CN112159960A - 等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置，包括：等离子喷头，等离子喷头的内部形成有电离腔，等离子喷头设有进液通道；等离子电极，等离子电极设置于电离腔的内壁上，且等离子电极开设有汽化通道，汽化通道分别与进液通道和电离腔连通；以及等离子喷嘴，等离子喷嘴安装于等离子喷头上。开启等离子激励电源为等离子电极供电，等离子电极开始放电电离并产生高温(一般可达90摄氏度以上)，产生的高温能够将流经汽化通道的镀膜药液充分且完全汽化(镀膜药液的汽化温度一般在70到80摄氏度之间)，保证最终从等离子喷嘴喷射出的等离子体中不会夹杂镀膜药液，从而确保了对镀膜对象的镀膜质量，以及产品的最终成品品质高。
Description
技术领域
本发明涉及等离子镀膜技术领域，特别是涉及一种等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置。
背景技术
当前，在诸如半导体、微电子、电路板、手机、汽车等行业中，为保证零部件或者设备的外观美观以及使用寿命长，通常会采用等离子镀膜加工技术在零部件或者设备的外表面形成一层镀膜。现有的等离子镀膜装置工作时，等离子喷头内安装有等离子电极，等离子电极与外设的电源设备连接，等离子喷头靠近喷嘴的侧壁开设有进药通道，镀膜药液由进药通道注入等离子喷头内，当等离子电极通电后，会对镀模药液进行放电电离，从而产生含有药液的等离子体，等离子体最终喷射到镀膜对象表面。
然而，这种现有的等离子喷头会存在如下缺陷：由于进入等离子喷头的药液量一般较多，而等离子电极通常来不及将所有进入的药液全部进行电离，因而会导致有部分没有被电离的药液会从等离子喷嘴直接喷出而喷洒到镀膜对象上，造成镀膜质量差，影响产品品质。
发明内容
基于此，有必要提供一种等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置，旨在解决现有技术镀膜药液无法被充分电离，致使影响镀膜质量和产品品质的问题。
一方面，本申请提供一种等离子镀膜执行终端，所述等离子镀膜执行终端包括：
等离子喷头，所述等离子喷头的内部形成有电离腔，所述等离子喷头设有进液通道；
等离子电极，所述等离子电极设置于所述电离腔的内壁上，且所述等离子电极开设有汽化通道，所述汽化通道分别与所述进液通道和所述电离腔连通；以及
等离子喷嘴，所述等离子喷嘴安装于所述等离子喷头上。
上述方案的等离子镀膜执行终端应用装备于等离子镀膜装置中，用以对镀膜对象(例如手机、耳机、平板电脑、电路板、智能音箱、智能手表等类型的产品)进行镀膜作业，并保证镀膜对象获得高质量的镀膜品质。具体而言，加工之前，将镀膜药液供给装置通过管路与等离子喷头上的进液通道连接好，并使等离子电极与等离子激励电源连接好。实际加工时，镀膜药液由进液通道流入并继续流入等离子电极上开设的汽化通道内，此时开启等离子激励电源为等离子电极供电，等离子电极开始放电电离并产生高温(一般可达90摄氏度以上)，产生的高温能够将流经汽化通道的镀膜药液充分且完全汽化(镀膜药液的汽化温度一般在70到80摄氏度之间)，保证最终从等离子喷嘴喷射出的等离子体中不会夹杂镀膜药液，从而确保了对镀膜对象的镀膜质量，以及产品的最终成品品质高。
下面对本申请的技术方案作进一步的说明：
在其中一个实施例中，所述等离子镀膜执行终端还包括进液管，所述等离子喷头设有进液口，所述进液管的一端插置于所述进液口，所述进液管的另一端插置于所述汽化通道，所述进液管的管腔形成为所述进液通道。
在其中一个实施例中，所述进液通道的内壁上设有第一阻流结构。
在其中一个实施例中，所述汽化通道的内壁上设有第二阻流结构。
在其中一个实施例中，所述汽化通道的出口形成为圆形开口；或者，所述汽化通道的出口处连接有端塞，所述端塞与所述汽化通道的出口端壁之间间隔形成环形开口。
在其中一个实施例中，所述等离子镀膜执行终端还包括安装件，所述等离子电极通过所述安装件设置于所述电离腔的内壁上。
在其中一个实施例中，所述等离子镀膜执行终端还包括绝缘连接件，所述绝缘连接件设置于所述安装件与所述电离腔的内壁之间。
在其中一个实施例中，所述等离子镀膜执行终端还包括镀膜载气接头，所述等离子喷头还开设有与所述电离腔连通的进气口，所述镀膜载气接头插接于所述进气口处。
在其中一个实施例中，所述等离子喷嘴形成有喷嘴孔，所述喷嘴孔包括与所述等离子喷头连接的安装端，以及用于将等离子体喷射到镀膜对象上的喷射端，所述喷嘴孔的截面积由所述安装端至所述喷射端的方向呈递减过渡。
另一方面，本申请还提供一种等离子镀膜装置，其包括如上所述的等离子镀膜执行终端。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一实施例所述的等离子镀膜执行终端的结构示意图；
图2为图1处于工作状态的结构示意图；
图3为本发明一实施例所述的等离子电极的结构示意图；
图4为本发明另一实施例所述的等离子电极的结构示意图。
附图标记说明：
10、等离子喷头；11、电离腔；12、进液通道；13、进液口；14、进气口；20、等离子电极；21、汽化通道；211、圆形开口；212、环形开口；30、等离子喷嘴；31、喷嘴孔；32、安装端；33、喷射端；40、进液管；50、端塞；60、安装件；70、绝缘连接件；80、镀膜载气接头；90、等离子体；100、镀膜对象；200、等离子激励电源。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
本申请实施例提供一种等离子镀膜装置，其用于实现对镀膜对象100的外表面完成镀膜加工，以提升镀膜对象100的产品品质与使用寿命。
示例性地，等离子镀膜装置包括等离子激励电源200、等离子镀膜执行终端、镀膜药液供给装置和镀膜载气供给装置以及一些其它辅助设备。
如图1所示，为本申请一实施例展示的一种等离子镀膜执行终端，其为对镀膜产品进行镀膜作业的直接执行设备，具体地，其能够通过放电电离产生等离子体90，并将等离子体90喷射到镀膜产品表面而形成镀膜层，从而完成镀膜加工。
请继续参阅图1和图2，具体到本实施例中，所述等离子镀膜执行终端包括：等离子喷头10、等离子电极20以及等离子喷嘴30。所述等离子喷头10的内部形成有电离腔11，电离腔11为放电电离实际发生的场所，其为一个相对封闭的空间，因而具备安全可靠等必要条件。所述等离子喷头10设有进液通道12；所述等离子电极20设置于所述电离腔11的内壁上，且所述等离子电极20开设有汽化通道21，所述汽化通道21分别与所述进液通道12和所述电离腔11连通；所述等离子喷嘴30安装于所述等离子喷头10上。
综上，实施本实施例技术方案将具有如下有益效果：上述方案的等离子镀膜执行终端应用装备于等离子镀膜装置中，用以对镀膜对象100(例如手机、耳机、平板电脑、电路板、智能音箱、智能手表等类型的产品)进行镀膜作业，并保证镀膜对象100获得高质量的镀膜品质。具体而言，加工之前，将镀膜药液供给装置通过管路与等离子喷头10上的进液通道12连接好，并使等离子电极20与等离子激励电源200连接好。实际加工时，镀膜药液由进液通道12流入并继续流入等离子电极20上开设的汽化通道21内，此时开启等离子激励电源为等离子电极20供电，等离子电极20开始放电电离并产生高温(一般可达90摄氏度以上)，产生的高温能够将流经汽化通道21的镀膜药液充分且完全汽化(镀膜药液的汽化温度一般在70到80摄氏度之间)，保证最终从等离子喷嘴30喷射出的等离子体90中不会夹杂镀膜药液，从而确保了对镀膜对象100的镀膜质量，以及产品的最终成品品质高。
本实施例中，等离子喷头10大致形成为圆柱筒体，其下端敞口设置，等离子喷嘴30的一端插装在该敞口处。
请继续参阅图1和图2，在一些实施例中，所述等离子镀膜执行终端还包括安装件60，所述等离子电极20通过所述安装件60设置于所述电离腔11的内壁上。如此，等离子电极20能够通过安装件60牢固安装在电离腔11的内壁上，保证工作可靠。本实施例中，等离子电极20采用铜合金材料制成，铜合金具备极佳的放电能力。其外形形成为圆锥体结构，等离子电极20的圆端与安装件60采用卡扣、螺接、铆接等方式组装固定，尖锥段朝向等离子喷嘴30设置。安装件60为环状构件，通过设置台阶结构，与电离腔11的内壁卡扣连接。
较佳地，等离子喷嘴30、等离子电极20和等离子喷头10三者同轴设置，从而保证结构稳固，降低制造和安装难度，获得更佳的等离子镀膜效果。
请继续参阅图1和图2，进一步地，所述等离子镀膜执行终端还包括绝缘连接件70，所述绝缘连接件70设置于所述安装件60与所述电离腔11的内壁之间。例如，绝缘连接件70设置为绝缘套筒，绝缘套筒将等离子电极20与等离子喷头10间接组装连接，可防止工作时等离子电极20上的电能转移到等离子喷头10上，从而因等离子喷头10带电而发生触电的安全事故。
具体地，绝缘连接件70采用环氧树脂、PP塑料、亚克力等材料制成。等离子喷嘴30采用不锈钢或者铜材料制成。
请继续参阅图1和图2，此外，在上述任一实施例的基础上，所述等离子镀膜执行终端还包括进液管40，所述等离子喷头10设有进液口13，所述进液管40的一端插置于所述进液口13，所述进液管40的另一端插置于所述汽化通道21，所述进液管40的管腔形成为所述进液通道12。进液管40的两端分别插接在进液口13和汽化通道21内，使得进液管40安装稳固，且该安装方式的结构简单，可制造性强。同时，有进液口13流入进液通道12的镀膜药液可连续流入汽化通道21中，保证镀膜药液的流动性好且流动路径短，有助于保证等离子镀膜执行终端的工作可靠性。
进一步地，所述进液通道12的内壁上设有第一阻流结构(未示出)。所述汽化通道21的内壁上设有第二阻流结构(未示出)。通过设置的第一阻流结构和第二阻流结构，能够减慢镀膜药液在进液通道12和汽化通道21内的流动速度，也即可以延长镀膜药液在进液通道12和汽化通道21的逗留时间，从而有助于被等离子电极20工作产生的高温充分加热汽化，从根本上杜绝镀膜药液未能被充分汽化而被直接喷洒到镀膜对象100上，进而影响到镀膜质量与产品品质的问题发生。
可选地，第一阻流结构和第二阻流结构具体是可以减缓镀膜药液流动的构造，例如设置在通道壁上的凹凸型结构，或者粘贴在通道壁上的阻尼垫。
请继续参阅图3和图4，等离子电极20上的汽化通道21的出口形状可以有多种。例如在一些实施例中，所述汽化通道21的出口形成为圆形开口211。具体地，圆形开口211形成为扩口状，且贴近镀膜对象100的一端为大口端，从而有助于单位时间内喷射出更多的等离子体90，提升镀膜效率。或者，在另一些实施例中，所述汽化通道21的出口处连接有端塞50，所述端塞50与所述汽化通道21的出口端壁之间间隔形成环形开口212。如此能够使等离子体90更加均匀分分散进入电离腔11中，从而保证从等离子喷嘴30喷出的等离子体90均匀喷射到镀膜对象100上，提升镀膜质量。
请继续参阅图1和图2，进一步地，所述等离子喷嘴30形成有喷嘴孔31，所述喷嘴孔31包括与所述等离子喷头10连接的安装端32，以及用于将等离子体90喷射到镀膜对象100上的喷射端33，所述喷嘴孔31的截面积由所述安装端32至所述喷射端33的方向呈递减过渡。在这种变截面尺寸设计下，喷嘴孔31内能够形成一定压力，从而有助于将等离子体90以一定速度从等离子喷嘴30喷射到镀膜对象100上，保证等离子体90与镀膜对象100结合强度高，提升镀膜质量。
请继续参阅图1和图2，此外，在上述任一实施例的基础上，所述等离子镀膜执行终端还包括镀膜载气接头80，所述等离子喷头10还开设有与所述电离腔11连通的进气口14，所述镀膜载气接头80插接于所述进气口14处。镀膜载气接头80可快速且牢靠的与镀膜载气供给装置连接而实现将镀膜载体通入电离腔11中，镀膜载体可用作为等离子激发的气体，保证放电电离可靠进行。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
Claims (10)
1.一种等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述等离子镀膜执行终端包括：
等离子喷头，所述等离子喷头的内部形成有电离腔，所述等离子喷头设有进液通道；
等离子电极，所述等离子电极设置于所述电离腔的内壁上，且所述等离子电极开设有汽化通道，所述汽化通道分别与所述进液通道和所述电离腔连通；以及
等离子喷嘴，所述等离子喷嘴安装于所述等离子喷头上。
2.根据权利要求1所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述等离子镀膜执行终端还包括进液管，所述等离子喷头设有进液口，所述进液管的一端插置于所述进液口，所述进液管的另一端插置于所述汽化通道，所述进液管的管腔形成为所述进液通道。
3.根据权利要求2所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述进液通道的内壁上设有第一阻流结构。
4.根据权利要求2所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述汽化通道的内壁上设有第二阻流结构。
5.根据权利要求1所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述汽化通道的出口形成为圆形开口；或者，所述汽化通道的出口处连接有端塞，所述端塞与所述汽化通道的出口端壁之间间隔形成环形开口。
6.根据权利要求1所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述等离子镀膜执行终端还包括安装件，所述等离子电极通过所述安装件设置于所述电离腔的内壁上。
7.根据权利要求6所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述等离子镀膜执行终端还包括绝缘连接件，所述绝缘连接件设置于所述安装件与所述电离腔的内壁之间。
8.根据权利要求1所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述等离子镀膜执行终端还包括镀膜载气接头，所述等离子喷头还开设有与所述电离腔连通的进气口，所述镀膜载气接头插接于所述进气口处。
9.根据权利要求1至8任一项所述的等离子镀膜执行终端，其特征在于，所述等离子喷嘴形成有喷嘴孔，所述喷嘴孔包括与所述等离子喷头连接的安装端，以及用于将等离子体喷射到镀膜对象上的喷射端，所述喷嘴孔的截面积由所述安装端至所述喷射端的方向呈递减过渡。
10.一种等离子镀膜装置，其特征在于，包括如上述权利要求1至9任一项所述的等离子镀膜执行终端。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114318250A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 | 一种常压等离子增强的镀膜装置 |
| CN117265628A (zh) * | 2023-09-18 | 2023-12-22 | 广州航海学院 | 一种基于等离子体放电的高电压射流电解加工装置及方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2798247A1 (fr) * | 1999-09-03 | 2001-03-09 | Soudure Autogene Francaise | Torche a plasma avec systeme d'electrode a longue duree de vie |
| RU2328096C1 (ru) * | 2006-11-16 | 2008-06-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева | Плазменная установка для напыления покрытий (варианты) |
| CN104619108A (zh) * | 2015-01-12 | 2015-05-13 | 广东韦达尔科技有限公司 | 一种等离子电磁式旋转喷枪 |
| KR20170060382A (ko) * | 2015-11-24 | 2017-06-01 | 한국기계연구원 | 플라즈마 노즐 |
| KR20200025023A (ko) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 한국에너지기술연구원 | 수중 절단 플라즈마 토치 및 수중 절단 시스템 |
| CN111364010A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-03 | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 | 等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头 |
| CN213708469U (zh) * | 2020-10-26 | 2021-07-16 | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 | 等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置 |
-
2020
- 2020-10-26 CN CN202011156984.4A patent/CN112159960A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2798247A1 (fr) * | 1999-09-03 | 2001-03-09 | Soudure Autogene Francaise | Torche a plasma avec systeme d'electrode a longue duree de vie |
| RU2328096C1 (ru) * | 2006-11-16 | 2008-06-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева | Плазменная установка для напыления покрытий (варианты) |
| CN104619108A (zh) * | 2015-01-12 | 2015-05-13 | 广东韦达尔科技有限公司 | 一种等离子电磁式旋转喷枪 |
| KR20170060382A (ko) * | 2015-11-24 | 2017-06-01 | 한국기계연구원 | 플라즈마 노즐 |
| KR20200025023A (ko) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 한국에너지기술연구원 | 수중 절단 플라즈마 토치 및 수중 절단 시스템 |
| CN111364010A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-03 | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 | 等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头 |
| CN213708469U (zh) * | 2020-10-26 | 2021-07-16 | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 | 等离子镀膜执行终端及等离子镀膜装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114318250A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 | 一种常压等离子增强的镀膜装置 |
| CN114318250B (zh) * | 2021-12-31 | 2022-10-18 | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 | 一种常压等离子增强的镀膜装置 |
| CN117265628A (zh) * | 2023-09-18 | 2023-12-22 | 广州航海学院 | 一种基于等离子体放电的高电压射流电解加工装置及方法 |
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