CN112108990A - 用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备 - Google Patents

Abstract

一种用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备，其中所述气膜形成为包括，用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁具有沿所述底板的周缘向上延伸形成的直立部、从直立部上端朝上向内折弯延伸后朝上向外折弯延伸形成的弯折部和从所述弯折部上端弯向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部；以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；其中，所述弯折部向外延伸不超过所述直立部的圆周外表面。

Description

用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备

技术领域

本发明涉及半导体晶圆的化学机械抛光领域，特别涉及一种用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备。

背景技术

化学机械抛光是一种广泛用于半导体芯片制造的全局平坦化技术，抛光头及其气膜是该技术应用的关键之一。CN101342679A和CN102172887A公开了现有技术的广泛应用的典型的用于化学机械抛光的承载头，多腔室隔膜具有五个可调压的腔室分别作用于基板的不同环形区域，这五个腔室配合进行抵压抛光作业可以相较于仅具有一个腔室或少于五个腔室的抛光头提升抛光的均匀性和一致性。为了更均匀一致的对基板进行抛光作业，业界一致追求对抛光头中用于对基板作业的隔膜划分更多腔室，例如六个可调压的腔室。另外，在增加腔室个数的同时还要尽量减小如CN107112260A和CN101607381A所述的“边缘效应”，即通过对最边缘的两个或三个腔室进行结构优化从而增强该区域的调控有效性、稳定性、精确性等。总之，业界希望提供一种化学机械抛光头以解决抛光均匀性、一致性、边缘效应、加载有效性、加载可靠性、加载精确度等问题，特别是解决基板边缘部分过抛和/或欠抛等问题，然而，这些问题之间通常又存在彼此影响导致抛光头的设计难以权衡。

发明内容

本发明实施例提供了一种用于化学机械抛光头的气膜、化学机械抛光头及抛光设备，旨在至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一。

根据本发明的一个方面，本发明提供了一种用于化学机械抛光头的气膜，包括：用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁具有沿所述底板的周缘向上延伸形成的直立部、从直立部上端朝上向内折弯延伸后朝上向外折弯延伸形成的弯折部和从所述弯折部上端弯向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部；以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；其中，所述弯折部向外延伸不超过所述直立部的圆周外表面。

根据本发明的另一个方面，本发明提供了一种用于化学机械抛光头的气膜，包括：用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁沿所述底板的周缘向上延伸得以形成并在其顶端弯向内侧水平延伸形成第一水平延伸部；与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；以及从所述边缘侧壁的内表面朝径向内侧上方延伸的间隔壁。

进一步的，本发明提供了一种化学机械抛光头，包括，气膜、平衡架、连轴盘、承载盘、保持环，其中，所述气膜形成为包括，用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁具有沿所述底板的周缘向上延伸形成的直立部、从直立部上端朝上向内折弯延伸后朝上向外折弯延伸形成的弯折部和从所述弯折部上端弯向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部；以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；其中，所述弯折部向外延伸不超过所述直立部的圆周外表面。

进一步的，本发明提供了一种化学机械抛光设备，包括如以上所述的至少一种气膜。

进一步的，本发明提供了一种化学机械抛光设备，包括如以上所述的气膜。

本发明的有益效果包括，通过对边缘腔室进行结构优化从而增强该区域的调控有效性、稳定性、精确性等并提供一种化学机械抛光气膜、抛光头和抛光设备以解决抛光均匀性、一致性、边缘效应、加载有效性、加载可靠性、加载经确定等问题，特别是在一定程度上解决了基板边缘部分过抛和/或欠抛等问题。

附图说明

通过结合以下附图所作的详细描述，本发明的优点将变得更清楚和更容易理解，但这些附图只是示意性的，并不限制本发明的保护范围，其中：

图1是根据本发明所述用于化学机械抛光的承载头1的结构示意图；

图2至图5是根据本发明所述气膜边缘部分的结构示意图；

图6是根据本发明所述气膜边缘部分的结构示意图

图7是根据本发明所述气膜的结构示意图；

图8是图7中的局部放大图。

具体实施方式

下面结合具体实施例及其附图，对本发明所述技术方案进行详细说明。在此记载的实施例为本发明的特定的具体实施方式，用于说明本发明的构思；这些说明均是解释性和示例性的，不应理解为对本发明实施方式及本发明保护范围的限制。除在此记载的实施例外，本领域技术人员还能够基于本申请权利要求书及其说明书所公开的内容采用显而易见的其它技术方案，这些技术方案包括采用对在此记载的实施例的做出任何显而易见的替换和修改的技术方案。应当理解的是，除非特别予以说明，为了便于理解，以下对本发明具体实施方式的描述都是建立在相关设备、装置、部件等处于原始静止的未给与外界控制信号和驱动力的自然状态下描述的。特别的，尽管本发明重点对气膜结构和构造进行了具体的描述，但本发明保护的主题并不局限于气膜，而应当理解为应用了根据本发明的气膜的化学机械抛光头及全部化学机械抛光设备，并且虽然本发明也对化学机械抛光头进行了描述，但应当理解的是，本发明的保护主题也涉及任何应用了根据本发明的化学机械抛光头的化学机械抛光设备，而不应当对根据本发明的气膜、抛光头、抛光设备做出限制性或局限性的理解。

化学机械抛光设备一般由抛光盘、抛光垫、供液装置、修整装置、检测装置、控制装置等构成，其构成方案作为现有技术已在诸如CN108555771A、CN107813220A、CN206105586U等专利公开中予以充分体现，本发明中不再赘述，但应当理解的是，根据本发明的化学机械抛光设备亦包括抛光盘、抛光垫、供液装置、修整装置、检测装置、控制装置等作业的必要零部件及构件。下面主要介绍根据本发明的化学机械抛光设备中的核心件抛光头的构造和功能，下面的所描述的抛光头可以应用在根据本发明的化学机械抛光设备中。需要指出的是，如未做特别说明，本实施方式中所述的向内、向外、径向向内、径向向外等均指沿底板141的半径方向向内，沿底板141的半径方向向外等；并且下述任何关于抛光头和气膜的技术特征都是可以组合和/或单独形成的，只要这些特征和/或特征的组合能够改善化学机械抛光的作业性能和制程结果；此外，本发明中的术语如果与国家或国际标准或在先或在后申请不一致的地方，应根据该零件、部件、构件或组件等的实际作用等同的进行解释和理解，而不应作为限制本发明保护范围的依据。

如图1所示，本发明还提出了一种用于化学机械抛光的抛光头1，该抛光头1包括平衡架11、连轴盘12、承载盘13、气膜14、环状的气膜压盘15、保持环16、第一夹环18、第二夹环20、第三夹环22、环状的弹性模21等，其中，连轴盘12连接于外部驱动轴以带动整个抛光头1移动和/或旋转。具体而言，第二夹环20和第三夹环22分别将弹性模22的外缘和内缘夹紧结合至承载盘13和连轴盘12使得承载盘13可随连轴盘12一体旋转；具有中轴部、底盘部、周壁部和翼缘部的平衡架11与连轴盘同轴设置，其中轴部可滑动地插入至连轴盘的中心轴孔中并可在其中沿竖直方向移动，其翼缘部借助垫圈17、第一夹环18以及未示出的螺栓结合至承载盘13的中心阶梯孔，使得承载盘13可随平衡架11一起旋转和/或沿竖直方向移动；气膜14被气膜压盘15夹紧结合至承载盘13的下部并且可以与承载盘一起移动和/或转动；第一辅助压环23和第二辅助压环24与气膜压盘15配合将气膜不同分隔壁的密封部夹紧结合至承载盘13以形成C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7这七个可以分别调控的可调压腔室。尽管没有示意出，但可以理解的是，抛光头内设置有多个可与外部气路耦合连接的气体通道，这些气体通道贯穿连轴盘12、承载盘13、第一辅助压环23和/或第二辅助压环24分别连通至这些可调压腔室，从而通过向这些腔室内通入气体或从这些腔室内抽出气体来调节其压力；特别的，可以通过连轴盘12中的沿竖直方向与平衡架的中轴部平行延伸的通孔(未示出)来调节可调压腔室C8的压力，以调节承载盘13及气膜14沿竖直方向相对于连轴盘12的位移。

根据本发明的气膜14的结构示意图如图2及图7所示，其装配结构如图3所示，该气膜14包括圆形的底板部141、沿底板部141大体竖直向上延伸的直立部142、连接于直立部142顶端的弯折部143以及从弯折部143顶端朝径向内侧方向水平延伸的第一水平延伸部144，所述第一水平延伸部144的自由端具有沿着竖直方向向下凸起延伸的密封部145，为了增强直立部142的刚度使得其可以更有效地沿竖直方向向下传递作用力，竖直部142的外侧表面形成有用于设置气膜外支撑环28的圆环状的凹槽142B，该凹槽142B沿径向向内延伸且其厚度不超过直立部142的厚度的一半，使得气膜外支撑环28可以稳定卡合在凹槽142B中，气膜外支撑环28和凹槽142B向上延伸至接近弯折部143下端的位置并且向下延伸至距底板部141的上表面0.5mm至4mm的位置，特别的，气膜外支撑环28卡合在凹槽142B中后其沿径向方向延伸至不超过直立部142的径向外表面2mm以避免在气膜外支撑环28下部附近区域形成抛光液结晶。进一步的，在直立部142与底板部141的接合根部内侧形成有沿径向向外延伸的环状凹槽142C，其作用包括增强边缘侧壁的直立部142根部的自由度防止产生应力集中和局部皱曲，从而在一定程度上缓解基板边缘区的去除率调控调节效果；为了进一步加强直立部142的刚性以便其上部腔室的压力可以更多地向下传递至其正下方的区域，鉴于不便设置厚度过大的气膜外支撑环28，可在直立部142内表面设置第一气膜内支撑环26。

为了进一步加强直立部142的刚性以便其上部腔室的压力可以更多地向下传递至其正下方的区域并且改善气膜14的边缘区域的可调节性而不影响其他区域的调节作业，可以在直立部142的弯折部143的根部内表面处设置沿径向方向向内延伸的环状的间隔板146，该间隔板146在其端部具有向上凸起的环状密封部146A，如图2所示，弯折部143、第一水平延伸部144、第三辅助压环25、间隔板146一起组合形成了气密的可调压腔室C1；进一步的，所述间隔板146能够倾斜一定角度朝径向内侧上方延伸，换言之，间隔板146的根部与其密封部146A的连线与底板部141所在平面形成0至30度的角度；为了进一步增强可调压腔室C1和/或间隔板146的柔性从而改善气膜14的边缘区域的可调节性，可以在间隔板146的中部或靠近其密封部146A的区域设置至少一个褶部，如图2及图8所示，其中斜向延伸的间隔板146在其中间靠近密封部146A的区域具有F1、F2、F3、F4四个褶部，这样的间隔板构造可以增加间隔板146的表面积从而增加其柔性和可调节性，并且配合气膜边缘区域的弯折部143可以改善可调压腔室C1的可调节性。一般而言，弯折部143和间隔板146的厚度小于直立部142的厚度并且小于底板部141的厚度，弯折部143的厚度为底板部厚度的40％至80％，间隔板146的厚度为底板部厚度的40％至80％。应当理解的是，尽管图中示出的间隔板146具有F1、F2、F3、F4四个褶部，但根据实际情况也可以在该间隔板146的不同位置设置不同数量的褶部，以增加间隔板146的面积，从而改善该间隔板及整个C1腔室的柔性。

为了改善间隔板146的根部的受力情况从而改善直立部142向下传递压力的准确性和可靠性等，优选在间隔板146的与直立部142结合的根部区域的上表面形成有局部增厚的结构146A，并且如图1所示，该局部增厚结构146A的截面形成为向内侧下方倾斜的斜面146C，这样至少更有利于腔室C1的压力在向径向外侧传递的过程中更多地传递到直立部142的正下方而尽量少的转换成径向力，优选的，该斜面146C与水平面的夹角为30度至60度，并且进一步优选的该斜面146C与水平面之间的夹角为45度，该局部加厚结构垂直于斜面146C的厚度应不小于1.5mm；进一步的，为了防止这样的加厚结构可能导致应力集中或者应力传递不均等影响边缘抛光调控的问题，可在间隔板146与直立部142结合的根部区域设置如图3中所示的局部环状凹槽146B结构，应当理解的是，尽管图3中示出的凹槽位于根部的上侧加厚表面，但其也可以位于未加厚的根部区域的上侧内表面或下侧内表面，进一步的该凹槽的深度的宽度不超过0.8mm，优选不超过0.5mm，该凹槽的截面可以形成为半圆形、矩形或梯形等；此外，尽管图3中示出了1个环状凹槽146B，但应当理解的是，可在间隔板146的与直立部142结合的根部区域及其附近位置设置更多的类似于环状凹槽146B的结构以改善该部位的受力情况。

考虑到第三辅助压环25具有贯穿设置的孔道以向腔室C1中通入气体或从该腔室中抽出气体并且第三辅助压环25还具有将第一水平延伸部144的密封部145夹紧结合密封至承载盘13的作用和将间隔板146的密封部146A夹紧结合密封至气膜压盘15的作用，因此第三辅助压环25需要具有一定厚度以满足去自身强度的需求，为此其厚度一般为1.5mm至8mm，相应的，第一水平延伸部144的密封部145与间隔板146的密封部146A之间的距离应大于等于3mm，并且优为4mm至6mm，即这两个密封部的表面之间的最小距离大于等于2mm，并且优为2.5mm至6mm。此外，第三辅助压环25在其上表面具有用于为第一水平延伸部144的密封部145提供安装定位的环状凹槽25A，使得便于在气膜14的安装作业中便于密封部145的卡合，防止出现该密封部145未卡合紧密的情况出现。

为了通过那个更多的可调压区域的方式来改善化学机械抛光的压力轮廓，根据本发明的气膜14还具有与外侧壁同心设置的环状的内侧壁148，并且该内侧壁148在其顶端弯向径向内侧水平延伸形成第二水平延伸部149，该第二水平延伸部149在其末端具有密封部149A，为了改善气膜14边缘的可调节性，内侧壁148根部的外表面距离直立部142的内表面的距离设置成小于15mm，同时为了使用于夹紧密封的密封部149A的压环满足强度需求并具有气路通道，密封部149A和密封部146A之间的距离应大于等于2mm，并且优为2.5mm至6mm，即这两个密封部的表面之间的最小距离大于等于2mm，并且优为2.5mm至6mm。连接于直立部142顶端的弯折部143具有位于上部的上斜面和位于下部的下斜面，其中，上斜面与水平面的夹角应小于下斜面与水平面的夹角，优选的，角度差为0.5度至5度。

为了改善内侧壁148正下方的底板部141的压力轮廓作用，期望提高内侧壁148根部区域的柔性并且提高内侧壁148中上部区域的刚性，为此，可以在内侧壁148的根部区域设置一褶部F5，使得褶部F5上方的环状内侧壁的半径小于或大于褶部F5下方的环状内侧壁，图2示出了褶部F5上方的环状内侧壁的半径小于褶部F5下方的环状内侧壁的情况，换言之，环状的第一内侧壁的并非完全竖直向上延伸的，而是在其向上大体竖直延伸一段距离之后先形成至少一个褶部之后再继续大体竖直向上延伸形成内侧壁的其他部分。

内侧壁148的内表面区域可以配置有第二气膜内支撑环27；一般而言，第一气膜内支撑环26和第二气膜内支撑环27由诸如PEEK、POM等塑料材料制成或者由诸如不锈钢等金属材料制成，更具体的，第二气膜内支撑环27也可以仅设置在所述褶部F5竖直方向以上的内侧壁148的内表面从而在改善内侧壁148的上部的刚性的情况下不影响内侧壁的褶部及以下部分的柔性，实际上，第二气膜内支撑环27除了具有增强内侧壁148的刚性的作用外，还具有支撑第二水平延伸部149的根部及其附近部分防止当C2腔室的压力大于C3腔室时第二水平延伸部149向下弯曲与气膜的其他内侧壁结构或底板部之间直接或间接接触产生干涉作用，为此，优选将第二气膜内支撑环27的设置成厚度渐变的结构，即使得其上部厚度大于其下部厚度，并且其上部最大厚度至少为内侧壁的最大厚度的2倍，并优选形成为其上部最大厚度大于内侧壁的最大厚度的4倍。

如图3所示，第一气膜内支撑环26形成为包括位于其顶端的内伸部26A和位于其下端的外斜部26B，内伸部26A的作用在于当间隔板146的根部在C1腔室和C2腔室的压力差的作用下向下倾斜和/或弯曲时弯曲过度导致间隔板146的一部分可能与内侧壁之间产生干涉从而对间隔板146的根部形成一定支撑；尽管可以通过加厚第一气膜内支撑环26的整体厚度的方式来为间隔板146的根部提供沿竖直方向的支撑，但这样做可能会导致内侧壁148在向外膨胀过程中与第一气膜内支撑环26的内表面之间产生干涉影响；外斜部26B的作用在于当第一气膜内支撑环26整体向下运动时可以直接向下接触作用于其下部气膜底板边缘部分从而改善边缘部分的压力可调节性，外斜部26B还具有协助第一气膜内支撑环26定位的作用，并且外斜部26B还具有增强直立部142下部区域的刚度的作用；应当理解的是，外斜部26B是可选择性的技术特征而非第一气膜内支撑环26的必要技术特征，如果直立部142的根部的内表面不具有用于容置该外斜部26B的环状的豁口或凹槽，可以使第一气膜内支撑环26不配置诸如外斜部26B这样的特征结构。

如图3所示，气膜14的其他的用于划分腔室的内侧壁150、内侧壁160的延伸形式可以不同，并且用于想这些不同的内侧壁的压环的底面的结构也可以是不同的，例如可以具有斜面等；具体而言内侧壁150可以是从底板部141的上表面向上竖直延伸的，而内侧壁160则可以是从底板部141的上表面倾斜向上沿直线延伸的从而形成环状的斜板，并且这些不同的内侧壁向上延伸的高度也可以是不同的，例如内侧壁150的第三水平延伸部151的高度就低于内侧壁160的第四水平延伸部161的高度，使得在有限的空间内可以尽可能多的设置更多的内侧壁以将可调压腔室划分的更多，从而更均匀更一致的进行化学机械抛光作业；特别的，内侧壁根壁两侧的角度可以不同，如图5所示，内侧壁148根部内侧与底板部141的弧角a2大于其外侧弧角a1，优选的，a2是a1的110％至300％；尽管未示意出，也可以设置成使得a1大于a2，并且a1是a2的110％至300％，并且这些内侧壁的厚度可以设置成不均匀的，从而改善这些根部下方的底板部的区域抛光作业，防止出现诸如压力突变之类的影响抛光轮廓的现象。

鉴于第一气膜内支撑环26和第二气膜内支撑环27的下表面均不接触气膜的底板部141的上表面，因此难以得到气膜14的支撑，可以在直立部142的内表面和/或内侧壁148的内表面分别设置凸起结构147和148B以便于分别固定地卡合第一气膜内支撑环26和第二气膜内支撑环27，所述的分别位于直立部142和内侧壁148的凸起结构147和148B可以形成为截面不同的环状凸起，并且其向内凸起延伸的距离也可以是不同的，这样的不同结构构造主要是为了满足其功能需求，换言之，由于第一气膜内支撑环26和第二气膜内支撑环27的重量、材质、形状和/或结构等可能不同，并且直立部142和内侧壁148的厚度及刚性也是不同的，因此为了使得第一气膜内支撑环26和第二气膜内支撑环27可以可靠地得以卡合，凸起结构147和148B的形状、位置、截面形状和构造也应作出适应性的调整，这样就导致了他们的不同，具体而言，他们的截面形状可以是半圆形、椭圆形、矩形和/或梯形等，作为非替换性改进，尽管未示出，也可以在直立部142和/或内侧壁148的每个内表面分别设置两个或者两个以上的凸起结构使得第一气膜内支撑环26和第二气膜内支撑环27分别于直立部142和/或内侧壁148卡合的更为可靠。

如图4所示，腔室C1与C2的压力很大程度上会相互抵消导致腔室C2正下方气膜部分的下压作用力大于直立部142正下方气膜的下压作用力，尽管腔室C1的一部分作用力会通过斜面146C向下斜下方传递并作用于直立部142并进一步作用于其正下方的气膜，但这样的力的分量仍然无法解决自立部142下方可能出现的压力不足的情况，为此需要充分利用间隔板146在腔室C1加压过程中伸长时作用于间隔板146根部的向外压力传递至直立部142并使其分量作用于直立部142的正下方，因此间隔板146的水平延伸长度与第一水平延伸部144的水平延伸长度之间的长度差L1尤为关键，这个长度差决定了腔室C1和/或C2在加压过程中传递至直立部142正下方的作用力的大小，具体而言，这个长度差值L1的大小与传递至直立部142正下方的作用力的大小大体上成正比，但是考虑到需要放置间隔板146过于向下弯曲与内侧壁等其他结构之间产生干涉，间隔板146的长度亦应受到限制，一般而言L1的长度应大于2mm，优选大于4mm；或者，这样的水平延伸长度差的作用也可以等效地理解为，腔室C1与C2加压的过程中间隔板146与第一水平延伸部144之间的拉力差/压力差可以等效地看做传递至直立部142的正下方的气膜的部分，而这样的拉力差/压力差产生的主要原因在于间隔板146与第一水平延伸部144的沿径向方向水平延伸的距离差。

如图4所示，C2腔室的下方气膜的下表面具有底板凸起141A以改善这部分底板区域可能因为褶皱、皱曲和/或振动而影响该区域的抛光作用效果，该凸起141A的径向长度为0.2至3mm并且其高度为0.2至3mm，并且其位置为距离直立部142的外表面1.5mm至4mm，即该凸起141A的水平中间点距离直立部142的外表面1.5mm至5mm。

如图5所示，直立部142在其中部靠近圆环状的凹槽142B的下断面的位置具有从其内表面向外延伸的环状的第二凹槽142D，该第二凹槽142D的作用在于防止直立部142在其气膜外支撑环28和/或第一气膜内支撑环26的包围下产生不必要的褶皱、变形或应力集中等可能影响气膜边缘压力调控的现象；并且环状的凹槽142C也可以形成为不仅仅沿水平方向径向向外延伸，该凹槽可以形成为如图3所示的那样，向径向外侧的上方倾斜延伸，使得该凹槽下方的气膜底板部的厚度大于气膜底板部的其他部分的厚度，或者形成为如图6所示的那样，向径向外侧的下方倾斜延伸，使得该凹槽下方的气膜底板部的厚度小于气膜底板部的其他部分的厚度。

此外，如图5所示，第一水平延伸部144的上表面的一部分被承载盘13压住，而图6中的第一水平延伸部144的全部上表面被承载盘13压住，图5中部分压住的好处在于从一定程度上增加了腔室C1的自由度可以防止弯折部143向外膨胀与承载盘的附近区域发生干涉；图5和图6中的第一水平延伸部144的上表面都部分或全部与承载盘13接触，进一步的，可以在第一水平延伸部144的上表面与承载盘13的下表面之间设置一定的间隙以增强第一水平延伸部144的自由度，该间隙可以为0.1mm至2mm。

本说明书的附图为示意图，辅助说明本发明的构思，示意性地表示各部分的形状及其相互关系。应当理解的是，为了便于清楚地表现出本发明实施例的各部件的结构，各附图之间并未按照相同的比例绘制，相同的参考标记用于表示附图中相同的部分。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种用于化学机械抛光头的气膜，包括：用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁具有沿所述底板的周缘向上延伸形成的直立部、从直立部上端朝上向内折弯延伸后朝上向外折弯延伸形成的弯折部和从所述弯折部上端弯向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部；以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；其中，所述弯折部向外延伸不超过所述直立部的圆周外表面。

2.一种用于化学机械抛光头的气膜，包括：用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁沿所述底板的周缘向上延伸得以形成并在其顶端弯向内侧水平延伸形成第一水平延伸部；与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；以及从所述边缘侧壁的内表面朝径向内侧上方延伸的间隔壁。

3.一种化学机械抛光头，包括，气膜、平衡架、连轴盘、承载盘、保持环，其中，所述气膜形成为包括，用于接收基板的底板；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁具有沿所述底板的周缘向上延伸形成的直立部、从直立部上端朝上向内折弯延伸后朝上向外折弯延伸形成的弯折部和从所述弯折部上端弯向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部；以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部；其中，所述弯折部向外延伸不超过所述直立部的圆周外表面。

4.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括如权利要求1至2中任一项所述的气膜。

5.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括如权利要求3所述的抛光头。

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