CN112384833B - 光学膜、光学层叠体以及液晶显示装置 - Google Patents

光学膜、光学层叠体以及液晶显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种光学膜,其由热塑性降冰片烯系树脂形成,上述热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR大于2900×10‑12Pa‑1、玻璃化转变温度Tg为125℃以上,上述光学膜的厚度方向的延迟Rth与厚度d的比(Rth/d)为3.5×10‑3以上,该光学膜为拉伸膜。本发明还可提供具有该光学膜的光学层叠体以及具有该光学层叠体的液晶显示装置。

Description

光学膜、光学层叠体以及液晶显示装置
技术领域
本发明涉及光学膜、光学层叠体以及液晶显示装置。
背景技术
一直以来,已知由热塑性树脂形成的光学膜。例如,在专利文献1中公开了包含热塑性降冰片烯树脂的光学膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-238705号公报(对应公报:美国专利申请公开第2004/057141号说明书)。
发明内容
发明要解决的问题
在用于液晶显示装置的光学膜中,要求相位差显现性优异、厚度方向的延迟Rth高的光学膜。作为使用现有的由热塑性树脂形成的膜来得到厚度方向的延迟Rth高的光学膜的方法,可以考虑以高拉伸倍率进行拉伸。然而,在将以高拉伸倍率进行拉伸所得到的膜与其他构件粘接的情况下,有时会发生因膜的表面附近部分被破坏而导致该膜从其他构件上剥离的现象(分层)。
本发明是鉴于上述问题而提出的,其目的在于提供一种光学膜、具有该光学膜的光学层叠体、以及具有该光学层叠体的液晶显示装置,该光学膜的相位差显现性优异、厚度方向的延迟高,且抑制了分层的发生。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究。结果本发明人发现,通过使用应力双折射CR大、玻璃化转变温度Tg高的热塑性降冰片烯系树脂作为光学膜的材料,且使光学膜的厚度方向的延迟Rth与厚度d的比(Rth/d)在规定值以上,从而能够解决上述问题,完成了本发明。
即,本发明包含下述内容。
[1]一种光学膜,其由热塑性降冰片烯系树脂形成,
上述热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR大于2900×10-12Pa-1、玻璃化转变温度Tg为125℃以上,
上述光学膜的厚度方向的延迟Rth与厚度d的比(Rth/d)为3.5×10-3以上,
上述光学膜为拉伸膜。
[2]根据[1]记载的光学膜,其中,面内方向的延迟Re为40nm以上且80nm以下。
[3]根据[1]或[2]记载的光学膜,其中,上述热塑性降冰片烯系树脂包含聚合物,上述聚合物包含具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元。
[4]根据[3]记载的光学膜,其中,上述聚合物包含25重量%以上的上述具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元。
[5]一种光学层叠体,其具有[1]~[4]中任一项所记载的光学膜和设置在上述光学膜上的偏振片。
[6]一种液晶显示装置,其具有[5]所记载的光学层叠体。
发明效果
根据本发明,能够提供一种光学膜、具有该光学膜的光学层叠体、以及具有该光学层叠体的液晶显示装置,该光学膜的相位差显现性优异、厚度方向的延迟高,且能够抑制产生分层。
具体实施方式
以下示出实施方式和示例物对本发明进行详细地说明。但是,本发明并不限定于以下所示的实施方式和示例物,在不脱离本发明的保护范围及与其同等的范围的范围内可以任意地变更实施。
在以下的说明中,除非另有说明,膜的面内延迟Re为Re=(nx-ny)×d所表示的值。此外,除非另有说明,膜的厚度方向的延迟Rth为Rth={(nx+ny)/2-nz}×d所表示的值。在此,nx表示在垂直于膜厚度方向的方向(面内方向)中给与最大折射率的方向的折射率。ny表示在上述面内方向中正交于nx方向的方向的折射率。nz表示厚度方向的折射率。d表示膜的厚度。除非另有说明,测定波长为550nm。
在以下的说明中,除非另有说明,结构要素的方向“平行”、“垂直”或“正交”在不损害本发明的效果的范围内,可以包含例如通常±5°、优选±2°、更优选±1°的范围内的误差。
在以下的说明中,MD方向(machine direction,机器方向)是制造线中膜的传送方向,TD方向(traverse direction,横贯方向)是在与膜表面平行的方向中与MD方向垂直的方向。此外,为了方便,有时候也将长条状的膜的长度方向称为膜的MD方向、将宽度方向称为膜的TD方向。
在以下的说明中,“长条状”的膜是指相对于膜的宽度具有5倍以上的长度的膜,优选具有10倍或其以上的长度,具体而言是指具有可卷成辊状而被保存或运送的程度的长度的膜。膜的长度与宽度的比例上限没有特别限定,可设为例如100000倍以下。
在以下的说明中,除非另有说明,“偏振片”不仅包含刚直的构件,还包含例如树脂制的膜这样的具有可挠性的构件。
[1.光学膜]
本发明的光学膜是由热塑性降冰片烯系树脂形成的膜。光学膜是将作为光学膜材料的膜进行拉伸而得到的拉伸膜。在以下的说明中,也将作为光学膜材料的膜称为“拉伸前膜”。
(热塑性降冰片烯系树脂)
热塑性降冰片烯系树脂包含聚合物。作为热塑性降冰片烯系树脂所包含的聚合物,能够举出例如:具有降冰片烯结构的单体的开环聚合物或具有降冰片烯结构的单体与其他单体的开环共聚物、或者它们的氢化物;具有降冰片烯结构的单体的加成聚合物或具有降冰片烯结构的单体与其他单体的加成共聚物、或者它们的氢化物等。
作为具有降冰片烯结构的单体,可举出:双环[2.2.1]庚-2-烯(常用名:降冰片烯)、三环[4.3.0.12,5]癸-3,7-二烯(常用名:双环戊二烯,也称为“DCPD”)、四环[4.4.0.12 ,5.17,10]十二碳-3-烯(常用名:四环十二碳烯,也称为“TCD”)以及这些化合物的衍生物(例如,在环上有取代基的衍生物)等。在此,作为取代基,能够举出例如烷基、亚烷基、极性基团等。此外,这些取代基可以相同或不同、多个键合成环。具有降冰片烯结构的单体能够单独使用1种、或组合使用2种以上。
作为极性基团的种类,可举出杂原子或具有杂原子的原子团等。作为杂原子,可举出氧原子、氮原子、硫原子、硅原子、卤原子等。作为极性基团的具体例子,可举出羧基、羰氧基羰基、环氧基、羟基、氧基、酯基、硅烷醇基、甲硅烷基、氨基、腈基、磺酸基等。为了得到饱和吸水率小的膜,优选极性基团的量少的膜,更优选不具有极性基团的膜。
作为具有降冰片烯结构的单体,从相位差显现性优异的观点出发,可以与上述的具有降冰片烯结构的单体一起使用或者代替上述单体而使用具有芳香环结构的降冰片烯系单体。
作为具有芳香环结构的降冰片烯系单体,可举出5-苯基-2-降冰片烯、5-(4-甲基苯基)-2-降冰片烯、5-(1-萘基)-2-降冰片烯、9-(2-降冰片烯-5-基)-咔唑等具有芳香族取代基的降冰片烯系单体;1,4-甲桥-1,4,4a,4b,5,8,8a,9a-八氢芴、1,4-甲桥-1,4,4a,9a-四氢芴(常用名:甲桥四氢芴、以下也称为“MTF”)、1,4-甲桥-1,4,4a,9a-四氢二苯并呋喃、1,4-甲桥-1,4,4a,9a-四氢咔唑、1,4-甲桥-1,4,4a,9,9a,10-六氢蒽、1,4-甲桥-1,4,4a,9,10,10a-六氢菲等稠环结构中具有降冰片烯环结构和芳香环结构的降冰片烯系单体等。这些单体能够单独使用1种、或组合使用2种以上。
具有芳香环结构的降冰片烯系单体可以具有取代基。作为取代基,可举出甲基、乙基、丙基、异丙基等烷基;亚烷基;烯基;氟基、氯基、溴基、碘基等卤素基团;羟基;酯基;烷氧基;氰基;酰胺基;酰亚胺基;甲硅烷基等。具有芳香环结构的降冰片烯系单体可以具有2种以上的这些取代基。
作为能够与具有降冰片烯结构的单体开环共聚的其他单体,可举出环己烯、环庚烯、环辛烯等单环状烯烃类及其衍生物;环己二烯、环庚二烯等环状共轭二烯及其衍生物等。
具有降冰片烯结构的单体的开环聚合物以及具有降冰片烯结构的单体与能够共聚的其他单体的开环共聚物能够通过在公知的开环聚合催化剂的存在下将单体(共聚)聚合而得到。
作为能够与具有降冰片烯结构的单体加成共聚的其他单体,可举出例如乙烯、丙烯、1-丁烯等碳原子数为2~20的α-烯烃及它们的衍生物;环丁烯、环戊烯、环己烯等环烯烃及它们的衍生物;1,4-己二烯、4-甲基-1,4-己二烯、5-甲基-1,4-己二烯等非共轭二烯等。这些单体能够单独使用1种、或组合使用2种以上。在这些中,优选α-烯烃、更优选乙烯。
具有降冰片烯结构的单体的加成聚合物以及具有降冰片烯结构的单体与能够共聚的其他单体的加成共聚物能够通过在公知的加成聚合催化剂的存在下将单体聚合而得到。
具有降冰片烯结构的单体的开环聚合物的氢化物、具有降冰片烯结构的单体与能够与其开环共聚的其他单体的开环共聚物的氢化物、具有降冰片烯结构的单体的加成聚合物的氢化物以及具有降冰片烯结构的单体与能够与其加成共聚的其他单体的加成共聚物的氢化物能够通过在这些开环(共)聚合物或加成(共)聚合物的溶液中添加包含镍、钯等过渡金属的公知的氢化催化剂,使其接触氢、将碳-碳不饱和键进行氢化,由此来得到。
在本发明中,从相位差显现性优异的观点出发,作为聚合物,优选非芳香族性的不饱和键被选择性氢化而得到的开环(共)聚合物中包含具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元的开环(共)聚合物。在此,“单体单元”是指具有将该单体进行聚合所形成的结构的结构单元。
包含具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元的聚合物能够通过在上述开环(共)聚合物或加成(共)聚合物的溶液中添加钌催化剂、使其接触氢而得到。作为钌催化剂,可举出:(1,3-二(均三甲苯基)咪唑烷-2-亚基)(三环己基膦)苯基亚甲基二氯化钌、氯代氢羰基三(三苯基膦)钌、双(三环己基膦)亚苄基钌(IV)二氯化物、三(三苯基膦)二氯化钌、羰基三(三苯基膦)二氯化钌。通过利用1H-NMR对该氢化结果中所得到的产物进行分析,能够分析主链结构中是否存在碳-碳双键、并与芳香族环结构中的不饱和键相区别。因此,通过该1H-NMR分析,可以确认非芳香族性的不饱和键是否被选择性地氢化。
在聚合物包含具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元的情况下,聚合物中的具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元的量优选为25重量%以上,更优选为40重量%以上,优选为80重量%以下,更优选为60重量%以下。当聚合物中的具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元的量在下限值以上时,能够提高应力双折射CR,能够在抑制对拉伸前膜进行拉伸时的拉伸倍率的同时提高光学膜的Rth。
热塑性降冰片烯系树脂所包含的聚合物的分子量可根据光学膜的使用目的进行适当选择,以通过使用环己烷(在树脂不溶的情况下用甲苯)作为溶剂的凝胶渗透色谱法所测定的聚异戊二烯(溶剂为甲苯时为聚苯乙烯)换算的重均分子量(Mw)计,优选为10000~100000、更优选为15000~80000、特别优选为20000~60000。在重均分子量为这样的范围时,膜的机械强度和成型性高度地平衡,因此优选。
热塑性降冰片烯系树脂所包含的聚合物的分子量分布(重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn))没有特别限定,通常为1.0~10.0、优选为1.0~5.0、更优选为1.0~3.5的范围。
热塑性降冰片烯系树脂可以包含除聚合物以外的任意成分。作为任意成分,可举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、热稳定剂、光稳定剂、防静电剂、分散剂、氯捕获剂、阻燃剂、结晶成核剂、增强剂、抗粘连剂、防雾剂、脱模剂、颜料、有机或无机的填充剂、中和剂、润滑剂、分解剂、金属钝化剂、防污染剂、以及抗菌剂。
作为紫外线吸收剂的例子,可举出氧基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂、丙烯腈系紫外线吸收剂、三嗪系化合物、镍配位化合物盐系化合物以及无机粉体等。优选的紫外线吸收剂的例子可举出:2,2'-亚甲基双(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚)、2-(2'-羟基-3'-叔丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2,4-二叔丁基-6-(5-氯苯并三唑-2-基)苯酚、2,2'-二羟基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羟基二苯甲酮。特别优选的例子可举出2,2'-亚甲基双(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚)。
在热塑性降冰片烯系树脂含有紫外线吸收剂的情况下,紫外线吸收剂的含量优选相对于100重量%的热塑性降冰片烯树脂为0.5~5重量%。
(热塑性降冰片烯系树脂的物性值)
在本发明中,热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR大于2900×10-12Pa-1。热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR优选为2910×10-12Pa-1以上,更优选为3000×10-12Pa-1以上,优选为8000×10-12Pa-1以下,优选为6000×10-12Pa-1以下。通过使热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR大于2900×10-12Pa-1,能够在抑制对拉伸前膜进行拉伸时的拉伸倍率的同时提高光学膜的Rth。通过使热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR在上限值以下,能够易于控制膜的Re和Rth,抑制面内偏差。
应力双折射CR能够通过改变在制造热塑性降冰片烯系树脂所包含的聚合物时使用的单体的比例来进行控制。例如,当使上述具有芳香环结构的降冰片烯系单体的比例多时,可以使应力双折射CR增大。
应力双折射CR可以通过例如以下的方法进行测定。
将热塑性降冰片烯系树脂成型为片状制作样品,用夹具固定该样品的两端后,在一侧的夹具上固定规定重量(例如160g)的重物。接着,在设定了规定温度(例如树脂的玻璃化转变温度(Tg)+5℃)的烘箱内,将没有固定重物的一侧的夹具作为支承点,将片材吊起规定时间(例如1小时),进行拉伸处理。将进行了拉伸处理的样品片材缓慢冷却直至恢复到室温,将其作为测定试样。对于该测定试样,使用双折射对测定试样中心部分的延迟值(anm)和测定试样中心部分的厚度(bmm)进行测定。使用该测定值(a、b),通过下述式(1)计算δn值。
δn=a×(1/b)×10-6 (1)
能够使用该δn值和对样品施加的应力(在上述情况下,为固定规定的重物时施加的应力),通过下述式(2)计算CR
CR=δn/应力 (2)
热塑性降冰片烯树脂的玻璃化转变温度Tg为125℃以上。玻璃化转变温度Tg优选为130℃以上,更优选为135℃以上,优选为180℃以下,更优选为160℃以下。通过使玻璃化转变温度Tg为125℃以上,可以使光学膜的耐热性和耐久性优异。Tg可以使用差示扫描热量仪进行测定。
(拉伸前膜)
作为光学膜材料的拉伸前膜是由上述热塑性降冰片烯系树脂形成的膜。
拉伸前膜可以通过使用公知的方法例如浇铸成型法、挤出成型法、吹胀成型法等将热塑性降冰片烯系树脂成型为膜状来制造。
(光学膜)
光学膜通过将拉伸前膜进行拉伸而得到。将拉伸前膜进行拉伸而制成光学膜时的拉伸条件能够适当选择以得到期望的光学特性。例如,在将拉伸前膜进行拉伸而制成光学膜时的拉伸方式可以为单轴拉伸、双轴拉伸(同时双轴拉伸、逐次双轴拉伸)等任意的方式。这些方式中,优选双轴拉伸。此外,在拉伸前膜为长条状的膜的情况下,拉伸方向可以为纵向(与长条状的膜的长度方向平行的方向)、横向(与长条状的膜的宽度方向平行的方向)以及斜向(既非纵向也非横向的方向)中的任一个。
在对拉伸前膜进行拉伸而制成光学膜时的拉伸倍率优选为1.4以上,更优选为1.5以上,优选为2.2以下,更优选为2.1以下。当拉伸倍率在上述范围的上限值以下时,能够更有效地抑制产生分层,当拉伸倍率为上述范围的下限值以上时,能够提高Rth。在通过MD方向和TD方向的双轴拉伸对拉伸前膜进行拉伸的情况下,优选使MD方向的拉伸倍率和TD方向的拉伸倍率的积在上述范围。
在对拉伸前膜进行拉伸而制成光学膜时的拉伸温度优选为Tg℃以上,更优选为(Tg+5)℃以上,另一方面优选为(Tg+40)℃以下,更优选为(Tg+30)℃以下。通过使拉伸温度在上述范围,可得到更均匀膜厚的光学膜。
(光学膜的物性值)
光学膜的厚度d优选为30μm以上,更优选为40μm以上,优选为150μm以下,更优选为100μm以下。通过使光学膜的厚度在下限值以上,从而能够有效地抑制产生分层,通过使光学膜的厚度在上限值以下,能够使组装了光学膜的装置薄型化。
在本发明中,光学膜的厚度方向的延迟Rth与厚度d的比(Rth/d)为3.5×10-3以上。Rth/d优选为3.5×10-3以上,更优选为4.0×10-3以上,优选为8.0×10-3以下,更优选为6.0×10-3以下。通过使Rth/d为3.5×10-3以上,能够制成Rth高、厚度小的光学膜,由此能够得到光学补偿性优异的膜。通过使Rth/d为上限值以下,能够更有效地抑制行产生分层。
光学膜的面内方向的延迟Re优选为40nm以上,更优选为50nm以上,优选为80nm以下,更优选为70nm以下。通过使Re为下限值以上,能够使相位差显现性良好,通过使Re为上限值以下,能够抑制面内偏差。延迟Re可以从上述范围内适当选择,以适合于显示装置的设计。
(光学层叠体)
本发明的光学层叠体具有本发明的光学膜和设置在其上的偏振片。
作为偏振片,可以使用在由含二向色性物质的聚乙烯醇系偏振膜等形成的起偏器的一侧或两侧经由例如粘接层粘接了作为保护层的膜(保护膜)而成的偏振片。
作为起偏器(偏振膜),能够使用例如如下的起偏器:对由聚乙烯醇、部分甲缩醛化聚乙烯醇等乙烯醇系聚合物形成的膜实施利用碘、二向色性染料等二向色性物质的染色处理、拉伸处理、交联处理等处理而成的起偏器。作为起偏器,可以使用在入射自然光时会透过线偏振光的起偏器。
作为设置在起偏器(偏振膜)的一侧或两侧的透明保护层的保护膜材料,能够使用透明膜。作为透明膜,可优选使用由透明性或机械强度、热稳定性或防潮性等优异的树脂形成的膜等。作为这样的树脂的例子,可举出三醋酸纤维素等醋酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚醚磺酸系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、降冰片烯系树脂、丙烯酸系树脂等。从双折射小的观点出发,优选醋酸酯系树脂或降冰片烯系树脂,从透明性、低吸湿性、尺寸稳定性、轻量性等观点出发,特别优选降冰片烯系树脂。
保护膜的厚度是任意的,但为了使偏振片薄型化等,通常为500μm以下,优选为5~300μm,特别优选为5~150μm。
光学膜与偏振片的层叠可以通过经由粘接它们的层而将它们贴合来进行。作为该层的例子,可举出粘接剂的层以及粘合剂的层。作为粘接剂或粘合剂,可举出例如丙烯酸系、硅烷系、聚酯系、聚氨酯系、聚醚系、橡胶系等。在这些中,从耐热性、透明性等观点出发,优选丙烯酸系的粘接剂或粘合剂。
在本发明的光学层叠体中,本发明的光学膜能够兼顾层叠的偏振片的保护膜,使构件薄型化。此外,光学膜与偏振片的层叠能够通过辊对辊(roll to roll)进行,得到长条状的光学层叠体。光学层叠体中的光学膜的慢轴与偏振片的吸收轴所成的角度可以设为90°±1°的范围内。
本发明的光学层叠体的厚度优选为30μm以上,更优选为40μm以上,优选为150μm以下,更优选为100μm以下。
[液晶显示装置]
本发明的液晶显示装置具有本发明的光学层叠体。本发明的液晶显示装置在液晶单元的至少一侧具有本发明的光学层叠体。
在液晶显示装置中,光学膜通常设置在液晶显示装置的液晶单元与观察侧起偏器之间。在这样的结构中,光学膜能够发挥视角补偿膜的功能。
液晶单元可以使用例如:平面转换(IPS)模式、垂直对齐(VA)模式、多畴垂直配向(MVA)模式、连续焰火状排列(CPA)模式、混合排列向列(HAN)模式、扭曲向列(TN)模式、超扭曲向列(STN)模式、光学补偿弯曲(OCB)模式等任意模式的液晶单元。
在液晶单元的两侧设置偏振片的情况下,偏振片可以相同也可以不同。
在本发明的液晶显示装置中,为了将本发明的光学层叠体与液晶单元粘接,可以设置粘合层。粘合层能够使用丙烯酸系等现有公知的粘合剂来适当形成。其中,从防止因吸湿导致的发泡现象、剥离现象,防止因热膨胀差等导致的光学特性降低、液晶单元的卷曲、或从高品质且耐久性优异的液晶显示装置的形成性等的方面出发,优选吸湿率低耐热性优异的粘合层。此外,可以为含有微粒显示光扩散性的粘合层等。
实施例
以下,示出实施例对本发明进行具体地说明。但是,本发明并不限定于以下的实施例,在不脱离本发明的保护范围及与其同等的范围的范围内可任意地变更实施。
在以下的说明中,除非另有说明,表示量的“%”和“份”为重量基准。除非另有说明,以下的操作在常温常压大气中进行。
[聚合物的物性值的测定方法和计算方法]
(重均分子量(Mw)、数均分子量(Mn)和分子量分布(Mw/Mn)的测定)
聚合物(开环聚合物和聚合物(1)~(3)、聚合物(C1)~(C5))的重均分子量(Mw)和数均分子量(Mn)通过以环己烷作为洗脱液的凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定,作为标准聚异戊二烯换算值而求出。
作为标准聚异戊二烯,使用TOSOH CORPORATION制造标准聚异戊二烯(Mw=602、1390、3920、8050、13800、22700、58800、71300、109000、280000)。
测定使用3根串联连接的TOSOH CORPORATION制柱(TSK gel G5000HXL、TSKgelG4000HXL以及TSK gel G2000HXL),在流速1.0mL/分钟、样品注入量100μL、柱温40℃的条件下进行。
分子量分布(Mw/Mn)使用通过上述方法测定的测定值而算出。
(玻璃化转变温度(Tg)的测定)
聚合物(1)~(3)、聚合物(C1)~(C5)的玻璃化转变温度(Tg)使用差示扫描型量热仪(Nano Technology制,产品名:DSC 6220SII),基于JIS K 6911,在升温速度为10℃/分钟的条件下进行测定。
(应力双折射CR的测定)
将聚合物(1)~(3)、聚合物(C1)~(C5)分别成型为35mm×10mm×1mm的片状,制作样品。将该样品的两端用夹具固定后,在一侧的夹具上固定160g的重物。接着,在将温度设定为聚合物的玻璃化转变温度(Tg)+5℃的烘箱内,将没有固定重物的一侧的夹具作为支承点,将片材吊起1小时,进行拉伸处理,然后缓慢冷却直至恢复到室温,将其作为测定试样。
使用双折射计(Photonic Lattice,Inc.制,WPA-100)对上述测定试样测定在波长650nm的光的测定试样中心部的延迟值(将该测定值设为anm。)。此外,对测定试样中心部分的厚度进行测定(该测定值设为bmm。)。
使用测定值a和b,通过下述式(1)算出δn值。
δn=a×(1/b)×10-6 (1)
使用该δn值和对样品施加的应力,通过下述式(2)算出CR
CR=δn/应力 (2)
(确认降冰片烯系开环共聚物氢化物中是否存在芳香环)
通过1H-NMR分析氢化前的聚合物和氢化后的聚合物。分析时,使用氘代氯仿作为溶剂。根据分析的结果求出非芳香族性的不饱和键的氢化率和芳香族性的不饱和键的氢化率。根据该结果,确认降冰片烯系开环共聚物氢化物中是否存在芳香环。
[制造例1:聚合物(1)的制造]
(1-1)开环聚合物的制造
在内部进行了氮置换的玻璃制反应容器中,加入0.05重量份的作为聚合催化剂的(1,3-二(均三甲苯基)咪唑烷-2-亚基)(三环己基膦)苯基亚甲基二氯化钌、500重量份的甲苯、作为单体的50重量份的1,4-甲桥-1,4,4a,9a-四氢化芴(MTF)、20重量份的四环十二碳烯(TCD)、30重量份的双环戊二烯(DCPD)以及0.75重量份的作为链转移剂的1-己烯,将全部内容物在60℃搅拌2小时,进行开环聚合。所得到的开环聚合物的Mw为3.3×104,分子量分布(Mw/Mn)为2.3。此外,单体向聚合物的转化率为100%。
(1-2)聚合物(1)的制造
接着,将300份的包含在(1-1)中得到的开环聚合物的反应溶液转移到带搅拌器的高压釜中,添加0.0043份氯代氢羰基三(三苯基膦)钌(以下,简记为“钌催化剂”)、在氢压4.5MPa、160℃进行4小时加氢反应。
氢化反应结束后,将所得到的溶液注入大量的异丙醇中,使聚合物(氢化物)沉淀。将所得到的聚合物过滤后,在真空干燥机(220℃、1Torr)中使其干燥6小时,得到聚合物(1)。聚合物(1)的Mw为4.3×104,Mw/Mn为2.5。此外,聚合物(1)的Tg为128℃,CR为3900×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果可确认出在聚合物(1)中,非芳香族性的不饱和键被选择性地氢化,另一方面残留有芳香族性的不饱和键。
[制造例2:聚合物(2)的制造]
(2-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,使单体(MTF、TCD以及DCPD)的添加量为40重量份的MTF、35重量份的TCD、25重量份的DCPD,除此以外,与制造例1的(1-1)进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为3.1×104,分子量分布(Mw/Mn)为2.2。单体向聚合物的转化率为100%。
(2-2)聚合物(2)的制造
在制造例1的(1-2)中,代替300份的包含在(1-1)中得到的开环聚合物的反应溶液,使用300份包含在(2-1)中得到的开环聚合物的反应溶液,除此以外,与(1-2)进行同样的操作,得到聚合物(2)。聚合物(2)的Mw为4.0×104,Mw/Mn为2.4。聚合物(2)的Tg为136℃,CR为3200×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果,可确认出在聚合物(2)中,非芳香族性的不饱和键被选择性地氢化,另一方面残留有芳香族性的不饱和键。
[制造例3:聚合物(3)的制造]
(3-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,使单体(MTF、TCD以及DCPD)的添加量为25重量份的MTF、35重量份的TCD、40重量份的DCPD,除此以外,与制造例1的(1-1)进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为3.2×104,分子量分布(Mw/Mn)为2.4。单体向聚合物的转化率为100%。
(3-2)聚合物(3)的制造
在制造例1的(1-2)中,代替300份的包含在(1-1)中得到的开环聚合物的反应溶液,使用300份的包含在(3-1)中得到的开环聚合物的反应溶液,除此以外,与(1-2)进行同样的操作,得到聚合物(3)。聚合物(3)的Mw为4.2×104,Mw/Mn为2.6。聚合物(3)的Tg为128℃,CR为3000×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果,可确认出在聚合物(3)中,非芳香族性的不饱和键被选择性地氢化,另一方面残留有芳香族性的不饱和键。
[制造例4:聚合物(C1)的制造]
(4-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,使单体(MTF、TCD以及DCPD)的添加量为22重量份的MTF、38重量份的TCD、40重量份的DCPD,除此以外,进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为3.2×104,分子量分布为2.3。单体向聚合物的转化率为100%。
(4-2)聚合物(C1)的制造
在制造例1的(1-2)中,代替300份的包含在(1-1)中得到的开环聚合物的反应溶液,使用300份的包含在(4-1)中得到的开环聚合物的反应溶液,除此以外,与(1-2)进行同样的操作,得到聚合物(C1)。聚合物(C1)的Mw为4.1×104,Mw/Mn为2.5。聚合物(C1)的Tg为129℃,CR为2850×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果,可确认出在聚合物(C1)中,非芳香族性的不饱和键被选择性地氢化,另一方面残留有芳香族性的不饱和键。
[制造例5:聚合物(C2)的制造]
(5-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,使单体(MTF、TCD以及DCPD)的添加量为25重量份的MTF、35重量份的TCD、40重量份的DCPD,除此以外,与制造例1的(1-1)进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为3.2×104,分子量分布为2.4。单体向聚合物的转化率为100%。
(5-2)聚合物(C2)的制造
接着,将300份的包含在(5-1)中得到的开环聚合物的反应溶液转移到带搅拌器的高压釜中,添加3份的硅藻土负载镍催化剂(日挥化学公司制,产品名“T8400RL”,镍负载率57%),在氢压4.5MPa、160℃进行4小时加氢反应。
氢化反应结束后,将硅藻土500#作为过滤床,以压力0.25MPa将所得到的溶液进行加压过滤(Ishikawajima-Harima Heavy Industries制,产品名“FUNDABAC Filter”)除去氢化催化剂,得到无色透明的溶液。将所得到的溶液注入大量的异丙醇中,使聚合物沉淀。过滤所得到的聚合物后,在真空干燥机(220℃,1Torr)中使其干燥6小时,得到聚合物(C2)。聚合物(C2)的Mw为4.3×104,Mw/Mn为2.6。聚合物(C2)的Tg为136℃,CR为1900×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果,可确认出在聚合物(C2)中,非芳香族性的不饱和键和芳香族性的不饱和键二者被氢化。
[制造例6:聚合物(C3)的制造]
(6-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,使单体(MTF、TCD以及DCPD)的添加量为10重量份的MTF、40重量份的TCD、50重量份的DCPD,除此以外,与制造例1的(1-1)进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为3.2×104,分子量分布为2.3。单体向聚合物的转化率为100%。
(6-2)聚合物(C3)的制造
接着,将300份的包含在(6-1)中得到的开环聚合物的反应溶液转移到带搅拌器的高压釜中,添加3份的硅藻土负载镍催化剂(日挥化学公司制,产品名“T8400RL”,镍负载率57%),以氢压4.5MPa、160℃进行4小时加氢反应。
氢化反应结束后,将硅藻土500#作为过滤床,以压力0.25MPa将所得到的溶液进行加压过滤(Ishikawajima-Harima Heavy Industries制,产品名“FUNDABAC Filter”)除去氢化催化剂,得到无色透明的溶液。将所得到的溶液注入大量的异丙醇中,使聚合物沉淀。过滤所得到的聚合物后,在真空干燥机(220℃、1Torr)中使其干燥6小时,得到聚合物(C3)。聚合物(C3)的Mw为4.1×104,Mw/Mn为2.5。聚合物(C3)的Tg为128℃,CR为2200×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果,可确认出在聚合物(C3)中,非芳香族性的不饱和键和芳香族性的不饱和键二者被氢化。
[制造例7:聚合物(C4)的制造]
(7-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,使单体(MTF、TCD以及DCPD)的添加量为5重量份的MTF、5重量份的TCD、90重量份的DCPD,除此以外,与制造例1的(1-1)进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为3.3×104,分子量分布为2.3。单体向聚合物的转化率为100%。
(7-2)聚合物(C4)的制造
接着,将300份的包含在(7-1)中得到的开环聚合物的反应溶液转移到带搅拌器的高压釜中,添加3份的硅藻土负载的镍催化剂(日挥化学公司制,产品名“T8400RL”,镍负载率57%),以氢压4.5MPa、160℃进行4小时加氢反应。
氢化反应结束后,将硅藻土500#作为过滤床,以压力0.25MPa将所得到的溶液进行加压过滤(Ishikawajima-Harima Heavy Industries制,产品名“FUNDABAC Filter”)除去氢化催化剂,得到无色透明的溶液。将所得到的溶液注入大量的异丙醇中,使聚合物沉淀。过滤所得到的聚合物后,在真空干燥机(220℃、1Torr)中使其干燥6小时,得到聚合物(C4)。聚合物(C4)的Mw为3.9×104,Mw/Mn为2.7。聚合物(C4)的Tg为102℃,CR为3100×10-12Pa-1
利用1H-NMR对得到的聚合物进行分析的结果,可确认出在聚合物(C4)中,非芳香族性的不饱和键和芳香族性的不饱和键二者被氢化。
[制造例8:聚合物(C5)的制造]
(8-1)开环聚合物的制造
在制造例1的(1-1)中,作为单体,代替MTF、TCD及DCPD而使用50重量份的TCD和50重量份的8-甲基四环十二碳烯(以下有时简称为MTD),除此以外,与制造例1的(1-1)进行同样的操作,得到开环聚合物。开环聚合物的Mw为4.0×104,分子量分布为2.0。单体向聚合物的转化率为100%。
(8-2)聚合物(C5)的制造
接着,将300份的在(8-1)中得到的聚合反应溶液转移到带搅拌器的高压釜中,添加3份硅藻土负载的镍催化剂(日挥化学公司制,产品名“T8400RL”,镍负载率57%),以氢压4.5MPa、160℃进行4小时加氢反应。
氢化反应结束后,将硅藻土500#作为过滤床,以压力0.25MPa将所得到的溶液进行加压过滤(Ishikawajima-Harima Heavy Industries制,产品名“FUNDABAC Filter”)除去氢化催化剂,得到无色透明的溶液。将所得到的溶液注入大量的异丙醇中,使聚合物沉淀。过滤所得到的聚合物后,在真空干燥机(220℃、1Torr)中使其干燥6小时,得到聚合物。该聚合物的Tg为158℃。
将28重量份的该聚合物、10重量份的马来酸酐及3重量份的过氧化二异丙苯溶于130重量份的叔丁基苯中,在140℃使其反应6小时。将反应产物溶液注入甲醇中,使反应产物凝固。在真空干燥机(220℃、1Torr)中使该凝固物干燥6小时,得到马来酸改性开环聚合物加氢物(聚合物(C5))。聚合物(C5)的Mw为5.6×104,Mw/Mn为2.5。聚合物(C5)的Tg为170℃,CR为2000×10-12Pa-1,马来酸基含有率为25摩尔%。
[评价方法]
(拉伸膜的Rth、Re、d的测定以及Rth/d的计算)
使用相位差计(Axometrics,Inc.制“AXOSCAN”),在测定波长550nm测定实施例和比较例中各自得到的拉伸膜的厚度方向的延迟Rth和面内方向的延迟Re。使用Snap gaugeID-C112BS(Mitutoyo Corporation制)测定实施例和比较例中各自得到的拉伸膜的厚度d。
将测定的Rth值除以拉伸膜的厚度d,算出Rth/d,通过以下的评价基准进行评价,结果示于表1和表2。在表1和表2中,将Rth/d记载在上侧、将评价结果记载在下侧的括号内。
良:3.5×10-3以上
不良:小于3.5×10-3
(取向角精度)
使用偏振光显微镜(Olympus Corporation制,偏振光显微镜“BX51”)对实施例和比较例中各自得到的拉伸膜的取向角θ进行测定,算出绝对值作为取向角。在相对于拉伸膜的宽度方向为50mm的间隔、相对于长度方向为10m的间隔进行取向角θ的测定。算出这些测定结果的标准偏差,作为取向角精度θσ,结果示于表1和表2。取向角精度小者取向角的偏差小,因此优选。
(分层的评价方法)
<剥离强度的测定方法>
作为被粘结体,准备包含降冰片烯系聚合物的树脂的膜(Zeonor Film,玻璃化转变温度160℃、厚度100μm,日本瑞翁株式会社制,未特别进行拉伸处理)。对测定对象膜(实施例和比较例中各自得到的拉伸膜)的一面和被粘结体的一面实施电晕处理。使粘接剂附着在测定对象膜的实施了电晕处理的面以及被粘结体的进行了电晕处理的面二者,将附着了粘接剂的面彼此进行贴合。此时,作为粘接剂,使用UV粘接剂CRB系列(TOYOCHEM CO.,LTD.制)。然后,使用无电极UV照射装置(Heraeus株式会社制),使用D灯管作为灯,在峰照度100mW/cm2、累积光量3000mJ/cm2的条件下进行UV照射,使粘接剂固化。由此,得到具有测定对象膜和被粘结体的样品膜。
对所得到的样品膜,实施90度剥离试验。即,将样品膜裁切为15mm的宽度,使用粘合剂将测定对象膜侧贴合到载玻片的表面。此时,作为粘合剂,使用双面胶带(日东电工株式会社制,型号“CS9621”)。将被粘结体夹在高性能型数字测力计ZP-5N(IMADA Co.,Ltd.制)的前端,沿载玻片的表面的法线方向以300mm/分钟的速度牵引被粘结体,测定牵引力的大小作为剥离强度。通过以下的评价基准进行剥离强度的评价,结果示于表1和表2。在表1和表2中,将测定值记载在上侧、将评价结果记载在下侧的括号内。
良:1.0N/15mm以上
不良:小于1.0N/15mm
<参考例:剥离强度测定方法的妥当性的评价>
进行如下实验来评价是否可以说通过上述测定方法进行的剥离强度的测定反映了被粘结体为起偏器的情况下的剥离强度的评价。
使用与日本特开2005-70140号公报的实施例1记载的方法同样的方法,准备偏振膜和粘接剂。此外,作为测定对象膜,准备本申请的实施例1所得到的拉伸膜。对测定对象膜的一面实施电晕处理,将该面经由粘接剂贴合在偏振膜的一侧的表面。在偏振膜的另一侧的表面经由粘接剂贴合三乙酸纤维素膜。然后,在80℃使其干燥7分钟,使粘接剂固化,得到样品膜。对于所得到的样品膜,进行与上述<剥离强度的测定方法>中同样的90度剥离试验。结果得到与本申请实施例1中所得到的值同样的剥离强度的值。由此可以说,通过上述测定方法进行的剥离强度的测定反映了被粘结体是起偏器的情况下的剥离强度的评价。
(在85℃、经过500小时后的Rth变化率)
对实施例和比较例中各自得到的拉伸膜在85℃进行500小时的耐久试验,测定试验前后的拉伸膜的Rth,通过下式算出其变化率,通过以下的基准进行评价。变化率小者耐热性高,因此优选。在表1和表2中,将变化率记载在上侧、将评价结果记载在下侧的括号内。
变化率(%)=(试验前的Rth-试验后的Rth)/试验前的Rth×100
良:变化率为3%以下
不良:变化率大于3%
(在60℃、湿度90%、经过500小时后的Rth变化率)
对实施例和比较例中各自的拉伸膜在60℃、湿度90%进行500小时的耐久试验,测定试验前后的拉伸膜的Rth,通过下式算出其变化率,通过以下的基准进行评价。变化率小者耐热性和耐湿性高,因此优选。在表1和表2中,将变化率记载在上侧、将评价结果记载在下侧的括号内。
变化率(%)=(试验前的Rth-试验后的Rth)/试验前的Rth×100
良:变化率为3%以下
不良:变化率大于3%
(吸水率的测定)
裁切实施例和比较例中各自得到的拉伸膜的一部分,准备试验片(尺寸:100mm×100mm),测定该试验片的质量。其后,将该试验片在23℃的水中浸渍24小时,测定浸渍后的试验片的质量。然后,将通过浸渍而增加的试验片的质量相对于浸渍前的试验片的质量的比例作为吸水率(%)而算出。吸水率小者优选。
(实施例1)
(1-1)拉伸前膜的制造
将在制造例1中制造的聚合物(1)投入双轴挤出机,通过热熔融挤出成型成型为股状的成型体。使用造粒机(strand cutter)将该成型体切碎,得到包含聚合物(1)的树脂的颗粒。
将树脂的颗粒在100℃干燥5小时后,通过常规方法将该颗粒供给到挤出机,在250℃熔融,从模头吐出到冷却鼓上,得到厚度为110μm的拉伸前膜。
(1-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在138℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.2倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在138℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.4倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为320nm,厚度d为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表1。
[实施例2]
(2-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例2中制造的聚合物(2),除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(2)的厚度118μm的拉伸前膜。
(2-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在146℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.25倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在146℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.45倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为310nm,厚度d为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表1。
[实施例3]
(3-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例3中制造的聚合物(3),除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(3)的厚度127μm的拉伸前膜。
(3-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在138℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.3倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在138℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.5倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为300nm,厚度d为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表1。
[比较例1]
(C1-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例4中制造的聚合物(C1)、以及增加熔融树脂的吐出量,除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(C1)的厚度180μm的拉伸前膜。
(C1-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在139℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.4倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在139℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.6倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为300nm,厚度为80μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表1。
[比较例2]
(C2-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例5中制造的聚合物(C2)、以及增加熔融树脂的吐出量,除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(C2)的厚度198μm的拉伸前膜。
(C2-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在146℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.65倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在146℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.85倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为250nm,厚度d为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表1。
[比较例3]
(C3-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例6中制造的聚合物(C3)、以及增加熔融树脂的吐出量,除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(C3)的厚度188μm的拉伸前膜。
(C3-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在138℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.6倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在138℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.8倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为250nm,厚度d为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表2。
[比较例4]
(C4-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例7中制造的聚合物(C4),除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(C4)的厚度136μm的拉伸前膜。
(C4-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在112℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.35倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在112℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.55倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为300nm,厚度为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表2。
[比较例5]
(C5-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例6中制造的聚合物(C3),除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(C3)的厚度134μm的拉伸前膜。
(C5-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在138℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.2倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在138℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.4倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为260nm,厚度为80μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表2。
[比较例6]
(C6-1)拉伸前膜的制造
在实施例1的(1-1)中,代替聚合物(1),使用在制造例8中制造的聚合物(C5)、以及增加熔融树脂的吐出量,除此以外,与实施例1的(1-1)进行同样的操作,得到包含聚合物(C5)的厚度192μm的拉伸前膜。
(C6-2)拉伸膜的制造
接着,通过在辊间使用了浮动方式的纵向拉伸机,在180℃(Tg+10℃)沿纵向将拉伸前膜拉伸1.62倍。将进行了纵向拉伸的膜进一步供给使用了扩幅法的横向拉伸机,一边调节卷取张力和扩幅机链的张力一边在180℃(Tg+10℃)的温度沿横向拉伸1.82倍,得到双轴拉伸膜。所得到的双轴拉伸膜的Re为60nm,Rth为250nm,厚度为65μm。对所得到的双轴拉伸膜进行评价试验,结果示于表2。
实施例和比较例的评价结果如下表所示。在下表中,简称的含义如下所述。
MRu:非芳香族性的不饱和键被选择性氢化、芳香族性的不饱和键残留的MTF。
T:氢化TCD。
D:氢化DCPD。
M:氢化MTF(即,非芳香族性的不饱和键和芳香族性的不饱和键二者被氢化的MTF)。
极性COP:具有极性基团的环状烯烃聚合物。
MD×TD:纵向的拉伸倍率×横向的拉伸倍率。
[表1]
表1
Figure BDA0002864012010000251
[表2]
表2
Figure BDA0002864012010000261
[结果]
如表1和表2所示,在满足本发明要件的实施例的拉伸膜中,尽管拉伸倍率低,但Rth/d却高、还能够抑制产生分层。其结果可知,满足本发明要件的实施例的膜中,能够提供相位差显现性优异、厚度方向的延迟高的视角补偿膜。

Claims (7)

1.一种光学膜,其由热塑性降冰片烯系树脂形成,
所述热塑性降冰片烯系树脂的应力双折射CR为2910×10-12Pa-1以上且3900×10-12Pa-1以下、玻璃化转变温度Tg为125℃以上,
所述光学膜的厚度方向的延迟Rth与厚度d的比(Rth/d)为3.5×10-3以上,
所述光学膜为拉伸膜。
2.根据权利要求1所述的光学膜,其中,面内方向的延迟Re为40nm以上且80nm以下。
3.根据权利要求1或2所述的光学膜,其中,所述热塑性降冰片烯系树脂包含聚合物,所述聚合物包含具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元。
4.根据权利要求3所述的光学膜,其中,所述聚合物包含25重量%以上的所述具有芳香环结构的降冰片烯系单体单元。
5.根据权利要求1或2所述的光学膜,其为以1.4以上且2.2以下的拉伸倍率进行了拉伸的拉伸膜。
6.一种光学层叠体,其具有权利要求1-5中任一项所述的光学膜和设置在所述光学膜上的偏振片。
7.一种液晶显示装置,其具有权利要求6所述的光学层叠体。
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