CN112077674A - 一种靶材组件中背板的抛光工艺 - Google Patents

一种靶材组件中背板的抛光工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN112077674A
CN112077674A CN202010937075.8A CN202010937075A CN112077674A CN 112077674 A CN112077674 A CN 112077674A CN 202010937075 A CN202010937075 A CN 202010937075A CN 112077674 A CN112077674 A CN 112077674A
Authority
CN
China
Prior art keywords
polishing
mechanical polishing
abrasive belt
back plate
rotating speed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010937075.8A
Other languages
English (en)
Inventor
姚力军
窦兴贤
王学泽
王青松
刘明健
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Jiangfeng Electronic Material Co ltd
Original Assignee
Hefei Jiangfeng Electronic Material Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Jiangfeng Electronic Material Co ltd filed Critical Hefei Jiangfeng Electronic Material Co ltd
Priority to CN202010937075.8A priority Critical patent/CN112077674A/zh
Publication of CN112077674A publication Critical patent/CN112077674A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • B24B21/008—Machines comprising two or more tools or having several working posts

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明涉及一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带；所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带。本发明通过对抛光工艺的设计，采用不同的砂带及特定的抛光顺序实现了表面污物的去除，同时延长了背板的使用寿命。

Description

一种靶材组件中背板的抛光工艺
技术领域
本发明涉及靶材抛光领域，具体涉及一种靶材组件中背板的抛光工艺。
背景技术
在半导体工业中，靶材组件是由符合溅射性能的靶材和靶材背板构成。靶材背板可以在所述靶材组件装配至溅射基台中起到支撑作用，并具有传导热量的功效。
CN202830156U公开了一种靶材背板，靶材背板中设有密封槽，在不改变密封槽槽深及槽宽的前提下，对靶材背板上密封槽的其它尺寸作出改进，以使密封槽的容量减小，进而使得密封圈进入密封槽内的部分减少、暴露在密封槽外的部分增多。由于密封圈的暴露在密封槽外的部分增多了，因此，压在密封圈上的陶瓷圈与靶材背板之间的距离增大了，陶瓷圈不容易被电离，因而可以降低溅射过程中靶材背板的靠近陶瓷圈的表面处形成黑色印迹的概率。
CN202415679U公开了一种背板及靶材组件。所述背板的第一表面边缘设置有凹槽，所述凹槽的开口宽度小于底面宽度，所述凹槽的内侧表面与底面形成倒圆角，所述倒圆角的半径为0.5-1mm。防止了溅射过程中异常放电现象的发生，改善了溅射环境，进而使得最终沉积的薄膜的质量较好。
然而背板因为异物、铜锈及残铟的存在会显著影响背板的使用的效果，同时亦会对靶材溅射造成影响。
发明内容
鉴于现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种靶材组件中背板的抛光工艺，通过该工艺可以实现背板表面异物、铜锈及残铟的去除，同时还能延长背板的使用寿命。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
本发明提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带；所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带。
本发明通过对抛光工艺的设计，采用不同的砂带及特定的抛光顺序实现了表面污物的去除，同时延长了背板的使用寿命，同时也消除了表面应力，提高了抛光效率。
作为本发明优选的技术方案，所述第一机械抛光中所用砂带的转速为11-13m/min，例如可以是11m/min、11.1m/min、11.2m/min、11.3m/min、11.4m/min、11.5m/min、11.6m/min、11.7m/min、11.8m/min、11.9m/min、12m/min、12.1m/min、12.2m/min、12.3m/min、12.4m/min、12.5m/min、12.6m/min、12.7m/min、12.8m/min、12.9m/min或13m/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第一机械抛光中所用砂带的转速为11.5-12m/min。
作为本发明优选的技术方案，所述第一机械抛光中的进给速度为6-9m/min，例如可以是6m/min、6.2m/min、6.4m/min、6.6m/min、6.8m/min、7m/min、7.2m/min、7.4m/min、7.6m/min、7.8m/min、8m/min、8.2m/min、8.4m/min、8.6m/min、8.8m/min或9m/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第一机械抛光中抛光轮的转速为5-7m/min，例如可以是5m/min、5.1m/min、5.2m/min、5.3m/min、5.4m/min、5.5m/min、5.6m/min、5.7m/min、5.8m/min、5.9m/min、6m/min、6.1m/min、6.2m/min、6.3m/min、6.4m/min、6.5m/min、6.6m/min、6.7m/min、6.8m/min、6.9m/min或7m/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第二机械抛光中所用砂带的转速为5-7m/min，例如可以是5m/min、5.1m/min、5.2m/min、5.3m/min、5.4m/min、5.5m/min、5.6m/min、5.7m/min、5.8m/min、5.9m/min、6m/min、6.1m/min、6.2m/min、6.3m/min、6.4m/min、6.5m/min、6.6m/min、6.7m/min、6.8m/min、6.9m/min或7m/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第二机械抛光中所用砂带的转速为6-6.5m/min。
作为本发明优选的技术方案，所述第二机械抛光中的进给速度为3-7m/min，例如可以是3m/min、3.2m/min、3.4m/min、3.6m/min、3.8m/min、4m/min、4.2m/min、4.4m/min、4.6m/min、4.8m/min、5m/min、5.2m/min、5.4m/min、5.6m/min、5.8m/min、6m/min、6.2m/min、6.4m/min、6.6m/min、6.8m/min或7m/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述第二机械抛光中抛光轮的转速为8-10m/min，例如可以是8m/min、8.1m/min、8.2m/min、8.3m/min、8.4m/min、8.5m/min、8.6m/min、8.7m/min、8.8m/min、8.9m/min、9m/min、9.1m/min、9.2m/min、9.3m/min、9.4m/min、9.5m/min、9.6m/min、9.7m/min、9.8m/min、9.9m/min或10m/min等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11-13m/min，进给速度为6-9m/min，抛光轮的转速为5-7m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为5-7m/min，进给速度为3-7m/min，抛光轮的转速为8-10m/min。
本发明中，机械抛光采用砂带抛光机，先进行砂带抛光然后进行抛光轮抛光。
本发明中，抛光的每次抛光的终点为背板表面光滑、纹路一致。
与现有技术方案相比，本发明至少具有以下有益效果：
本发明通过对抛光工艺的设计，采用不同的砂带及特定的抛光顺序实现了表面污物的去除，同时延长了背板的使用寿命，消除了表面应力，抛光时间由1h以上缩短至30min以内。
具体实施方式
为更好地说明本发明，便于理解本发明的技术方案，本发明的典型但非限制性的实施例如下：
实施例1
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11m/min，进给速度为9m/min，抛光轮的转速为5m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为6m/min，进给速度为5m/min，抛光轮的转速为9m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光30min即合格。
实施例2
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为13m/min，进给速度为6m/min，抛光轮的转速为7m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为5m/min，进给速度为3m/min，抛光轮的转速为10m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光25min即合格。
实施例3
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为12m/min，进给速度为7m/min，抛光轮的转速为6m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为7m/min，进给速度为7m/min，抛光轮的转速为8m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光27min即合格。
实施例4
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11.3m/min，进给速度为8m/min，抛光轮的转速为5.5m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为6.2m/min，进给速度为4.7m/min，抛光轮的转速为8.6m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光20min即合格。
实施例5
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11.8m/min，进给速度为6.6m/min，抛光轮的转速为6.7m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为5.3m/min，进给速度为6.8m/min，抛光轮的转速为8.2m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光22min即合格。
实施例6
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为12.5m/min，进给速度为7.8m/min，抛光轮的转速为6.1m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为6.8m/min，进给速度为3.3m/min，抛光轮的转速为9.5m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光25min即合格。
实施例7
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为12.8m/min，进给速度为7.7m/min，抛光轮的转速为5.5m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为5.7m/min，进给速度为3.3m/min，抛光轮的转速为8.8m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光21min即合格。
实施例8
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为12.2m/min，进给速度为8.8m/min，抛光轮的转速为6.6m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为6.8m/min，进给速度为6.2m/min，抛光轮的转速为9.2m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光25min即合格。
实施例9
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11.5m/min，进给速度为9m/min，抛光轮的转速为6m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为6.6m/min，进给速度为6.6m/min，抛光轮的转速为8.8m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光26min即合格。
实施例10
本实施例提供了一种靶材组件中背板的抛光工艺，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11.8m/min，进给速度为6m/min，抛光轮的转速为6m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为7m/min，进给速度为4.9m/min，抛光轮的转速为10m/min。
背板表面的污物及表面应力去除，使用寿命延长，抛光17min即合格。
对比例1
与实施例1的区别仅在于不进行第二机械抛光，背板表面的污物未完全去除，使用寿命短。
对比例2
与实施例1的区别仅在于不进行第一机械抛光，背板表面的污物未完全去除，使用寿命短。
对比例3
与实施例1的区别仅在于将第一机械抛光中砂带替换为240#的不织布环带，背板表面的污物及表面应力未完全去除，使用寿命短。
对比例4
与实施例1的区别仅在于将第二机械抛光中砂带替换为600#的不织布环带，背板表面的污物及表面应力未完全去除，使用寿命短。
对比例5
与实施例1的区别仅在于将第一机械抛光中的砂带和第二机械抛光中的砂带互换，背板表面的污物未完全去除，使用寿命短。
通过上述实施例和对比例的结果可知，本发明通过对抛光工艺的设计，采用不同的砂带及特定的抛光顺序实现了表面污物的去除，同时延长了背板的使用寿命。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细结构特征，但本发明并不局限于上述详细结构特征，即不意味着本发明必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (10)

1.一种靶材组件中背板的抛光工艺，其特征在于，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带；所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带。
2.如权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，所述第一机械抛光中所用砂带的转速为11-13m/min。
3.如权利要求2所述的抛光工艺，其特征在于，所述第一机械抛光中所用砂带的转速为11.5-12m/min。
4.如权利要求1-3任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第一机械抛光中的进给速度为6-9m/min。
5.如权利要求1-4任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第一机械抛光中抛光轮的转速为5-7m/min。
6.如权利要求1-5任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第二机械抛光中所用砂带的转速为5-7m/min。
7.如权利要求6所述的抛光工艺，其特征在于，所述第二机械抛光中所用砂带的转速为6-6.5m/min。
8.如权利要求1-7任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第二机械抛光中的进给速度为3-7m/min。
9.如权利要求1-8任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述第二机械抛光中抛光轮的转速为8-10m/min。
10.如权利要求1-9任一项所述的抛光工艺，其特征在于，所述抛光工艺包括对靶材背板依次进行第一机械抛光和第二机械抛光；
所述第一机械抛光中所用砂带为600#的不织布环带，砂带的转速为11-13m/min，进给速度为6-9m/min，抛光轮的转速为5-7m/min；
所述第二机械抛光中所用砂带为240#的不织布环带，砂带的转速为5-7m/min，进给速度为3-7m/min，抛光轮的转速为8-10m/min。
CN202010937075.8A 2020-09-08 2020-09-08 一种靶材组件中背板的抛光工艺 Pending CN112077674A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010937075.8A CN112077674A (zh) 2020-09-08 2020-09-08 一种靶材组件中背板的抛光工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010937075.8A CN112077674A (zh) 2020-09-08 2020-09-08 一种靶材组件中背板的抛光工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112077674A true CN112077674A (zh) 2020-12-15

Family

ID=73732479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010937075.8A Pending CN112077674A (zh) 2020-09-08 2020-09-08 一种靶材组件中背板的抛光工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112077674A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101717919A (zh) * 2009-12-28 2010-06-02 宁波江丰电子材料有限公司 靶材组件的制作方法
CN102554569A (zh) * 2011-12-30 2012-07-11 宁波江丰电子材料有限公司 钴靶材的加工方法
DE102015106480A1 (de) * 2015-04-27 2016-10-27 Ferrobotics Compliant Robot Technology Gmbh Vorrichtung zur Oberflächenbearbeitung
CN106312565A (zh) * 2015-06-15 2017-01-11 宁波江丰电子材料股份有限公司 靶材组件的加工方法
CN107866721A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 合肥江丰电子材料有限公司 靶材组件的加工方法
CN110216557A (zh) * 2018-03-01 2019-09-10 松下知识产权经营株式会社 电动工具
CN110877235A (zh) * 2019-12-03 2020-03-13 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种靶材背板表面的抛光处理方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101717919A (zh) * 2009-12-28 2010-06-02 宁波江丰电子材料有限公司 靶材组件的制作方法
CN102554569A (zh) * 2011-12-30 2012-07-11 宁波江丰电子材料有限公司 钴靶材的加工方法
DE102015106480A1 (de) * 2015-04-27 2016-10-27 Ferrobotics Compliant Robot Technology Gmbh Vorrichtung zur Oberflächenbearbeitung
CN106312565A (zh) * 2015-06-15 2017-01-11 宁波江丰电子材料股份有限公司 靶材组件的加工方法
CN107866721A (zh) * 2016-09-26 2018-04-03 合肥江丰电子材料有限公司 靶材组件的加工方法
CN110216557A (zh) * 2018-03-01 2019-09-10 松下知识产权经营株式会社 电动工具
CN110877235A (zh) * 2019-12-03 2020-03-13 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种靶材背板表面的抛光处理方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
卞洪元: "《机械制造工艺与夹具 第2版》", 30 September 2016, 北京理工大学出版社 *
杨黎明等: "《刀具设计手册》", 31 January 1999, 兵器工业出版社 *
沈言锦等: "《塑料模歌城设计与毕业设计指导》", 30 April 2008, 湖南大学出版社 *
顾永琴: "《材料实验技术》", 31 January 2014, 中国矿业大学出版社 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1646946B (zh) 汽车前大灯的投影透镜的制造方法
WO2008010357A1 (fr) Support pour dispositif de polissage recto verso et dispositif de polissage recto verso et procédé de polissage recto verso utilisant le support
CN112077674A (zh) 一种靶材组件中背板的抛光工艺
WO2011161906A1 (ja) 炭化珪素半導体素子の製造方法と製造装置
KR100293854B1 (ko) 아이티오스퍼터링타겟트및동타겟트의클리닝방법
CN111775018A (zh) 一种铜靶材组件的除锈打磨方法
KR20110044120A (ko) 기판 연마 장치 및 연마 방법
CN210704125U (zh) 一种封头打磨机用打磨机构
CN111069985B (zh) 一种2.5d玻璃盖板抛光方法
CN206937017U (zh) 一种3d产品扫光设备
CN215452868U (zh) 一种用于异质结太阳能电池的载板
CN115747733A (zh) 一种溅射用沉积环及其应用
CN116140258B (zh) 一种刚带加工表层处理器
CN217130083U (zh) 一种高适用性轴承
CN218965137U (zh) 一种具有散热排屑结构的砂轮
CN221290711U (zh) 皮带打磨机
CN220265823U (zh) 镀膜载板、镀膜装置及太阳电池生产系统
CN212542459U (zh) 一种高附着性的镀膜膜层及用于tco镀膜的可回收假片
CN214634567U (zh) 一种耐高温耐腐蚀的胶带过滤机用布料槽
CN216589114U (zh) 用于延长压缩机使用寿命的轴封结构
KR102037746B1 (ko) 웨이퍼 양면 연마 장치
CN116160356B (zh) 静压支撑件、双面研磨装置和双面研磨方法
CN221662176U (zh) 一种铝带材卷绕辊
CN213999046U (zh) 再生晶圆低磨耗的均质化研磨系统
CN210938459U (zh) 一种印刷电路板具有粉尘处理结构的磨边机

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20201215