施例中,所述第一冷却件310为一板件,所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240固定设置在所述第一冷却件310上。所述第一冷却件310与所述测量主体210通过螺纹连接的方式固定连接,且所述第一冷却件310与所述测量主体210之间部分连接面上设置有粘结剂,部分连接面上填充有隔热材料。
所述第二冷却件320的结构与实施例一中的第二冷却件320的结构相同,其中,所述第二冷却件320中的第一连接件321直接与所述第一冷却件310固定连接。第二冷却件320的具体结构在此不再赘述。
本实施例中,所述冷却流道、流道入口和流道出口设置在所述第三冷却件330中。
具体的,参考图7,所述第三冷却件330内设置有第三冷却流道331,所述第三冷却件330开设有与所述第三冷却流道331连通的第三流道入口332和第三流道出口333,所述冷却介质可经所述第三流道入口332流入所述第三冷却流道331,流经所述第三冷却流道331后经所述第三流道出口333流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述第三冷却件330固定连接的图像采集分析单元250进行冷却,也可对所述旋转台240进行冷却,进一步改善冷却效果。即本实施例中,所述冷却组件的冷却流道仅包括第三冷却流道331。所述第三流道入口332为冷却组件的流道入口,所述第三流道出口333为冷却组件的流道出口。
所述第三冷却件330呈板状,所述第三冷却件330可与所述第二冷却件320螺纹连接,具体的,可与所述第二冷却件320中的第二连接件325螺纹连接。所述第三冷却件330与所述第二冷却件320螺纹连接处优选填充有隔热材料。
参考图7,所述第三冷却件330为Y型板,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上。
优选的,所述第三冷却件330通过粘结剂与图像采集分析单元250固定连接。其中,部分的连接面上设置有粘结剂,部分的连接面上设置有导热介质。
本实施例中,所述冷却介质仅能从所述第三流道入口332流入所述第三冷却件330中的第三冷却流道331,流经所述第三冷却流道331后,从所述第三流道出口333流出。从所述图像采集分析单元250和所述旋转台240处产生的热量传递到所述第一冷却件310后,仅能通过所述第一冷却件310直接进行冷却,第一冷却件310内没有可以吸收热量的冷却介质。
实施例三
本实施例提供一种测量装置150。本实施例中的测量装置150与实施例一中的测量装置150的区别在于,本实施例中,第二冷却件320和第三冷却件330内也设置有冷却通道,且冷却通道内有冷却介质,所述第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330内的冷却通道连通。
参考图8和图9,图8是本发明实施例三中测量装置150的一种结构示意图,图9是本发明实施例三中测量装置150的另一种结构示意图,所述测量装置150包括测量主体210、波片220、偏振片230、旋转台240、图像采集分析单元250和冷却组件。所述旋转台240、所述偏振片230、所述冷却组件和所述图像采集分析单元250设置在所述测量主体210上。所述旋转台240用于驱动所述波片220旋转,测量光经所述波片220、所述偏振片230后进入所述图像采集分析单元250。所述图像采集分析单元250用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差。所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元250和所述旋转台240的热量。
参考图8,所述冷却组件包括第一冷却件310、第二冷却件320和第三冷却件330。所述第一冷却件310固定设置在所述测量主体210上,所述旋转台240设置在所述第一冷却件310上,所述波片220设置在所述旋转台240上,所述第二冷却件320固定设置在所述第一冷却件310上,所述偏振片230固定设置在所述第二冷却件320上,所述第三冷却件330固定设置在所述第二冷却件320上,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上。也就是说,所述旋转台240通过所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述波片220通过所述旋转台240和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述偏振片230通过所述第二冷却件320和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上,所述图像采集分析单元250通过所述第三冷却件330、所述第二冷却件320和所述第一冷却件310间接设置在所述测量主体210上。
所述冷却组件具有一冷却流道、流道入口和流道出口,所述冷却流道的一端与所述流道入口连通,另一端与流道出口连通。冷却介质可经所述流道入口流入所述冷却流道,流经所述冷却流道后经所述流道出口流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述冷却件固定连接的旋转台240进行冷却,也可对所述图像采集分析单元250进行冷却,改善冷却效果。其中,所述冷却介质可为恒温去离子水等其他冷却介质。
具体的,本实施例中,所述第一冷却件310具有第一冷却流道311、第一流道入口312和第一流道出口313,所述冷却介质可经所述第一流道入口312流入所述第一冷却流道311,流经所述第一冷却流道311后经所述第一流道出口313流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述第一冷却件310固定连接的旋转台240进行冷却,也可对所述图像采集分析单元250进行冷却,进一步改善冷却效果。
所述第一冷却件310包括第一冷却板314和第二冷却板317,所述第一冷却板314固定设置在所述测量主体210上,所述第二冷却板317固定设置在所述第一冷却板314上,所述第二冷却件320固定设置在所述第二冷却板317上,所述旋转台240固定设置在所述第二冷却板317上。
优选的,所述第一冷却流道311、第一流道入口312和第一流道出口313设置在所述第一冷却板314和所述第二冷却板317之间,所述冷却介质可经所述第一流道入口312流入所述第一冷却流道311,流经所述第一冷却流道311后经所述第一流道出口313流出。所述第一冷却件310的结构与实施例一中的第一冷却件310的结构相似,在此不再赘述。
本实施例中的第二冷却件320与实施例一中的第二冷却件320的不同之处在于,本实施例中,所述第二冷却件320内设置有第二冷却流道326,所述第二冷却件320开设有与所述第二冷却流道326连通的第二流道入口327和第二流道出口328,所述第二流道入口327与所述第一流道出口313连通。所述冷却介质可经所述第二流道入口327流入所述第二冷却流道326,流经所述第二冷却流道326后经所述第三流道出口333流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述第三冷却件330固定连接的图像采集分析单元250进行冷却,也可对所述旋转台240进行冷却,进一步改善冷却效果。其中,所述冷却介质可为恒温去离子水等其他冷却介质。
本实施例中,所述第一冷却件310中第一流道出口313的数量与所述第二冷却件320的数量相对应,冷却介质从多个第一流道出口313流入对应的第二冷却件320的第二流道入口中,并从对应的第二冷却件320的第二流道出口流出。
并且,如图8所示,本实施例中,所述第二冷却件320的具体结构与实施例一中的第二冷却件320的具体结构不相同。
本实施例中,所述第二冷却件320包括第一内腔322、第一开口323和第二开口324,所述第一内腔322与所述第一开口323和第二开口324连通,所述第一开口323为所述第二冷却件320的流道入口,所述第二开口324为所述第二冷却件320的流道出口。所述第一内腔322构成所述第二冷却流道。
具体的,如图8所示,所述第二冷却件320为内部中空且两端开口的螺杆,所述第二冷却件320的一端设置有与所述第一冷却件310固定连接的外螺纹,所述第二冷却件320的另一端设置有与所述第三冷却件330固定连接的螺孔。所述偏振片固定板400上设置有与所述第二冷却件320相互配合的安装孔。所述第二冷却件320穿过所述偏振片固定板400上的安装孔与所述第一冷却件310固定连接,所述偏振片固定板400与所述第二冷却件320固定连接。
本实施例中,参考图8,所述第三冷却件330内设置有第三冷却流道331,所述第三冷却件330开设有与所述第三冷却流道331连通的第三流道入口332和第三流道出口333,所述第三流道入口332与所述第二流道出口连通,所述第三流道入口332的数量与所述第二冷却件320的数量相同。其中,所述第三流道入口332的数量为三个。所述冷却介质可经所述第三冷却流道333入口流入所述第三冷却流道331,流经所述第三冷却流道331后经所述第三冷却流道333出口流出,从而可通过流动的冷却介质对与所述第三冷却件330固定连接的图像采集分析单元250进行冷却,也可对所述旋转台240进行冷却,进一步改善冷却效果。其中,所述冷却介质可为恒温去离子水等其他冷却介质。
所述第三冷却件330呈板状,所述第三冷却件330可与所述第二冷却件320螺纹连接,具体的,可与所述第二冷却件320中的第二连接件325螺纹连接。所述第三冷却件330与所述第二冷却件320螺纹连接处优选填充有隔热材料。
参考图9,所述第三冷却件330为Y型板,所述图像采集分析单元250固定设置在所述第三冷却件330上。
优选的,所述第三冷却件330通过粘结剂与图像采集分析单元250固定连接。其中,部分的连接面上设置有粘结剂,部分的连接面上设置有导热介质。
本实施例中,所述第一流道入口312为所述冷却组件的流道入口,所述第三流道出口333为所述冷却组件的流道出口。如图9所示,所述流道入口设置在所述第一冷却件310上,所述流道出口设置在所述第三冷却件330上。所述冷却介质从所述第一流道入口312流入所述第一冷却件310中的第一冷却流道311,流经所述第一冷却流道311后,从三个所述第一流道出口313流出,经三个所述第二流道入口327流入对应的第二冷却流道326中,之后从对应的所述第二流道出口328经对应的第三流道入口332流入所述第三冷却流道331,再从所述第三流道出口333流出。从所述图像采集分析单元250和所述旋转台240处产生的热量可通过所述第一冷却件310、所述第二冷却件320、所述第三冷却件330,以及所述第一冷却流道311、所述第二冷却流道和所述第三冷却流道331中的冷却介质冷却,对图像采集分析单元250和所述旋转台240的冷却效果较实施例一和实施例二中好,并且,由于冷却介质的流动可进一步优化测量装置150内温度分布,进一步改善测量装置150的稳定性和光刻机的稳定性。
在其它的实施例中,所述冷却介质可以相反的流动方向流动。具体的,冷却介质可从第三流道出口333流入第三冷却流道331,之后从第三流道入口332流入对应的第二流道出口,并进入第二冷却流道中,之后从第二流道入口流入第一冷却流道311中,最后从第一流道入口312流出。
从所述图像采集分析单元250和所述旋转台240处产生的热量可通过所述第一冷却件310、所述第二冷却件320、所述第三冷却件330,以及所述第一冷却流道311、所述第二冷却流道326和所述第三冷却流道331中的冷却介质冷却,对图像采集分析单元250和所述旋转台240的冷却效果较实施例一和实施例二中好,并且,由于冷却介质的流动可进一步优化测量装置150内温度分布,进一步改善测量装置150的稳定性和光刻机的稳定性。
实施例四
本实施例提供一种测量装置150。本实施例中的测量装置150与实施例三中的测量装置150的区别在于,本实施例中,所述冷却组件包括至少两组流道入口和流道出口。
具体的,参考图10,图10是本发明实施例四中测量装置150的一种结构示意图,所述冷却组件包括两组流道入口和流道出口。第一冷却件310包括两个第一流道入口312,所述第三冷却件330包括两个第三流道出口333,冷却介质可分别从两个所述第一流道入口312流入所述第一冷却流道311中,并从两个所述第三流道出口333流出。即两个第一流道入口312分别为两个流道入口,两个第一流道出口313分别为两个流道出口。一个所述第一流道入口312与一个所述第三流道出口333为一组。在其它的实施例中,所述冷却组件中的流道入口和流道出口的数量还可为三组、四组或者其它,本发明对此不做限制。
如图10所示,两个所述流道入口设置在所述第一冷却件310上,两个所述流道出口设置在所述第三冷却件330上。所述冷却介质从两个所述第一流道入口312流入所述第一冷却件310中的第一冷却流道311,流经所述第一冷却流道311后,从三个所述第一流道出口313流出,经三个所述第二流道入口327流入对应的第二冷却流道326中,之后从对应的所述第二流道出口328经对应的第三流道入口332流入所述第三冷却流道331,再从两个所述第三流道出口333流出。从所述图像采集分析单元250和所述旋转台240处产生的热量可通过所述第一冷却件310、所述第二冷却件320、所述第三冷却件330,以及所述第一冷却流道311、所述第二冷却流道326和所述第三冷却流道331中的冷却介质冷却,对图像采集分析单元250和所述旋转台240的冷却效果较实施例一和实施例二中好,并且,由于冷却介质的流动可进一步优化测量装置150内温度分布,进一步改善测量装置150的稳定性和光刻机的稳定性。
在其它的实施例中,冷却介质可从两个第一流道入口312中的一个流入,从两个第一流道入口312中的另一个流出,也可从两个第三流道出口333中的一个流入,从两个第三流道出口333中另一个流出,只要冷却介质可流经第一冷却流道311、第二冷却流道326和第三冷却流道331即可。
实施例五
本实施例提供一种测量装置150。本实施例中的测量装置150与实施例三中的测量装置150的区别在于,本实施例中,所述冷却组件中的流道入口和流道出口均设置在所述第三冷却件330上。
具体的,本实施例中,所述第一冷却件310仅具有第一冷却流道311和第一流道出口313,所述冷却介质可从一个所述第一流道出口313流入所述第一冷却流道311并从另一个第一流道出口313流出。
所述第三冷却件330中的所述第三流道出口333的数量为两个,冷却介质从一个所述第三流道出口333流入所述第三冷却流道331中,流经所述第二冷却流道、所述第一冷却流道311后,再从所述第二冷却流道流入所述第三冷却流道331中,并从所述第三流道出口333流出。
实施例六
本实施例提供一种测量装置150。本实施例中的测量装置150与实施例三中的测量装置150的区别在于,本实施例中,所述冷却组件中的流道入口和流道出口均设置在所述第一冷却件310上。
具体的,本实施例中,所述第三冷却件330仅具有第三冷却流道331和第三流道入口332,所述冷却介质可从一个所述第三流道入口332流入所述第三冷却流道331并从另一个第三流道入口332流入第二冷却流道中。
所述第一冷却件310中的所述第一流道入口312的数量为两个,冷却介质从一个所述第一流道入口312流入所述第一冷却流道311中,流经所述第二冷却流道后,从部分所述第三流道入口332进入第三冷却流道331中,并从部分所述第三流道入口332再次流入第二冷却流道中,之后流回至第一冷却流道311中,并从另一个第一流道入口312流出。
实施例七
本实施例提供一种光刻机,所述光刻机包括上述实施例中的测量装置150。所述光刻机还包括投影物镜110、浸没头120、浸没液160、工件台130和硅片台140。所述硅片台140设置在所述工件台130上,所述投影物镜110设置在所述硅片台140上方,所述浸没头120设置在所述投影物镜110和所述硅片台140之间,所述投影物镜110、所述浸没头120和所述硅片台140之间设置有浸没液160。所述测量装置150设置在所述硅片台140上,位于所述投影物镜110的下方,且被所述浸没液160包覆。所述测量装置150测量投影物镜110的偏振相差时,从所述投影物镜110出射的测量光经过所述浸没液160后进入所述测量装置150中。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述,并非对本发明范围的任何限定,本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰,均属于权利要求书的保护范围。
Claims (12)
1.一种测量装置,用于检测测量光的偏振相差,包括测量主体、波片、偏振片、旋转台和图像采集分析单元,所述旋转台、所述偏振片和所述图像采集分析单元设置在所述测量主体上,所述旋转台用于驱动所述波片旋转,所述测量光经所述波片、所述偏振片后进入所述图像采集分析单元,所述图像采集分析单元用于采集、分析所述测量光并获得偏振相差,其特征在于,所述测量装置设置在硅片台上并位于投影物镜的下方,所述测量装置还包括冷却组件,所述冷却组件用于吸收所述图像采集分析单元和/或所述旋转台的热量;
其中,所述冷却组件包括第一冷却件、至少两个第二冷却件和第三冷却件,所述第一冷却件固定设置在所述测量主体上,所述旋转台设置在所述第一冷却件上,所述波片设置在所述旋转台上,所述第二冷却件固定设置在所述第一冷却件上,所述偏振片固定设置在所述第二冷却件上,所述第三冷却件固定设置在所述第二冷却件上,所述图像采集分析单元固定设置在所述第三冷却件上。
2.如权利要求1所述的测量装置,其特征在于,所述冷却组件具有一冷却流道、流道入口和流道出口,所述冷却流道的一端与所述流道入口连通,另一端与流道出口连通,冷却介质可从所述流道入口流入所述冷却流道并从所述流道出口流出所述冷却流道。
3.如权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述冷却流道设置在所述第一冷却件中,所述流道入口和所述流道出口设置在所述第一冷却件上。
4.如权利要求3所述的测量装置,其特征在于,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述冷却流道、流道入口和流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间。
5.如权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述冷却流道设置在所述第三冷却件中,所述流道入口和所述流道出口设置在所述第三冷却件上。
6.如权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述冷却流道设置在所述第一冷却件、所述第二冷却件和所述第三冷却件中,所述流道入口和所述流道出口设置在所述第一冷却件和/或所述第三冷却件上。
7.如权利要求6所述的测量装置,其特征在于,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道、第一流道入口和第一流道出口,所述第一冷却流道的一端与所述第一流道入口连通,所述第一冷却流道的另一端与所述第一流道出口连通,所述第一冷却流道、所述第一流道入口和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;
所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;
所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三冷却流道的另一端与所述第三流道出口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通;
其中,所述第一流道入口和所述第三流道出口中的一个为流道入口,另一个为流道出口。
8.如权利要求6所述的测量装置,其特征在于,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道和第一流道出口,所述第一冷却流道和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;
所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;
所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三冷却流道的另一端与所述第三流道出口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通,所述第三流道出口的数量为至少两个;
其中,两个所述第三流道出口中的一个为流道入口,另一个为流道出口。
9.如权利要求6所述的测量装置,其特征在于,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道、第一流道入口和第一流道出口,所述第一冷却流道的一端与所述第一流道入口连通,所述第一冷却流道的另一端与所述第一流道出口连通,所述第一冷却流道、所述第一流道入口和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;
所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;
所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通;
其中,两个所述第一流道入口中的一个为流道入口,另一个为流道出口。
10.如权利要求6所述的测量装置,其特征在于,所述第一冷却件包括第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板固定设置在所述测量主体上,所述第二冷却板固定设置在所述第一冷却板上,所述第二冷却件固定设置在所述第二冷却板上,所述旋转台固定设置在所述第二冷却板上,所述第一冷却件包括第一冷却流道、第一流道入口和第一流道出口,所述第一冷却流道的一端与所述第一流道入口连通,所述第一冷却流道的另一端与所述第一流道出口连通,所述第一冷却流道、所述第一流道入口和所述第一流道出口设置在所述第一冷却板和所述第二冷却板之间;
所述第二冷却件包括第二冷却流道、第二流道入口和第二流道出口,所述第二冷却流道的一端与所述第二流道入口连通,所述第二冷却流道的另一端与所述第二流道出口连通,所述第一流道出口的数量与所述第二冷却件的数量相对应,所述第二流道入口与所述第一流道出口连通;
所述第三冷却件包括第三冷却流道、第三流道入口和第三流道出口,所述第三冷却流道的一端与所述第三流道入口连通,所述第三冷却流道的另一端与所述第三流道出口连通,所述第三流道入口的数量与所述第二冷却件的数量相同,所述第三流道入口与所述第二流道出口连通,所述第三流道出口的数量为至少两个;
其中,两个所述第一流道入口中的一个为流道入口,另一个为流道出口,两个所述第三流道出口中的一个为流道入口,另一个为流道出口;或者,两个所述第一流道入口均为流道入口,两个所述第三流道出口均为流道出口。
11.如权利要求7-10任一项所述的测量装置,其特征在于,所述第二冷却件包括第一连接件和第二连接件,所述测量装置还包括偏振片固定板,所述偏振片固定设置在所述偏振片固定板上,所述第一连接件与所述第一冷却件固定连接,所述第二连接件与所述第三冷却件固定连接,所述第二连接件用于将所述偏振片固定板固定设置在所述第一连接件上。
12.一种光刻机,其特征在于,所述光刻机还包括投影物镜、浸没头、浸没液、工件台、硅片台,以及如权利要求1-11任一项所述的测量装置,所述硅片台设置在所述工件台上,所述投影物镜设置在所述硅片台上方,所述浸没头设置在所述投影物镜和所述硅片台之间,所述投影物镜、所述浸没头和所述硅片台之间设置有浸没液,所述测量装置设置在所述硅片台上,位于所述投影物镜的下方,且被所述浸没液包覆。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910759825.4A CN112394620B (zh) | 2019-08-16 | 2019-08-16 | 测量装置和光刻机 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Country Status (1)
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CN (1) | CN112394620B (zh) |
Citations (3)
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---|---|---|---|---|
WO2003028073A1 (fr) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | Nikon Corporation | Dispositif et procede de mesure d'aberration, procede de regulation de systeme optique, et systeme d'exposition muni d'un systeme optique regule par ce procede de regulation |
CN101253451A (zh) * | 2005-06-13 | 2008-08-27 | Asml荷兰有限公司 | 被动式掩模版工具、光刻设备以及在光刻工具中对器件图案化的方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003028073A1 (fr) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | Nikon Corporation | Dispositif et procede de mesure d'aberration, procede de regulation de systeme optique, et systeme d'exposition muni d'un systeme optique regule par ce procede de regulation |
CN101253451A (zh) * | 2005-06-13 | 2008-08-27 | Asml荷兰有限公司 | 被动式掩模版工具、光刻设备以及在光刻工具中对器件图案化的方法 |
CN102388344A (zh) * | 2009-04-13 | 2012-03-21 | Asml荷兰有限公司 | 具有冷却布置的检测器模块、包括所述检测器模块的光刻设备 |
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