CN112045314A - 包括激光纹理化玻璃盖构件的电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开涉及包括激光纹理化玻璃盖构件的电子设备。公开了一种适用于电子设备的激光纹理化玻璃盖构件。该玻璃盖构件的激光纹理化表面可向电子设备的外表面提供平滑感且不引入可感知的视觉纹理。还公开了用于制备该激光纹理化玻璃盖构件的方法。

Description

包括激光纹理化玻璃盖构件的电子设备

相关申请的交叉引用

本申请是2019年6月5日提交的标题为“Laser-Textured Glass Cover Members”(激光纹理化玻璃盖构件)的美国专利申请62/857,634的非临时专利申请并要求其权益，该文献的公开内容全文以引用方式并入本文。

技术领域

本文描述的实施方案整体涉及用于电子设备壳体的表面纹理。更具体地讲，本公开的实施方案涉及包括激光纹理化玻璃盖构件的壳体、包括此类壳体的电子设备以及对玻璃盖构件进行激光纹理化的方法。

背景技术

电子设备的壳体可包括玻璃盖构件。玻璃盖构件可设置在显示器或触控板上。在一些情况下，可使用常规的机加工或蚀刻技术来纹理化玻璃盖构件，以提供特定的光学和触觉效果。

发明内容

本文公开了激光纹理化玻璃部件。玻璃部件诸如玻璃盖构件的激光纹理化表面可被构造成向电子设备的外表面提供期望的触觉“感觉”。另外，激光纹理化表面可向电子设备的外表面提供期望的外观。

如本文所述的激光纹理化表面可包括被构造成提供期望的触觉和光学属性的激光成形特征部。可将限定激光纹理化表面的玻璃盖构件包括在电子设备壳体的盖组件中。还公开了包括激光纹理化玻璃盖构件的壳体、包括此类壳体的电子设备以及对玻璃盖构件进行激光纹理化的方法。

本公开提供了一种电子设备，该设备包括至少部分地限定电子设备的内部体积的壳体。壳体包括盖组件，该盖组件包括限定外表面和内表面的玻璃盖构件。玻璃盖构件还限定沿外表面并且由玻璃盖构件的烧蚀和流动产生的激光成形特征部，这些激光成形特征部限定具有从约0.1微米^-1至约1.2微米^-1的平均峰值曲率(S_sc)的峰部。盖组件还包括沿内表面设置并且能够通过玻璃盖构件查看的美化或装饰涂层。

此外，本公开提供了一种电子设备，该电子设备包括壳体、至少部分地定位在壳体内的显示器、联接到壳体并限定定位在显示器上方的透明部分的第一玻璃盖构件，以及联接到壳体并包括用于限定山和谷的不规则的组的激光纹理化表面的第二玻璃盖构件。山和谷的不规则的组具有从约1微米至约15微米的峰部平均间距和从约0.1微米至约1.5微米的均方根表面高度(Sq)。

本公开还提供了一种方法，该方法包括在电子设备的玻璃盖构件上形成激光纹理化表面，包括将激光脉冲的第一序列引导到玻璃盖构件的表面上以在玻璃盖构件的表面上产生一组第一暴露区域，从而在玻璃盖构件的表面上形成第一表面纹理。在玻璃盖构件上形成激光纹理化表面还包括将激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上以在玻璃盖构件的表面上产生一组第二暴露区域，该第二暴露区域中的至少一个偏离并重叠第一暴露区域中的至少一个，从而导致玻璃盖构件的表面的一部分的流动，并且在玻璃盖构件的表面上形成与第一表面纹理不同的第二表面纹理。

在一些实施方案中，激光脉冲的每个序列导致玻璃盖构件表面的烧蚀。将激光脉冲序列引导到玻璃盖构件的表面上的操作中的至少一个可导致玻璃盖表面的激光引起的流动。因此，玻璃盖构件的纹理可通过激光烧蚀玻璃盖构件的表面和玻璃盖构件表面的激光引起的流动的组合来形成。

附图说明

本公开通过下面结合附图的具体描述将更易于理解，其中类似的附图标记表示类似的元件。

图1A示出了包括激光纹理化玻璃盖构件的示例性电子设备的前视图。

图1B示出了图1A的电子设备的后视图。

图1C示出了图1A和1B的电子设备的剖视图。

图2A示出了图1B的电子设备的局部剖视图。

图2B示出了图2A的盖组件的细部图。

图3示出了包括激光纹理化玻璃盖构件的另一个示例性电子设备。

图4示出了图3的电子设备的局部剖视图。

图5示出了激光纹理化表面的顶视图。

图6示出了图5的激光纹理化表面的激光成形特征部的剖视图。

图7示意性地示出了化学强化后的激光纹理化玻璃盖构件。

图8示出了用于形成激光纹理化玻璃盖构件的过程的流程图。

图9示意性地示出了玻璃构件上的激光暴露区域的序列的细部图。

图10A示意性地示出了第一激光纹理化操作。

图10B示意性地示出了一定程度经过第一激光纹理化操作的玻璃盖构件的放大视图。

图10C示意性地示出了第二激光纹理化操作。

图10D示意性地示出了一定程度经过第二激光纹理化操作的玻璃盖构件的放大视图。

图11示出了可结合具有激光纹理化表面的玻璃盖构件的样本电子设备的框图。

附图中的交叉影线或阴影的用途通常被提供以阐明相邻元件之间的边界并还有利于附图的易读性。因此，存在或不存在无交叉影线或阴影均不表示或指示对特定材料、材料属性、元件比例、元件尺寸、类似图示元件的共同性或在附图中所示的任何元件的任何其它特性、性质、或属性的任何偏好或要求。

此外，应当理解，各个特征部和元件(以及其集合和分组)的比例和尺寸(相对的或绝对的)以及其间呈现的界限、间距和位置关系在附图中被提供，以仅用于促进对本文所述的各个实施方案的理解，并因此可不必要地被呈现或示出以进行缩放并且并非旨在指示对所示的实施方案的任何偏好或要求，以排除结合其所述的实施方案。

具体实施方式

现在将具体地参考在附图中示出的代表性实施方案。应当理解，以下描述并非旨在将实施方案限制于一个优选的具体实施。相反，所述实施方案旨在涵盖可被包括在本公开以及由所附权利要求限定的实质和范围内的替代形式、修改形式和等同形式。

以下公开内容涉及激光纹理化玻璃部件，诸如玻璃盖构件。玻璃盖构件的激光纹理化表面可向电子设备的外表面提供期望的触觉、摩擦和/或光学属性。激光纹理化玻璃盖构件可包括在电子设备壳体的盖组件中。本文还公开了包括激光纹理化玻璃盖构件的壳体和包括此类壳体的电子设备。

与一些常规玻璃纹理化技术相比，本文所公开的激光纹理化方法可具有优点。与一些常规的研磨蚀刻技术相比，本文所述的激光纹理化方法可产生更平滑的纹理化表面。例如，激光纹理化表面可具有比用一些常规技术获得的特征部更圆化的特征部。具有圆化特征部的纹理化表面可给电子设备提供更光滑的感觉并且可使得纹理化表面更易于清洁。此外，本文所述的激光纹理化方法不需要常规化学玻璃蚀刻技术中使用的酸(例如氢氟酸)。

在一些实施方案中，玻璃盖构件的激光纹理化表面可被构造成提供特定的摩擦系数或换句话讲可在触摸表面时让用户产生特定的触感。例如，激光纹理化表面可被构造成对于沿激光纹理化表面触摸或滑动的手指具有在指定范围内的摩擦系数，从而为壳体提供期望的感觉。用户可能因为设备的正常操作或向设备提供输入而沿激光纹理化表面触摸或滑动手指(诸如当玻璃盖构件限定设备的触敏表面或其它输入表面时)。

此外，激光纹理化表面可被构造成单独地或与一个或多个施加到或以其它方式通过玻璃盖构件可见的涂层组合而向设备赋予某些光学属性或外观。例如，包括激光纹理化玻璃盖构件和装饰涂层的盖组件可具有期望的光泽度、雾度、透射率等，所有这些特性均可配合以产生期望的视觉外观和/或性能。此外，激光纹理化表面可能不会将可感知的视觉纹理引入到壳体的对应外表面上。

以下公开内容还涉及用于形成激光纹理化玻璃部件诸如玻璃盖构件的方法。激光纹理化玻璃盖构件可通过包括多个激光纹理化操作的方法来制备。玻璃盖构件的纹理可通过激光烧蚀玻璃盖构件的表面和玻璃盖构件表面的激光引起的流动的组合来形成。在一些实施方案中，在最终激光纹理化操作之后，玻璃盖构件的纹理包括山和谷的不规则的组。在最终纹理化操作之后，不同烧蚀坑的数目可小于第一激光纹理化操作之后的数目。

每个激光纹理化操作将激光脉冲序列引导到玻璃盖构件的表面上。激光脉冲的每个序列在玻璃盖构件的表面上产生一组暴露区域。后续操作的暴露区域中的至少一个可偏离并重叠先前操作的暴露区域中的至少一个。通常，激光脉冲的每个序列导致玻璃盖构件表面的烧蚀。多个激光纹理化操作可导致玻璃盖表面的激光引起的流动。

由本文所述的方法制备的纹理可具有随机或几乎随机的外观。此外，纹理可不包括指示激光束在玻璃盖构件上的路径的特征部，诸如光栅标记。此外，纹理可包括具有圆化边缘或由于玻璃材料的流动和/或熔融形成的特征部。

下面参考图1至图11来讨论这些和其它实施方案。然而，本领域的技术人员将容易地理解，本文相对于这些附图所给出的详细描述仅出于说明性目的，而不应被理解为是限制性的。

图1A示出了包括激光纹理化玻璃盖构件的电子设备100的示例。电子设备100可为移动电话(也称为手机)。在另外的实施方案中，电子设备100可为笔记本计算设备(例如笔记本电脑)、平板计算设备(例如平板电脑)、便携式媒体播放器、可穿戴设备或另一种类型的便携式电子设备。电子设备100还可为台式计算机系统、计算机部件、输入设备、装置或实际上任何其它类型的电子产品或设备部件。

图1A示出了电子设备100的前视图。如图1A所示，电子设备100具有包括盖组件122的壳体110。盖组件122可附接到外壳构件130。壳体110可至少部分地围绕显示器142，并且盖组件122可定位在显示器142上方。显示器142可被配置为产生能够通过盖组件122查看的图形输出。例如，盖组件122可限定可供查看图形输出的透明窗口区域或窗口部分。盖组件122可限定前表面102，并且外壳构件130可限定电子设备的侧表面106。在一些情况下，盖组件122可限定电子设备的正面并且可被称为前盖组件。在该示例中，盖组件122限定电子设备100的基本上整个前表面102。

在一些实施方案中，盖组件122可被描述为玻璃盖。然而，更一般地，盖组件诸如盖组件122和盖组件124可由多个层形成，并且玻璃盖构件(例如，图1C中所示的玻璃盖构件123和125)可形成盖组件的层中的一个。例如，多层盖组件可包括一个或多个玻璃片、聚合物片和/或各种涂层和层。本文的典型盖组件为薄的，通常小于5mm厚，并且更典型地小于3mm厚。在一些方面，盖组件的玻璃盖构件可为约0.1mm至2mm、0.5mm至2mm或0.2mm至1mm厚。在一些情况下，玻璃盖构件可横跨盖组件延伸，诸如基本上跨盖组件的宽度和长度。在一些情况下，盖组件(和玻璃盖构件)可限定开口以允许从设备部件诸如相机组件、麦克风或其它设备部件输入或输出。

图1B示出了图1A的电子设备100的后视图。壳体110还包括附连到外壳部件130的盖组件124。在一些情况下，盖组件124可限定电子设备的背面并且可被称为后盖组件。在该示例中，盖组件124限定电子设备100的基本上整个后表面104。在图1B的示例中，盖组件124限定电子设备的纹理化后表面104。纹理化后表面104可形成电子设备的后表面的一部分或全部。

如相对于图2A至图7更详细地描述，盖组件124可包括限定具有激光成形特征部的激光纹理化表面的玻璃盖构件(例如，图1C所示的玻璃盖构件125)。激光成形特征部能够通过触摸感知，但不可通过视觉单独感知。激光成形特征部可有助于电子设备的纹理化后表面104的感觉和/或摩擦系数。此外，激光成形特征部可有助于电子设备的盖组件124和纹理化后表面104的一个或多个光学属性。玻璃盖构件的激光纹理化表面可至少部分地限定纹理化后表面104。例如，纹理化后表面104可由玻璃盖构件的激光纹理化表面与施加到激光纹理化表面的任何涂层的组合限定。

图1C示出了图1A和图1B的电子设备100的实施方案的诸如沿A-A的剖视图。如图1C中所示，盖组件124包括玻璃盖构件125，并且盖组件122包括玻璃盖构件123。层170(诸如美化或装饰层)沿盖组件124的内表面设置。例如，装饰层可包括彩色层(例如，油墨、染料、油漆等)和/或金属层。在一些实施方案中，包括至少一个装饰层的多层装饰涂层沿玻璃盖构件的内表面设置，如结合图2A更详细地描述。又如，美化层可形成掩膜层。

如图1C中所示，电子设备100包括沿盖组件122设置的触摸传感器144和沿触摸传感器144设置的显示器142。触摸传感器144和显示器142均定位在电子设备100的内部腔体105内。触摸传感器144和显示器142可诸如利用粘合剂和/或紧固件或另一种形式的机械附接联接到盖组件122。电子设备将通常包括图1C中所示的部件之外的另外部件。例如，电子设备可包括显示器、处理单元、控制电路、存储器、输入/输出设备、电源(例如电池)、充电组件(例如无线充电组件)、网络通信接口、相机或其它附件和传感器中的一者或多者。下文参考图11更详细地讨论了样本电子设备的部件。相对于图11提供的描述大体上适用于本文，为了简洁明起见，此处不再重复。

图1C的外壳构件130可包括一个或多个金属构件或者一个或多个玻璃构件。外壳构件130可限定电子设备的全部四个侧面或连续侧表面。在一个示例中，侧表面106由通过聚合物或电介质段分隔的一系列金属段形成，这些聚合物或电介质段在相邻金属段之间提供电隔离。又如，侧表面106可由一个或多个玻璃构件、玻璃陶瓷构件或包括玻璃和玻璃陶瓷的构件限定。可使用紧固件或紧固技术将盖组件122和124联接到外壳构件130。例如，可使用粘合剂、接合特征部、紧固件或它们中任意的组合将盖组件122和124联接到外壳构件130。

虽然图1A、1B和1C的示例性电子设备100包括两个盖组件122和124，这些盖组件包括玻璃盖构件123和125，但可对用于限定设备外表面的任何部分的盖组件应用相同或相似的纹理和纹理化过程。例如，另一个示例性盖组件可限定电子设备100的被配置为用于接纳电子设备100的各种电子部件的内部腔体105的一部分或全部。在一些情况下，盖组件可限定电子设备100的整个或基本上整个前表面以及电子设备100的一个或多个侧面或侧壁。类似地，盖组件可限定电子设备100的整个或基本上整个后表面以及电子设备100的一个或多个侧面或侧壁。另外，玻璃部件可为限定电子设备100的前表面、后表面和一个或多个侧表面的整体部件。在一些实施方案中，单个盖组件(例如盖组件124)可在元件的不同区域具有不同的激光纹理化表面。

图2A示出了电子设备200的局部剖视图。电子设备200可为图1B的电子设备的示例，其中穿过图1B的细部区域1-1截取剖面。图2A中所示的盖组件224包括玻璃盖构件225并且可为图1B的盖组件124的实施方案。相对于本文所述的盖组件124、玻璃盖构件125以及其它纹理化盖组件和玻璃盖构件所提供的细节适用于盖组件224和玻璃盖构件255，为了简洁起见，此处不再重复。

玻璃盖构件225限定激光纹理化表面254。如图2所示，激光纹理化表面254为玻璃盖构件的外表面。激光纹理化表面254与施加到激光纹理化表面(例如图2B的涂层282)的任何涂层组合可限定电子设备200的纹理化后表面204。装饰涂层270沿玻璃盖构件225的内表面226设置。通过玻璃盖构件225看到的装饰涂层270可向电子设备200提供装饰效果。

如图2A示意性所示，激光纹理化表面254包括激光成形特征部，诸如山特征部262和谷特征部266。每个山特征部262可通过位于山262的最高点处的峰部263来表征。类似地，每个谷特征部266可通过最低点267来表征。表面上的最高点或最低点的高度可相对于参考表面255来测量，诸如激光纹理化表面的算术平均值。在一些实施方案中，激光纹理化表面可限定山和谷的不规则的组。山和谷的不规则的组可在山特征部、谷特征部或它们的组合之间具有不规则的间距，诸如不均匀的间距或间距值的分布。山和谷的组可具有间距值的随机或伪随机分布。

激光成形特征部262和266可被构造成向激光纹理化表面提供期望的触感。例如，圆化的山262和谷266可向激光纹理化表面和电子设备的对应外表面204提供平滑感(参见图2B)，尤其是相比于具有不同边缘或尖峰和/或谷的更尖锐限定的特征部。在一些实施方案中，激光成形特征部262和266的高度、形状和间距可影响移动物体与玻璃盖构件的表面之间的接触区域。例如，跨激光成形山262和谷266移动的手指可能不会接触谷的最深部分。

不受具体理论的约束，控制物体与玻璃盖构件的表面之间的接触区域可有助于控制盖组件与接触盖组件的物体之间的摩擦系数。在一些实施方案中，物体与激光纹理化表面之间的接触区域不同于同一物体与平滑表面(例如，抛光的或未纹理化的玻璃表面)之间的接触区域。

激光纹理化表面254可被构造成提供某些光学属性。例如，激光成形特征部262和266可被构造成向表面提供低光泽度外观。例如，在施加装饰涂层270之后，激光纹理化表面可具有在60度下测量的小于10光泽度单位或2至10光泽度单位的光泽度值。在一些情况下，激光纹理化表面254的纹理可导致玻璃盖构件225看起来是半透明的而不是透明的(在施加任何美化或装饰涂层之前)。在一些情况下，纹理化区域的光泽度可使用可商购获得的装置并且根据ASTM或ISO标准测试方法来测量。角度测量结果可指入射光与激光纹理化表面的垂线之间的角度。

激光纹理化表面254可被构造成使得其缺乏可感知的视觉纹理。例如，激光纹理化表面254或电子设备外表面的对应部分可具有小于视觉感知阈值的对比度变化。在一些实施方案中，与跨表面的亮度和暗度的感知变化相关的粒度可小于指定值。激光纹理化表面254的粒度可使用可商购获得的装置在漫射照明下测量。在一些情况下，可使用数字相机获得激光纹理化表面的图像，并且可确定图像的每个像素的明度，从而能够确定跨激光纹理化表面的亮度变化。例如，可得自BYK的BYK-mac设备可产生由亮度水平的柱状图确定的粒度值。例如，激光纹理化表面的粒度可小于约1。

因此，当通过玻璃盖构件观察时，激光纹理化表面254可基本上不影响涂层的视觉均匀度。在一些情况下，通过激光纹理化表面观察的涂层可具有小于指定值的颜色变化。例如，通过玻璃盖构件观察的涂层的图像可使用数字相机获得，并且可确定图像的每个像素的颜色，从而能够确定颜色和/或亮度变化。可使用标准比色技术评估颜色。例如，CIEL*a*b*(CIELAB)色彩空间中的坐标可用于表征颜色，其中L*表示亮度，a*表示红色/品红色和绿色之间的位置，并且b*表示黄色和蓝色之间的位置。每个像素的亮度(在漫射照明下测量)可用于确定通过玻璃盖构件观察到的装饰涂层的粒度，并且可如前所述进行测量。类似地，电子设备外表面的对应部分的颜色和/或亮度变化(例如，在施加氟化涂层和装饰涂层之后)可得以测量并且可小于指定值。此外，玻璃盖构件的一部分或看起来基本上无色或光学清晰的涂层(例如外部或内部涂层)可具有a*中每一者的绝对值，并且b*可小于5、小于3或小于或等于2，并且L*的值可大于90、大于95或大于98。

激光纹理化表面254可通过各种表面纹理参数来描述。在一些实施方案中，激光纹理化表面254可通过区域表面纹理参数诸如幅值参数、空间参数和混合参数来描述。表面过滤可用于在确定表面纹理参数之前排除表面噪声和/或表面波度。此外，可使用分割技术来确定特征部参数，诸如最大直径、最小直径、面积和周长。这些参数可基于投影到参考表面(例如参考平面)上的特征部形状来计算。可针对给定类别的特征部(例如山或谷)确定平均值。表面纹理参数和用于确定这些参数(包括过滤和分割)的方法更详细地描述于国际标准化组织(ISO)标准25178(几何产品技术规范(GPS)-表面纹理：面积)中。这些表面纹理参数可使用可商购获得的装置来测量。

激光纹理化表面254可部分地通过激光成形特征部的高度来表征。例如，激光纹理化表面254可通过表面的均方根高度S_q或算术平均高度S_a来表征。表面的均方根高度可大于零且小于约1.5微米、小于或等于约1微米、从约0.1微米至约1.5微米、从约0.25微米至约1.0微米、或从约0.5微米至约1.5微米。

此外，激光纹理化表面可通过侧向参数诸如峰之间的距离来表征。如前所述，峰之间的间距可以是不规则的(即不均匀的)。峰之间的平均距离也可称为平均间距。平均间距可从约1微米至约20微米、从约1微米至约15微米、从约2.5微米至约10微米、从约1微米至约10微米、或从约5微米至约15微米。另外，激光纹理化表面可通过幅值参数和侧向参数的组合来表征。例如，可使用激光成形特征部的幅值对峰间距的比率来表征激光纹理化表面的纵横比。在一些实施方案中，该比率可从约0.01至约0.2，或从约0.02至约0.1。

山特征部262可被构造成使得围绕峰263的山特征部的部分圆化。如相对于图8更详细地讨论，峰的圆化可至少部分地由激光纹理化过程期间玻璃盖构件225的玻璃材料的流动、松垂和/或熔融所致。例如，如本文所述，激光纹理化过程可包括使激光束多次通过玻璃盖构件225的表面，其中激光的前期通过向玻璃盖构件225赋予一定量的热量，并且在玻璃盖构件225仍利用前期通过加热时施加后续通过。由于来自前期通过的热量保留在玻璃盖构件225中，后续通过可磨掉先前形成的锋利边缘，并且还可产生具有比未加热的盖构件225所得到的更圆化的边缘或形状的新特征部。

激光纹理化表面可通过峰部(也称为顶点)的曲率来表征，诸如通过算术平均峰曲率S_sc来表征。在一些实施方案中，顶点曲率的算术平均值大于零且小于约1.5微米^-1、从约0.1微米^-1至约1.2微米^-1、从约0.25微米^-1至约1.0微米^-1、或从约0.5微米^-1至约1.5微米^-1。

山特征部262和/或谷特征部266也可被构造成使得特征部的侧部是倾斜的。如相对于图8更详细地讨论，山特征部262和谷特征部266的斜率可至少部分地由激光纹理化过程期间玻璃盖构件225的玻璃材料的流动(例如，在向玻璃材料赋予热的初始激光通过之后的后续激光传递期间产生)所致。激光纹理化表面可通过均方根表面倾斜度(S_dq)(也称为均方根梯度)来表征。在一些实施方案中，均方根斜率可大于零且小于约1微米、从约0.1微米至小于约1微米、大于约0.25微米且小于约1微米、或大于约0.25微米且小于约0.75微米。

如图2A中所示，美化或装饰涂层270可沿玻璃盖构件225的内表面226(并且因此沿盖组件224的内表面)设置。在图2A的示例中，装饰涂层270为包括第一彩色层274和第二彩色层276的多层涂层。图2A所示的装饰涂层270还包括光学致密层278。

在一些情况下，美化或装饰涂层270包含聚合物。美化或装饰涂层270可包含至少40％、50％、60％或70％的聚合物，并且因此可被称为基于聚合物的涂层或聚合物涂层。当美化或装饰涂层270还包含着色剂时，聚合物可充当着色剂的粘合剂。着色剂(例如颜料)可基本上分散在聚合物的基质中。例如，聚合物可为聚酯基、环氧基或氨基甲酸酯基的，或基于另一合适类型的聚合物或共聚物。美化或装饰涂层270还可包含任选的添加剂，诸如一种或多种填料、稀释剂、聚合引发剂和/或稳定剂。在一些实施方案中，聚合物具有交联结构。

在一些实施方案中，彩色层274和276(也可称为油墨层)中的至少一个包含聚合物和分散在聚合物中的着色剂，但任何颜料、油漆、油墨、染料、片材、膜或其它层也可用作装饰涂层270或它的一部分。彩色层中的每个(诸如彩色层274和276)可为透明的、半透明的或不透明的。彩色层中的每个可包括相同的着色剂或不同的彩色层可包括不同的着色剂。彩色层274和276中的每个的厚度可从约2微米至约10微米。

光学致密层278的光密度可通过OD＝log₁₀(初始强度/透射强度)来描述，并且可大于或等于1、大于或等于2、或大于或等于3。一般来说，光学致密层278包含聚合物。光学致密层278还可包含一种或多种颜料、染料或其组合。例如，光学致密层278在可见范围内具有基本波长独立(中性)的反射率和/或吸收光谱。此外，光学致密层278可具有非彩色特性颜色。光学致密层278的厚度可从约2微米至约10微米。

在另外的实施方案中，另选地或除彩色层和/或光学致密层之外，装饰涂层可包括金属层和光学清晰层。这种金属层可向装饰涂层提供可通过玻璃盖构件看到的金属效果。例如，层的金属可选自铝、铜、镍、银、金、铂以及其合金。金属层可被构造成至少部分透射可见光。在实施方案中，金属层可具有大于约0.5nm且小于10nm、小于5nm、小于3nm、小于2nm或小于1nm的厚度。光学清晰层可限制或防止裂纹从金属层传播到玻璃盖构件225中。光学清晰层可为聚合物层，并且可具有从约1微米至约5微米的厚度。光学清晰层可沿玻璃盖构件225的内表面设置，金属层可定位在光学清晰层与光学致密层之间，第一彩色层可定位在金属层与光学致密层之间，并且第二彩色层可定位在第一彩色层与光学致密层之间。

此外，装饰涂层可包括位于光学致密层后面并且沿光学致密层设置的附加聚合物层。如果电子设备的部件胶合到装饰涂层，这些附加层可包括保护层，该保护层保护多层涂层彩色层不因胶合受损。附加层还可包括保护层的向内层，该层有利于装饰涂层粘附到胶上。

在一些实施方案中，盖组件(诸如盖组件224)可包括施加在玻璃盖构件的激光纹理化表面上的涂层，如图2B所示。图2B示出了图2A的盖组件224的区域2-2的细部图。如图2B所示，玻璃盖构件225限定了山特征部262。盖组件224还包括设置在山特征部262上的涂层282。山特征部262和涂层282的组合可限定盖组件224的表面结构292。更一般地，激光成形特征部(例如262)和涂层282的组合可限定电子设备的外表面204的纹理。

例如，涂层282可提供对壳体上的油和其它沉积物的抗性。涂层可为氟化涂层。例如，氟化涂层可包括氟化材料诸如氟化低聚物或聚合物，以赋予疏油性和/或疏水性特性。下面相对于图8进一步详细地讨论了此类涂层。相对于图8提供的讨论大体上适用于本文，为了简明起见，此处不再重复。

包括设置在玻璃盖构件的外表面上的涂层的盖组件可根据盖组件的表面纹理参数和光学属性来表征。此类涂层通常为薄的，诸如具有50nm或更小的厚度。因此，盖组件的表面纹理参数和光学属性可类似于激光纹理化表面的那些。因此，在一些实施方案中，盖组件的表面纹理参数和光学属性的值可如先前针对激光纹理化表面所述的那样。

图3示出了包括激光纹理化玻璃盖构件的电子设备的另一个示例。电子设备300可为笔记本电脑。如图3所示，电子设备300具有显示器部分301和枢转地联接到显示器部分的基体部分303。显示器部分301包括显示器外壳312和至少部分地位于显示器外壳内的显示器342。盖组件322设置在显示器342上方。在一些方面，盖组件322可类似于图1B的盖组件124和本文所述的其它盖组件，因此对共有或类似特征部的描述被省略以减少冗余。

基体部分303被配置为接收各种类型的用户输入，诸如触摸输入、力输入以及触摸输入和力输入的组合。如图3所示，基体部分303包括限定键盘区域332和触摸输入区域334和336的顶壳314。如图3所示，触摸输入区域334包括限定设备300的纹理化外表面304的盖组件324，并且可为电子设备300提供触控板。在一些实施方案中，单个触摸输入区域(例如，触摸输入区域334)可在元件的不同区域包括不同方式纹理化的表面。另外，不同的触摸输入区域(例如，触摸输入区域334和336)可包括不同方式纹理化的表面。如相对于图4更详细地讨论，电子设备300可包括被配置为沿触摸输入区域334检测触摸或触摸输入的触摸传感器。顶壳314可联接到底壳316，并且顶壳314和底壳316可一起限定基体部分303的内部体积的一部分。

图4示出了图3的电子设备的示意性剖视图。剖面穿过电子设备400的基体部分403的触摸输入区域434(例如，沿B-B)截取。如图4所示，触摸输入区域434包括限定电子设备的纹理化外表面404的盖组件424。盖组件424联接到顶壳414。还示出了底壳416。

装饰涂层470沿盖组件424的内表面设置。如图4所示，盖组件424的内表面可大致与电子设备400的激光纹理化外表面404相对。装饰涂层470可包括至少一个彩色层。该彩色层可类似于先前相对于图2A描述的彩色层。装饰涂层470也可形成光学致密的涂层。装饰涂层470可为美化或装饰涂层270或本文所述的任何其它装饰或美化涂层的示例。这些装饰或美化涂层的细节适用于装饰涂层470，为了简洁起见，此处不再重复。

如图4所示，触摸传感器444沿装饰涂层470设置，并且力传感器446设置在触摸传感器444下方。由元件448示意性地指示的附加组件也可包括在基体部分403的内部体积内。附加设备部件的描述相对于图1C和图11提供，为了简洁起见，此处不再重复。

应当理解，给定纹理化玻璃构件的激光成形特征部诸如山特征部和谷特征部可在形状和间距方面变化。图5示出了玻璃盖构件525的另一个示例性激光纹理化表面554的顶视图。激光纹理化表面554可为玻璃盖构件525的外表面。玻璃盖构件525可为图2A的玻璃盖构件225或本文所述的任何其它玻璃盖构件的实施方案。这些玻璃盖构件的细节适用于玻璃盖构件525，为了简洁起见，此处不再重复。图5的比例与图2A和图4相比经放大，以便更好地示出激光成形特征部。

图5的激光纹理化表面554在相邻的山特征部562与峰部563之间具有不均匀的间距。因此，山特征部562未被布置成规则阵列。谷特征部566位于相邻的山特征部562之间。谷特征部566的深度未在图5的顶视图中示出。由于山特征部和谷特征部是不均匀间隔的，因此激光纹理化表面554的总体外观可能缺少视觉上明显的图案(例如，线、条纹、涡旋、网格等的图案)，即使特征部可全部使用预先确定的激光脉冲图案形成。

图5中所示的山特征部562中的至少一些是细长的(例如，当从特征部上方观察时，不是基本上圆形的)。在一些情况下，细长的山特征部可被称为脊。以举例的方式，给定激光成形特征部诸如山特征部562的最大直径或线性尺寸L_max可大于最小直径或线性尺寸L_min并且可为最小直径或线性尺寸的至少两倍。在一些情况下，最大线性尺寸可沿第一方向，最小线性尺寸可沿第二方向，并且第一方向可垂直于第二方向。激光纹理化表面554可通过先前相对于图2A所述的相同纹理参数来描述。

山特征部也可具有不均匀和/或不对称的峰构型。例如，图6示出了玻璃盖构件625的激光纹理化表面654的非对称山特征部662的详细剖视图(例如，沿D-D)。玻璃盖构件625可为图5的玻璃盖构件525或本文所述的任何其它玻璃盖构件的实施方案。这些玻璃盖构件的细节适用于玻璃盖构件625，为了简洁起见，此处不再重复。

山特征部662的峰部663具有在参考表面655上方的高度Z，并且不居中地位于山特征部662上。此外，山特征部662的坡664a与坡664b不同。谷666a和666b的形状也不同。激光纹理化表面654可通过先前相对于图2A所述的相似表面纹理参数来描述。

玻璃盖构件可在形成激光纹理化表面之后通过离子交换来化学强化。图7示意性地示出了具有激光纹理化表面554和内表面756的玻璃盖构件725的局部剖视图。激光纹理化表面554可为玻璃盖构件525的外表面。例如，图7可为图5的玻璃盖构件525沿C-C剖切的示例。

图7示意性地示出了从激光纹理化表面754延伸的压应力层794和从玻璃盖构件725的内表面756延伸的压应力层796(未按比例示出)。拉伸应力层795被定位在压应力层794与796之间。玻璃盖构件725可为玻璃盖构件525、图2A的玻璃盖构件225或本文所述的任何其它玻璃盖构件的实施方案，为了简明起见，此处不再重复这些玻璃盖构件的细节。

在实施方案中，具有激光纹理化表面的化学强化的玻璃盖构件的强度大于或等于不包括激光纹理化表面的化学强化的参考玻璃盖构件的85％、90％或95％。例如，参考玻璃盖构件可具有小于激光纹理化表面的表面粗糙度(例如Sq)，这可能是由下拉法、融合过程或后续抛光过程所致。参考玻璃盖构件还可具有等于激光纹理化玻璃盖构件的最大厚度(或等于激光纹理化之前的厚度)的厚度。

在一些情况下，压应力层794和796的深度可从75微米至250微米、从100微米至250微米、或从125微米至250微米。在一些实施方案中，压应力层794和796可以不同，使得化学强化是非对称的。不对称性可能是可检测的，但可能不会不利地影响化学强化的玻璃盖构件的性能。例如，激光纹理化过程可产生玻璃盖构件的玻璃材料的网络结构的密度的变化。例如，激光纹理化过程可增大激光成形特征部附近的玻璃材料的密度。尽管密度的这种变化可能不大，但与玻璃盖构件的内表面相比，这可改变离子在激光纹理化表面上的扩散(如相对于图8更详细地说明)。激光纹理化表面上的玻璃材料密度的增加可使压应力层794产生相比于压应力层796略高的表面压应力和/或较浅的深度。

为了简化说明，激光纹理化表面554、654和754上的涂层(例如疏油性涂层)未示于图5、图6和图7中。然而，可将涂层施加到这些激光纹理化表面，如之前相对于图2B所述。通常，此类涂层在激光纹理化和化学强化之后施加。

图8示出了用于形成玻璃盖构件的激光纹理化表面的过程800的流程图。激光纹理化表面可限定玻璃盖构件的外表面。过程800(也称为方法800)可包括多个激光纹理化操作，如图8所示。例如，每个激光纹理化操作可使用脉冲激光束从玻璃盖构件的表面去除玻璃材料。

玻璃材料可为基于氧化物的材料，诸如基于二氧化硅的材料。玻璃盖构件的玻璃材料可具有网络结构，诸如基于硅酸盐的网络结构。例如，玻璃材料可包括铝硅酸盐玻璃或硼铝硅酸盐玻璃。如本文所用，铝硅酸盐玻璃包括元素铝、硅和氧，但还可包括其它元素。类似地，硼铝硅酸盐玻璃包括元素硼、铝、硅和氧，但还可包括其它元素。例如，铝硅酸盐玻璃或硼铝硅酸盐玻璃可还包含一价或二价离子，其补偿由于铝离子置换硅离子而引起的电荷。合适的一价离子包括但不限于碱金属离子，诸如Li⁺、Na⁺或者K⁺。合适的二价离子包括碱土离子，诸如Ca²⁺或者Mg²⁺。玻璃盖构件的玻璃材料可以是可离子交换的。

如图8所示，过程800可包括执行第一激光纹理化操作的操作810。第一激光纹理化操作可在玻璃盖构件的表面上形成第一表面纹理。第一激光纹理化操作可包括将激光脉冲的第一序列引导到玻璃盖构件的表面上。

激光脉冲的第一序列可由第一激光器产生。通常，第一激光器产生聚焦到玻璃盖构件表面上的激光束，诸如脉冲激光束。聚焦激光束可限定聚焦体积，该聚焦体积可继而限定玻璃盖构件表面上的暴露区域。聚焦体积可在玻璃盖构件中延伸一定深度，使得激光束与玻璃盖构件在表面下方的区域相互作用。

可沿玻璃盖构件上的一个或多个路径扫描激光束，同时从激光器发射脉冲序列。通常，一个或多个路径相对于玻璃盖构件的表面形成扫描图案，诸如光栅图案(例如，彼此间隔开的一系列线性路径)、蛇形图案、螺旋图案等。可控制第一激光以产生激光脉冲的第一图案。

将激光脉冲的第一序列引导到玻璃盖构件表面上的操作可在玻璃盖构件的表面上产生一组第一暴露区域。第一暴露区域的间距可以是不均匀的。例如，第一对相邻的第一暴露区域的间距可与第二对相邻的第一暴露区域不同。通常，第一暴露区域中的至少一些重叠。例如，第一对相邻的第一暴露区域可至少部分地重叠。重叠的量可由于相邻暴露区域之间的不均匀间距而变化。第一暴露区域的组可形成暴露区域的第一图案。在一些情况下，暴露区域在本文中可称为光斑区域。

例如，图9示意性地示出了玻璃构件上的激光暴露区域的序列的细部图。该序列包括四个暴露区域：901、902、903和904。如图9所示，相邻暴露区域的中心之间的间距S1、S2和S3不均匀。更一般地，相邻暴露区域中心之间的间距可以是随机的、不均匀的、均匀的或这些情况的组合。此外，图9中所示的暴露区域901和902之间的重叠量与暴露区域903和904之间的重叠量不同。另外，由全激光扫描形成的其它暴露区域之间的间距可继续为不均匀的，并且可以不简单地重复图9所示的距离图案。在一些情况下，相邻暴露区域之间的间距具有间距值的随机或伪随机分布。

如图9示意性所示，激光控制器可用于获得具有不均匀间距的暴露区域的序列。控制器可打开激光器以将脉冲递送至表面上的期望暴露区域，并且在不递送脉冲时将激光器关闭。此类控制器还允许在暴露区域之间实现期望的间距。激光器可处于计算机数字控制(CNC)下，并且软件文件(例如光栅文件)可确定暴露区域的位置。如上所述，间距可具有间距值的随机或伪随机分布，但可为可在多个玻璃构件上再现的预定间距图案。

在一些实施方案中，激光束的每个脉冲可将能量传递到玻璃盖构件，包括暴露区域和聚焦体积内的玻璃盖构件的区域。为了蚀刻玻璃盖构件的表面，将足量的能量沿暴露区域传递到玻璃盖构件以引起玻璃材料的烧蚀。给定的玻璃材料可具有可根据激光器的通量(J/cm²)来描述的烧蚀阈值。

玻璃材料的烧蚀可沿玻璃盖构件的表面形成烧蚀特征部。沿玻璃盖构件的相对平坦表面形成的烧蚀特征部可包括玻璃盖构件表面时的凹陷(或凹坑)。随着玻璃盖构件的表面变得更粗糙(例如，由于先前激光纹理化操作的结果)，烧蚀特征部的形状可能变得不太规则。

将激光脉冲的第一序列从第一激光器引导到玻璃盖构件的表面上可在该表面上形成一组第一烧蚀特征部。相邻的第一烧蚀特征部可不均匀地间隔开。例如，相邻(例如邻接)第一烧蚀特征部的中心之间的间距可以是不均匀的。此外，相邻的第一烧蚀特征部中的至少一些可重叠。第一烧蚀特征部的组可在玻璃盖构件的表面上形成第一烧蚀特征部的第一图案。

图10A示意性地示出了第一激光纹理化操作。如图10A所示，沿着以虚线示意性示出的第一扫描图案1032在玻璃盖构件1025上方扫描来自第一激光器1001的第一脉冲光束1012。应当理解，第一脉冲光束1012相对于玻璃盖构件1025的相对移动可通过移动第一脉冲光束1012、通过移动玻璃盖构件1025或两者来实现。

图10B示意性地示出了玻璃盖构件和第一扫描图案的放大视图。如图10B的顶视图所示，第一扫描图案1032在玻璃盖构件1025的表面上形成蛇形图案。在图10B中用沿第一扫描图案1032的填充的圆形指示第一烧蚀特征部1042。为了便于说明，相邻的第一烧蚀特征部1042被示出为间隔开的。然而，相邻的第一烧蚀特征部1042中的至少一些通常将重叠，如上所述。

此外，从激光脉冲的第一序列的每个脉冲传递到玻璃盖构件的能量也可改变围绕烧蚀特征部的玻璃材料。在一些实施方案中，由于第一激光纹理化操作，围绕烧蚀特征部的玻璃材料可升高至第一温度，其中第一温度大于第一激光纹理化操作之前玻璃盖构件的温度。

在一些情况下，围绕烧蚀区域的玻璃材料的结构可不同于第一激光纹理化操作之前的结构。因此，在第一激光纹理化操作之后，围绕烧蚀区域的玻璃材料的结构可不同于在远离烧蚀区域的玻璃盖构件的本体中的结构。可使用光谱技术(例如拉曼光谱)或微观技术来测量围绕烧蚀区域的玻璃材料的结构。例如，围绕烧蚀特征部的玻璃材料的结构可比第一激光纹理化操作之前的结构更无序。又如，围绕烧蚀特征部的玻璃材料的结构的变化可导致围绕烧蚀特征部的玻璃材料的折射率的变化。在一些情况下，例如由于玻璃结构中的阳离子扩散，围绕烧蚀区域的玻璃材料的组成可因第一激光纹理化操作而改变。

第一激光器可在第一组激光条件下操作。第一激光器可产生红外线范围内的波长(例如，具有约1μm至约5μm的波长)。第一激光器可产生持续时间为50飞秒至50皮秒或100飞秒至10皮秒的脉冲。在一些实施方案中，第一激光器可为飞秒激光器，其产生具有飞秒范围内的有效脉冲持续时间的脉冲，诸如从约100fs至约800fs，或从约200fs至约500fs。第一激光器的平均功率可从约1W至约20W。第一激光器的重复率可从约50kHz至约1000kHz，或从约100kHz至约750kHz。扫描速度可根据需要变化，并且在一些实施方案中可从约500mm/sec至约1500mm/sec。由暴露区域限定的光斑尺寸(例如直径或宽度)可从约10微米至约50微米。

如图8所示，过程800还可包括执行第二激光纹理化操作的操作820。第二激光纹理化操作可在玻璃盖构件的表面上形成不同于第一表面纹理的第二表面纹理。第二激光纹理化操作可包括将激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上。

激光脉冲的第二序列可由第一激光器或第二激光器产生。可相对于玻璃盖构件沿不同于第一路径的第二路径扫描激光束。第一路径可形成第一扫描图案，并且第二路径可形成第二扫描图案。在一些实施方案中，第二扫描图案具有与第一扫描图案相同的形状，但相对于第一扫描图案旋转。例如，第一扫描图案和第二扫描图案均可为光栅图案。第二扫描图案可相对于第一扫描图案以顺时针方向或逆时针方向从45度旋转至90度。例如，在将激光脉冲的第一序列引导到表面上之后并且在将激光脉冲的第二序列引导到表面上之前，可将玻璃盖构件旋转期望的角量。第二激光纹理化操作可使玻璃盖构件暴露于脉冲的第二图案。脉冲的第二图案可相对于第一图案以旋转角度旋转。例如，旋转角度可大于零且小于180度。

将激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上的操作可在玻璃盖构件的表面上产生一组第二暴露区域。第一暴露区域的组可不同于第二暴露区域的组。第二暴露区域的组可形成与暴露区域的第一图案不同的暴露区域的第二图案。

第二暴露区域中的至少一个可偏离第一暴露区域中的至少一个。此外，第二暴露区域中的至少一个可与第一暴露区域中的至少一个重叠。在一些情况下，少于全部的第二暴露区域与第一暴露区域重叠。如果第二暴露区域中的至少一个偏离并重叠第一暴露区域中的至少一个，则第二暴露区域中的至少一个的位置与第一暴露区域中的至少一个的位置重叠但不相同。

第二暴露区域的间距可以是不均匀的。例如，第一对相邻的第二暴露区域的间距可与第二对相邻的第二暴露区域不同。通常，第二暴露区域中的至少一些重叠。例如，第一对相邻的第二暴露区域可至少部分地重叠，但重叠量可由于相邻暴露区域之间的不均匀间距而变化。

第二激光器可在第二组激光条件下操作，其中第二组激光条件类似于针对第一组激光条件所描述的那些。在一些实施方案中，第一激光器和第二激光器均可为相同的皮秒激光器或相同的飞秒激光器。可控制第二激光器，使得激光脉冲的第二序列以类似于针对激光脉冲的第一序列所述的方式递送至表面，以在相邻暴露区域之间产生不均匀的间距。

将激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上可在表面上形成一组第二烧蚀特征部。相邻的第二烧蚀特征部可不均匀地间隔开，并且相邻的第二烧蚀特征部中的至少一些可重叠。第二烧蚀特征部的组可在玻璃盖构件的表面上形成第二烧蚀特征部的第二图案。此外，将激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上可导致玻璃盖构件的表面的一部分流动。

图10C示意性地示出了第二激光纹理化操作。如图10C所示，沿着以虚线示意性示出的第二扫描图案1034在玻璃盖构件1025上方扫描来自第二激光器1002的第二脉冲光束1014。第二扫描图案1034相对于第一扫描图案1032成约90度的角度。

图10D示出了一定程度经过第二激光纹理化操作的玻璃盖构件的放大视图。用沿第二扫描图案1034的填充的圆形指示第二烧蚀特征部1044。为了便于说明，相邻的第二烧蚀特征部1044被示出为间隔开的。然而，第二烧蚀特征部1044中的至少一些通常将重叠，如上所述。

由于形成第二烧蚀特征部组的表面比形成第一烧蚀特征部组的表面粗糙，因此第二烧蚀特征部在形式上可能没有第一烧蚀特征部规则。第二烧蚀特征部组部分地与第一烧蚀特征部组重叠，使得玻璃盖构件在第二激光纹理化操作之后的纹理归因于第一和第二激光纹理化操作的组合。

在一些实施方案中，将激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上导致玻璃盖构件的表面的一部分的流动。第二激光纹理化操作期间的流动可通过第一激光纹理化步骤之后比第一激光纹理化步骤之前更低的烧蚀阈值和/或更低的表面流动阻力来实现。烧蚀阈值和/或流动阻力的差值可至少部分地归因于第一激光纹理化步骤之后表面处的粗糙度和/或玻璃材料结构的差异。

玻璃盖构件的一个区域在第一激光纹理化步骤之后的温度可高于该区域在第一激光纹理化操作之前的温度，使得第一激光纹理化操作升高该区域的温度。在一些实施方案中，第一激光纹理化操作和第二激光纹理化操作之间的时间间隔足够短，使得来自第一激光纹理化操作的保留热量影响第二激光纹理化操作。例如，来自第一激光纹理化操作的保留热量可有利于在第二激光纹理化操作期间玻璃材料的烧蚀和/或流动。此外，第二激光纹理化操作还可升高玻璃盖构件的区域的温度。例如，如果玻璃材料在第二烧蚀特征部附近的温度超过阈值温度，则玻璃材料的粘度可足够低以允许玻璃材料的流动。在实施方案中，阈值温度可以是玻璃材料的退火点、玻璃化转变温度、软化温度或工作点。在一些情况下，玻璃材料在第一烧蚀特征部附近的温度可低于阈值温度。

如果在第一激光纹理化操作期间激光烧蚀在玻璃材料中引入任何裂纹，则在后续激光纹理化操作期间玻璃材料的流动可有助于修复裂纹。此外，玻璃材料的流动可有助于更光滑的表面特征部。例如，激光成形表面特征部可具有较小的峰平均峰值曲率(S_sc)、较小的均方根斜率(S_dq)或它们的组合。

在一些实施方案中，过程800还可包括一个或多个附加的激光纹理化操作。例如，过程800可包括第三激光纹理化操作。第三激光纹理化操作可在玻璃盖构件的表面上形成不同于第一表面纹理和第二表面纹理的第三表面纹理。第三激光纹理化操作可包括将激光脉冲的第三序列引导到玻璃盖构件的表面上。

可相对于玻璃盖构件沿不同于第一路径和第二路径的第三路径扫描激光束。在一些实施方案中，第三路径形成第三扫描图案，该第三扫描图案具有与第一扫描图案和第二扫描图案相同的形式，但相对于第一扫描图案和第二扫描图案旋转。例如，第一扫描图案、第二扫描图案和第三扫描图案中的每一者可为光栅图案。第三扫描图案可相对于第二扫描图案以顺时针方向或逆时针方向从45度旋转至90度。

第三激光纹理化操作可使玻璃盖构件暴露于脉冲的第三图案。脉冲的第三图案可为不均匀间隔的激光脉冲的图案。第三图案可相对于第二图案以第二旋转角度旋转。例如，第二旋转角度可大于零且小于180度。

激光脉冲的第三序列可由第一激光器、第二激光器或第三激光器产生。第三激光器可在第三组激光条件下操作，其中第三组激光条件类似于针对第一组激光条件和/或第二组激光条件所描述的那些。

将激光脉冲的第三序列引导到玻璃盖构件的表面上可在玻璃盖构件的表面上产生第三组暴露区域。第三组暴露区域可不同于第二组暴露区域和第一组暴露区域。第三组暴露区域可在相邻暴露区域之间具有不均匀的间距，如先前针对激光脉冲的第一序列和第二序列所述。第三暴露区域的组可形成暴露区域的第三图案，其可不同于暴露区域的第二图案和/或第一图案。

第三暴露区域中的至少一个可偏离第二暴露区域中的至少一个和/或第一暴露区域中的至少一个。此外，第三暴露区域中的至少一个可与第二暴露区域中的至少一个和/或第一暴露区域中的至少一个重叠。在一些情况下，第三暴露区域中的至少一个偏离并重叠第二暴露区域中的至少一个。

将激光脉冲的第三序列引导到玻璃盖构件的表面上可在表面上形成一组第三烧蚀特征部。相邻的第三烧蚀特征部可不均匀地间隔开，并且相邻的第三烧蚀特征部中的至少一些可重叠。然而，由于形成第三烧蚀特征部组的表面比形成第二烧蚀特征部组的表面粗糙，因此第三烧蚀特征部在形式上可能没有第二烧蚀特征部规则。第三烧蚀特征部组部分地与第二烧蚀特征部组重叠，使得玻璃盖构件在第三激光纹理化操作之后的纹理归因于第一、第二和第三激光纹理化操作的组合。

此外，将激光脉冲的第三序列引导到玻璃盖构件的表面上可导致玻璃盖的表面的部分的第二流动。由第三激光纹理化操作产生的第二流动可不同于由第二激光纹理化操作产生的第一流动。在一些情况下，第二流动的程度可大于第一流动的程度。例如，第一流动可发生在玻璃盖构件表面上的玻璃材料的第一部分中，第二流动可发生在玻璃盖构件表面上的玻璃材料的第二部分中，并且第二部分可大于第一部分。第二流动的速率可大于第一流动的速率。第二流动和第一流动之间的差异可归因于第三激光纹理化步骤期间比在第二激光纹理化步骤期间更低的烧蚀阈值和/或更低的表面流动阻力。烧蚀阈值和/或流动阻力的差值可至少部分地归因于表面处的粗糙度、玻璃材料结构和/或温度的差异。

在一些实施方案中，玻璃盖构件作为一个整体可按顺序在一个或多个激光纹理化操作之前和/或期间被加热。例如，当在激光纹理化操作期间将玻璃盖构件放置在支撑件上时，可加热支撑件以减小被烧蚀的表面与玻璃盖构件的其余部分之间的温度梯度。

在一些实施方案中，激光纹理化过程可改变玻璃盖构件在激光成形特征部附近的玻璃结构和/或组成。例如，激光纹理化过程可产生玻璃材料的网络结构的密度或分子结构的变化，诸如玻璃材料的密度的增大。尽管密度变化可能相对较小，但其可使激光成形表面特征部附近的玻璃盖构件产生可检测的折射率变化(如化学强化之前所测量的)。折射率变化可能是可检测的，但可能不会不利地影响玻璃盖构件的性能。

如图8所示，过程800可包括化学强化玻璃盖构件的操作830。化学强化玻璃盖构件的操作可在激光纹理化操作之后进行。玻璃盖构件可通过离子交换进行化学强化。在离子交换期间，存在于玻璃材料中的离子可被交换成较大离子以形成从玻璃盖构件的表面延伸的压应力层。

例如，离子交换式玻璃材料可包括一价或二价离子，诸如碱金属离子(例如，Li⁺、Na⁺或K⁺)或碱土金属离子(例如，Ca²⁺或Mg²⁺)，其可与其它碱金属离子或碱土金属离子交换。如果玻璃构件包含钠离子，则钠离子可与钾离子交换。类似地，如果玻璃构件包含锂离子，则锂离子可与钠离子和/或钾离子交换。在实施方案中，压应力层延伸至玻璃基底中一定深度(或厚度)，该深度(或厚度)大于表面纹理的最低深度。

在示例中，化学强化过程涉及将玻璃盖构件暴露于包含较大离子的介质，诸如通过将玻璃盖构件浸没在包含较大离子的浴中或通过用离子源喷涂或涂覆玻璃。例如，可使用包含相关离子的盐浴(例如硝酸钾浴)进行离子交换。用于离子交换的合适温度高于室温并且取决于过程要求进行选择。离子交换过程可在低于玻璃的应变点的温度下进行。离子交换过程可形成从玻璃盖构件的表面延伸的压应力层，如图7中所示。取决于上文已讨论的因素，可在玻璃盖构件中形成深度为约10微米至250微米的压缩层。表面压应力(CS)可以为约300MPa至约1100MPa。

在一些实施方案中，在玻璃盖构件的激光纹理化外表面和内表面的每一个处形成压应力层。拉伸应力层可形成于这些压应力层之间，如先前相对于图7所讨论。

当激光纹理化过程产生玻璃材料的网络结构的密度变化时，在激光纹理化表面上的离子扩散可相比于在玻璃盖构件的内表面上的离子扩散被改变。玻璃材料在激光纹理化表面上的密度增大可使得较大的离子较慢地扩散穿过激光纹理化表面(相比于玻璃盖构件的内表面)。因此，从激光纹理化表面延伸的压应力层可具有相比于从内表面延伸的压应力层略高的表面压应力和/或较浅的深度。相反，玻璃材料在激光纹理化表面上的密度减小可产生相比于从内表面延伸的压应力层较低的表面压应力和/或较高的深度。

在一些实施方案中，过程800还包括向激光纹理化表面施加涂层(诸如疏水性和/或疏油性涂层)的操作。涂层可提供对电子部件上的油和其它沉积物的抗性。例如，材料可包括氟化材料诸如氟化低聚物或聚合物以赋予疏油性和/或疏水性特性。例如，涂层上的油的接触角可大于或等于约65度或约70度。又如，涂层上的水的接触角可大于或等于90度。氟化材料可包含直链(非支链)氟化分子，诸如直链氟化低聚物或直链氟化聚合物。在实施方案中，氟化材料层从约5nm至约20nm或从约10nm至约50nm厚。氟化材料层可直接粘结到激光成形特征部或可粘结到中间粘合层。氟化材料层相对于激光成形纹理的至少一个维度可为薄的，并且可通过湿化学法或通过气相沉积法形成。

在另外的实施方案中，过程800还包括将涂层诸如装饰涂层施加到玻璃盖构件的内表面的操作。下面相对于图2A进一步详细地讨论了此类涂层。聚合物涂层可通过诸如喷涂或印刷的方法施加。印刷技术包括但不限于丝网印刷、喷墨印刷、移印等。

图11示出了可结合具有激光纹理化表面的玻璃盖构件的样本电子设备的框图。图11中示出的示意图可对应于如上述图1A至图10D中所述设备的部件。然而，图11也可更一般地表示具有如本文所述的激光纹理化玻璃盖构件的其它类型的电子设备。

在实施方案中，电子设备1100可包括传感器1120以提供关于电子设备的配置和/或取向的信息，以便控制显示器的输出。例如，当显示器1108的可视区域的全部或部分被阻挡或大体上遮掩时，显示器1108的一部分可被关闭、禁用或置于低能量状态。又如，显示器1108可能适于响应于设备1100的旋转使图形输出的显示基于设备1100的取向变化而旋转(例如90度或180度)。

电子设备1100还包括可操作地与计算机可读存储器1102连接的处理器1106。处理器1106可经由电子总线或电桥可操作地连接到存储器1102部件。处理器1106可被实现为一个或多个计算机处理器或微控制器，该一个或多个计算机处理器或微控制器被配置为响应于计算机可读指令来执行操作。处理器1106可包括设备1100的中央处理单元(CPU)。除此之外和/或另选地，处理器1106可包括位于设备1100内的其它电子电路，该电子电路包括专用集成芯片(ASIC)和其它微控制器设备。处理器1106可被配置为执行上述示例中描述的功能。

存储器1102可包括多种类型的非暂态计算机可读存储介质，包括例如读取存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦除可编程存储器(例如EPROM和EEPROM)或闪存存储器。存储器1102被配置为存储计算机可读指令、传感器值和其它持久性软件元件。

电子设备1100可包括控制电路1110。控制电路1110可在单个控制单元中实现，并且不必被实现为不同的电路元件。如本文所用，“控制单元”将与“控制电路”同义使用。控制电路1110可接收来自处理器1106或来自电子设备1100的其它元件的信号。

如图11所示，电子设备1100包括电池1114，该电池被配置为向电子设备1100的部件提供电力。电池1114可包括连接在一起以提供内部电力供应的一个或多个电力存储单元。可将电池1114可操作地联接到电力管理电路，该电力管理电路被配置为针对电子设备1100内的各个部件或部件的组提供适当的电压和功率电平。电池1114可经由电力管理电路而被配置为从外部电源诸如交流电源插座接收电力。电池1114可存储所接收到的电力，使得电子设备1100可在没有连接到外部电源的情况下运行延长的时间段，这段时间可在从若干个小时到若干天的范围内。

在一些实施方案中，电子设备1100包括一个或多个输入设备1118。输入设备1118是被配置为接收来自用户或环境的输入的设备。例如，输入设备1118可包括例如下压按钮、触摸激活按钮、电容式触摸传感器、触摸屏(例如，触敏显示器或力敏显示器)、电容式触摸按钮、拨号盘、冠部等等。在一些实施方案中，输入设备1118可提供专用或主要功能，包括例如电源按钮、音量按钮、主页按钮、滚轮和相机按钮。

设备1100还可包括一个或多个传感器1120，诸如力传感器、电容传感器、加速度计、气压计、陀螺仪、接近传感器、光传感器等。传感器1120可以可操作地联接到处理电路。在一些实施方案中，传感器1120可检测电子设备的变形和/或构型变化并且可操作地联接到基于传感器信号来控制显示器的处理电路。在一些具体实施中，来自传感器1120的输出用于将显示输出重新配置成对应于设备的取向或折叠/展开构型或状态。用于该目的的示例性传感器1120包括加速度计、陀螺仪、磁力仪和其它类似类型的定位/取向感测设备。此外，传感器1120可包括麦克风、声传感器、光传感器、光学面部识别传感器或其它类型的感测设备。

在一些实施方案中，电子设备1100包括一个或多个输出设备1104，该一个或多个输出设备被配置为向用户提供输出。输出设备1104可包括显示器1108，该显示器呈现由处理器1106生成的视觉信息。输出设备1104还可包括一个或多个扬声器以提供音频输出。输出设备1104还可包括被配置为沿设备1100的外表面产生触觉或触知输出的一个或多个触觉设备。

显示器1108可包括液晶显示器(LCD)、发光二极管、有机发光二极管(OLED)显示器、有源层有机发光二极管(AMOLED)显示器、有机电致发光(EL)显示器、电泳油墨显示器等等。如果显示器1108为液晶显示器或电泳油墨显示器，则显示器1108还可包括可受控以提供可变显示器亮度水平的背光部件。如果显示器1108为有机发光二极管或有机电致发光型显示器，则可通过修改被提供至显示元件的电信号来控制显示器1108的亮度。此外，关于电子设备的构型和/或取向的信息可用于控制显示器的输出，如相对于输入设备1118所述。在一些情况下，显示器与触摸传感器和/或力传感器集成在一起，以便检测沿设备1100的外表面施加的触摸和/或力。

电子设备1100还可包括通信端口1112，该通信端口被配置为发射和/或接收来自外部设备或单独设备的信号或电通信。通信端口1112可被配置为经由电缆、适配器或其它类型的电连接器联接到外部设备。在一些实施方案中，通信端口1112可用于将电子设备联接到主机计算机。

电子设备1100还可包括至少一个附件1116，诸如相机、用于相机的闪光灯或其它此类设备。相机可连接到电子设备1100的其它部件，诸如控制电路1110。

如本文所用，术语“约”、“大约”、“基本上”、“相似”等用于解释相对小的变化，诸如+/-10％、+/-5％、+/-2％或+/-1％的变化。此外，涉及范围端点的术语“约”的使用可表示端点值的+/-10％、+/-5％、+/-2％或+/-1％的变化。此外，至少一个端点被描述为“约”指定值的范围的公开内容包括该端点等于该指定值的范围的公开内容。

以下论述适用于本文所述的电子设备，其范围在于这些设备可用于获取个人可识别信息数据。众所周知，使用个人可识别信息应遵循公认为满足或超过维护用户隐私的行业或政府要求的隐私政策和做法。具体地讲，应管理和处理个人可识别信息数据，以使无意或未经授权的访问或使用的风险最小化，并应当向用户明确说明授权使用的性质。

为了说明的目的，前述描述使用具体命名以提供对所述实施方案的透彻理解。然而，对于本领域的技术人员而言将显而易见的是，不需要具体细节即可实践所述实施方案。因此，出于例示和描述的目的，呈现了对本文所述的具体实施方案的前述描述。它们并非旨在是穷举性的或将实施方案限制为所公开的精确形式。对于本领域的普通技术人员而言将显而易见的是，鉴于上面的教导内容，许多修改和变型是可行的。

Claims (20)

1.一种方法，包括：

在用于电子设备的玻璃盖构件上形成激光纹理化表面，包括：

将激光脉冲的第一序列引导到所述玻璃盖构件的表面上，以在所述玻璃盖构件的所述表面上产生一组第一暴露区域，从而在所述玻璃盖构件的所述表面上形成第一表面纹理；以及

将激光脉冲的第二序列引导到所述玻璃盖构件的所述表面上，以在所述玻璃盖构件的所述表面上产生一组第二暴露区域，所述第二暴露区域中的至少一个第二暴露区域偏离并重叠于所述第一暴露区域中的至少一个第一暴露区域，从而：

使所述玻璃盖构件的所述表面的一部分流动；以及

在所述玻璃盖构件的所述表面上形成与所述第一表面纹理不同的第二表面纹理。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

第一对相邻的第一暴露区域的间距与第二对相邻的第一暴露区域的间距不同；以及

第一对相邻的第二暴露区域的间距与第二对相邻的第二暴露区域的间距不同。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，

第一对相邻的第一暴露区域至少部分地重叠；以及

第一对相邻的第二暴露区域至少部分地重叠。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括在将所述激光脉冲的第一序列引导到所述玻璃盖构件的所述表面上之后并且在将所述激光脉冲的第二序列引导到所述玻璃盖构件的表面上之前，旋转所述玻璃盖构件。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述激光脉冲的第一序列中的所述激光脉冲和所述激光脉冲的第二序列中的所述激光脉冲各自具有大于约50飞秒和小于约50皮秒的持续时间。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，

将所述激光脉冲的第一序列引导到所述玻璃盖构件的所述表面上的所述操作升高所述玻璃盖构件的区域的温度；以及

将所述激光脉冲的第二序列引导到玻璃盖构件的表面上的所述操作进一步升高所述玻璃盖构件的所述区域的温度至高于允许所述玻璃盖构件的所述表面的所述部分流动的温度。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述流动是第一流动；并且

所述方法还包括将激光脉冲的第三序列引导到所述玻璃盖构件的所述表面上，以在所述玻璃盖构件的所述表面上产生一组第三暴露区域，所述第三暴露区域中的至少一个第三暴露区域偏离并重叠于所述第二暴露区域中的至少一个第二暴露区域，从而：

导致所述玻璃盖构件的所述表面的所述部分的与所述第一流动不同的第二流动；以及

在所述玻璃盖构件的所述表面上形成与所述第二表面纹理以及与所述第一表面纹理不同的第三表面纹理。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括在形成所述激光纹理化表面之后，通过离子交换来化学强化所述玻璃盖构件。

9.一种电子设备，包括，

壳体，所述壳体至少部分地限定所述电子设备的内部体积，所述壳体包括盖组件，所述盖组件包括：

玻璃盖构件，所述玻璃盖构件限定：

外表面和内表面；以及

激光成形特征部，所述激光成形特征部沿所述外表面并且由所述玻璃盖构件的烧蚀和流动产生，所述激光成形特征部限定具有约0.1微米^-1至约1.2微米^-1的平均峰值曲率(Ssc)的峰部；和

装饰涂层，所述装饰涂层沿所述内表面设置并且能够透过所述玻璃盖构件的所述激光成形特征部被观察到。

10.根据权利要求9所述的电子设备，其中，所述激光成形特征部的均方根表面斜率(Sdq)为约0.1至小于约1。

11.根据权利要求9所述的电子设备，其中，所述激光成形特征部的幅值对于所述峰部的间距的比率为约0.01至约0.2。

12.根据权利要求11所述的电子设备，其中，

所述激光成形特征部的所述幅值由均方根表面高度(Sq)表征；并且

所述峰部的所述间距由所述峰部的平均节距来表征。

13.根据权利要求9所述的电子设备，其中，所述盖组件的外表面具有在60度角下测量的约1至约10光泽度单位的光泽度。

14.根据权利要求9所述的电子设备，其中，所述盖组件还包括氟化涂层，所述氟化涂层设置在所述玻璃盖构件的所述外表面上并且所述氟化涂层具有小于或等于约50纳米的厚度。

15.一种电子设备，包括：

壳体；

显示器，所述显示器至少部分地定位在所述壳体内；

第一玻璃盖构件，所述第一玻璃盖构件联接到所述壳体并且限定定位在所述显示器上方的透明部分；以及

第二玻璃盖构件，所述第二玻璃盖构件联接到所述壳体并且包括激光纹理化表面，所述激光纹理化表面限定山和谷的不规则的组，所述山和谷的不规则的组具有：

约1微米至约15微米的峰部平均间距；以及

约0.1微米至约1.5微米的均方根表面高度(Sq)。

16.根据权利要求15所述的电子设备，其中，所述均方根表面高度小于或等于约1微米。

17.根据权利要求15所述的电子设备，其中，所述峰部平均间距为约1微米至约10微米。

18.根据权利要求15所述的电子设备，其中，

所述第二玻璃盖构件是化学强化的；以及

压应力层从所述激光纹理化表面延伸到所述第二玻璃盖构件中。

19.根据权利要求15所述的电子设备，其中，所述电子设备还包括沿所述第二玻璃盖构件的内表面设置的光学致密涂层。

20.根据权利要求19所述的电子设备，其中，

所述电子设备为移动电话，并且所述电子设备还包括：

第一盖组件，所述第一盖组件限定所述移动电话的正面并且包括所述第一玻璃盖构件；以及

第二盖组件，所述第二盖组件限定所述移动电话的背面并且包括所述第二玻璃盖构件。

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