CN111807569A - 一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，包括氧化池、絮凝池，所述氧化池内设置臭氧加入机构，所述氧化池的边沿设置溢流槽，所述溢流槽与絮凝池连通，所述絮凝池内设置絮凝剂添加机构，所述絮凝池上对应溢流槽设置缓冲机构，所述絮凝池的底部设置清理机构，所述絮凝池的边沿设置出水机构，所述出水机构上设置过滤机构，所述过滤机构上设置表面清理机构。本发明可以提高氧化池内的臭氧使用效率，同时保证絮凝池内的振动较小，利于絮凝物的沉淀，加快废水的沉淀速度。

Description

一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置

技术领域

本发明涉及废水处理技术领域，具体涉及一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置。

背景技术

现有工程污水处理系统包括两部分，一是常规处理系统，二是深度处理。深度处理的过程为二沉池出水进入氧化池，先加入强氧化剂，再添加絮凝药剂去除水中大部分SS、COD，而后通过沉淀池自然沉淀去除SS后在废水添加高级氧化试剂，依靠高级氧化试剂的强氧化能力将废水中残留的难以降解的有机物彻底降解为水和二氧化碳，从而达到去除COD和色度的目的。

在前氧化及混凝沉淀工段，生化出水经二沉池自然沉淀后，只能去除水中部分可自然沉降得悬浮物，但是水体中仍有众多不稳定的难沉降悬浮物，二沉池出水进入氧化池首先加入强氧化剂，依靠氧化剂的强氧化能力将废水中的有机物降解为水和二氧化碳，再加入絮凝剂，借助絮凝剂的吸附等物理化学作用，增大絮体、改善絮体电荷，从而去除水中大部分悬浮物与色度。

该过程中依靠沉淀来去除絮凝物，但是一直有进水引起水面以及上部的振动，导致沉淀效率低和时间长的问题，且臭氧加入与废水的反应效率较低。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，可以提高氧化池内的臭氧使用效率，同时保证絮凝池内的振动较小，利于絮凝物的沉淀。

为解决上述技术问题，本发明提供一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，包括氧化池、絮凝池，所述氧化池内设置臭氧加入机构，所述氧化池的边沿设置溢流槽，所述溢流槽与絮凝池连通，所述絮凝池内设置絮凝剂添加机构，所述絮凝池上对应溢流槽设置缓冲机构，所述絮凝池的底部设置清理机构，所述絮凝池的边沿设置出水机构，所述出水机构上设置过滤机构，所述过滤机构上设置表面清理机构。

进一步的，所述臭氧加入机构包括氧化池底部设置的供气管，所述供气管端部设置分支管，所述分支管上设置出气孔，所述出气孔上设置第一雾化喷头。

进一步的，所述絮凝剂添加机构包括絮凝池的两侧设置的轨道，所述轨道上设置行走机构，所述行走机构上设置工作台，所述工作台下端设置喷洒管，所述喷洒管上设置喷洒孔，所述喷洒孔上设置第二雾化喷头，所述工作台上设置存储罐，所述存储罐内设置液态絮凝剂，所述存储罐的底部通过供液管道与喷洒管连通，所述存储罐的顶部通过压力管道与气泵连通，所述气泵设置在工作台上。

进一步的，所述轨道包括设置在絮凝池两侧的滑槽，所述行走机构包括滑槽上设置的底座，所述底座的下方设置与滑槽配合的行走轮，所述底座上设置驱动行走轮的行走电机。

进一步的，所述缓冲机构包括絮凝池侧壁在溢流槽开口下方设置的上U型框和下U型框，所述上U型框与下U型框之间设置多个柔性带体。

进一步的，所述清理机构包括絮凝池底部设置的集泥斗。

进一步的，所述出水机构包括絮凝池侧面设置的溢出槽，所述溢出槽上设置所述过滤机构，所述过滤机构包括絮凝池侧面设置的立柱，所述立柱上设置伸缩横杆，所述伸缩横杆上向下设置伸缩机构，所述伸缩机构下端设置框架，所述框架内设置滤网，所述溢出槽内设置与框架配合的安装槽。

进一步的，所述表面清理机构包括伸缩横杆上向下设置的推杆，所述推杆位于伸缩机构的两侧，所述推杆的端部向内设置弹性杆，所述弹性杆端部铰接刮板，所述刮板与弹性杆通过扭转弹簧传动连接。

进一步的，所述伸缩机构和伸缩横杆采用电动伸缩杆。

本发明的上述技术方案的有益效果如下：

氧化池内通入臭氧对废水中的有机物降解为水和二氧化碳，在顶部的溢流槽将废水通入后续的絮凝池内，絮凝池内加入絮凝剂，絮凝剂吸附等物理化学作用，增大絮体、改善絮体电荷，从而去除水中大部分悬浮物与色度。絮凝池内的缓冲机构可以减少废水从溢流槽下落的冲击力，使得絮凝池内的废水尽可能的平静，利于絮凝物的沉淀。出水机构从絮凝池的另一侧将沉淀后的水排出，过滤机构进行最后一步的过滤，且过滤机构上自带表面清理机构，可以对过滤机构进行自动清理，无需人员进行手动清理，工序简单化，人工成本降低。

本发明可以提高氧化池内的臭氧使用效率，同时保证絮凝池内的振动较小，利于絮凝物的沉淀，加快废水的沉淀速度。

附图说明

图1为本发明废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置的结构示意图；

图2为本发明絮凝剂添加机构的结构示意图；

图3为本发明过滤机构和表面清理机构的结构示意图；

图4为本发明缓冲机构的俯视图。

1、氧化池；2、溢流槽；3、上U型框；4、柔性带体；5、下U型框；6、絮凝池；7、溢出槽；8、供气管；9、分支管；10、第一雾化喷头；11、集泥斗；12、行走电机；13、底座；14、行走轮；15、滑槽；16、工作台；17、喷洒管；18、供液管道；19、存储罐；20、压力管道；21、气泵；22、第二雾化喷头；23、安装槽；24、推杆；25、弹性杆；26、刮板；27、伸缩机构；28、伸缩横杆；29、立柱；30、框架；31、滤网。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图1-4，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

如图1-4所示：一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，包括氧化池1、絮凝池6，所述氧化池1内设置臭氧加入机构，所述氧化池1的边沿设置溢流槽2，所述溢流槽2与絮凝池6连通，所述絮凝池6内设置絮凝剂添加机构，所述絮凝池6上对应溢流槽2设置缓冲机构，所述絮凝池6的底部设置清理机构，所述絮凝池6的边沿设置出水机构，所述出水机构上设置过滤机构，所述过滤机构上设置表面清理机构。

具体而言，氧化池和絮凝池贴近设置，氧化池的水面高度大于絮凝池的水面高度，在氧化池内投入臭氧，将废水中的有机物降解为水和二氧化碳，在顶部的溢流槽将废水通入后续的絮凝池内，絮凝池内加入絮凝剂，絮凝剂吸附等物理化学作用，增大絮体、改善絮体电荷，从而去除水中大部分悬浮物与色度。缓冲机构对絮凝池进入的废水进行缓冲，避免絮凝池内水流动过大，利于沉降，搞结构与絮凝剂添加机构配合，其可以均匀喷洒絮凝剂，因此无需水流动将絮凝剂分散开，可以大大加快沉淀的速度，底部的沉淀物通过清理机构排出。出水机构将沉淀后的废水向后续排出，过滤机构可以进行最后次的过滤，使得沉淀的效果更好。

根据本发明的一个实施例，如图1所示，

所述臭氧加入机构包括氧化池1底部设置的供气管8，所述供气管8端部设置分支管9，所述分支管9上设置出气孔，所述出气孔上设置第一雾化喷头10。分支管为多个，排列设置在氧化池的底部，供气管分散供气，使得氧化池内的臭氧可以更加分散的充入，氧化的效果会更好。

根据本发明的一个实施例，如图1和图2所示，

所述絮凝剂添加机构包括絮凝池6的两侧设置的轨道，所述轨道上设置行走机构，所述行走机构上设置工作台16，所述工作台16下端设置喷洒管17，所述喷洒管17上设置喷洒孔，所述喷洒孔上设置第二雾化喷头22，所述工作台16上设置存储罐19，所述存储罐19内设置液态絮凝剂，所述存储罐19的底部通过供液管道18与喷洒管17连通，所述存储罐19的顶部通过压力管道20与气泵21连通，所述气泵21设置在工作台16上。工作台可以在行走机构上沿着轨道平移，喷洒管与移动方向垂直，这样位于喷洒管上的多个第二雾化喷头可以将液态絮凝剂均匀分撒在水面上，在絮凝剂下落的过程中通过扩散，使得废水内均匀充满絮凝剂。存储罐内有液态絮凝剂，存储罐的上端通过压力管道连接气泵，气泵冲入气体可以使得存储罐内的压力增大，在供液管道上设置电磁阀，在需要喷洒絮凝剂时，先冲入气体，使得存储罐内的压力足够后，打开电磁阀，并继续充气气体，使得存储罐内的压力一直保持，这样絮凝剂就可以从第二雾化喷头均匀喷出。

所述轨道包括设置在絮凝池6两侧的滑槽15，所述行走机构包括滑槽15上设置的底座13，所述底座13的下方设置与滑槽15配合的行走轮14，所述底座13上设置驱动行走轮14的行走电机12。滑槽与行走轮相配合，这样底座下方的行走轮可以一直带着絮凝剂添加机构沿直线运动。底座上的行走电机用于带动行走轮转动，每个底座上前后最少设置两个行走轮，保持平衡。工作台的两端搭在底座上，通过底座对工作台进行支撑。

在本发明的一个实施例中，如图1和图4所示，

所述缓冲机构包括絮凝池6侧壁在溢流槽2开口下方设置的上U型框3和下U型框5，所述上U型框3与下U型框5之间设置多个柔性带体4。废水在进入絮凝池时，会落入到上U型框内，这样冲击力是在上U型框内释放的，通过柔性带体的形变以及回弹，可以吸收大部分的动能，使得絮凝池内的废水不会因此流动过大。

所述上U型框3位于水面以上，所述上U型框3的大小大于所述下U型框5的大小，所述柔性带体4上宽下窄。该结构是对缓冲机构的进一步限定，有助于对向下冲击力的吸收。柔性带体的上宽下窄是与两个U型框的大小进行配合的。

在本发明的一个实施例中，如图1所示，

所述清理机构包括絮凝池6底部设置的集泥斗11。集泥斗可以将沉淀收集，通过泵送吸出。

在本发明的一个实施例中，如图1和图3所示，

所述出水机构包括絮凝池6侧面设置的溢出槽7，所述溢出槽7上设置所述过滤机构，所述过滤机构包括絮凝池6侧面设置的立柱29，所述立柱29上设置伸缩横杆28，所述伸缩横杆28上向下设置伸缩机构27，所述伸缩机构27下端设置框架30，所述框架30内设置滤网31，所述溢出槽7内设置与框架30配合的安装槽23。立柱上的伸缩横杆能够带动框架前后移动，而伸缩机构带动框架上下移动，在过滤时将框架插入安装槽内，既可以对排出的废水进行过滤。

所述表面清理机构包括伸缩横杆28上向下设置的推杆24，所述推杆24位于伸缩机构27的两侧，所述推杆24的端部向内设置弹性杆25，所述弹性杆25端部铰接刮板26，所述刮板26与弹性杆25通过扭转弹簧传动连接。表面清理机构可以在框架向上升起后，对滤网的表面进行清理。在使用时，首先保证絮凝池的水面低于或等于溢出槽的高度，即没有废水溢出（或安装拦截阀），伸缩机构先向上带动框架，使得框架离开安装槽，伸缩横杆带动框架向前运动，使得框架位于絮凝池的上方，伸缩机构接着带动框架上移，使得框架经过刮板的位置并通过，该过程中刮板依靠铰接和弹性杆可以绕过厚度较大的框架，在遇到滤网时刮板可以贴合在滤网表面对絮凝物向下刮除，实现清理效果。扭转弹簧使得刮板可以上旋或下旋，但是在弹力作用下可以回位，这样对于滤网的伤害较小，同时避免经过框架等较厚位置。

所述伸缩机构27和伸缩横杆28采用电动伸缩杆。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，包括氧化池（1）、絮凝池（6），其特征在于：所述氧化池（1）内设置臭氧加入机构，所述氧化池（1）的边沿设置溢流槽（2），所述溢流槽（2）与絮凝池（6）连通，所述絮凝池（6）内设置絮凝剂添加机构，所述絮凝池（6）上对应溢流槽（2）设置缓冲机构，所述絮凝池（6）的底部设置清理机构，所述絮凝池（6）的边沿设置出水机构，所述出水机构上设置过滤机构，所述过滤机构上设置表面清理机构。

2.如权利要求1所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述臭氧加入机构包括氧化池（1）底部设置的供气管（8），所述供气管（8）端部设置分支管（9），所述分支管（9）上设置出气孔，所述出气孔上设置第一雾化喷头（10）。

3.如权利要求2所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述絮凝剂添加机构包括絮凝池（6）的两侧设置的轨道，所述轨道上设置行走机构，所述行走机构上设置工作台（16），所述工作台（16）下端设置喷洒管（17），所述喷洒管（17）上设置喷洒孔，所述喷洒孔上设置第二雾化喷头（22），所述工作台（16）上设置存储罐（19），所述存储罐（19）内设置液态絮凝剂，所述存储罐（19）的底部通过供液管道（18）与喷洒管（17）连通，所述存储罐（19）的顶部通过压力管道（20）与气泵（21）连通，所述气泵（21）设置在工作台（16）上。

4.如权利要求3所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述轨道包括设置在絮凝池（6）两侧的滑槽（15），所述行走机构包括滑槽（15）上设置的底座（13），所述底座（13）的下方设置与滑槽（15）配合的行走轮（14），所述底座（13）上设置驱动行走轮（14）的行走电机（12）。

5.如权利要求4所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述缓冲机构包括絮凝池（6）侧壁在溢流槽（2）开口下方设置的上U型框（3）和下U型框（5），所述上U型框（3）与下U型框（5）之间设置多个柔性带体（4）。

6.如权利要求5所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述上U型框（3）位于水面以上，所述上U型框（3）的大小大于所述下U型框（5）的大小，所述柔性带体（4）上宽下窄。

7.如权利要求6所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述清理机构包括絮凝池（6）底部设置的集泥斗（11）。

8.如权利要求7所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述出水机构包括絮凝池（6）侧面设置的溢出槽（7），所述溢出槽（7）上设置所述过滤机构，所述过滤机构包括絮凝池（6）侧面设置的立柱（29），所述立柱（29）上设置伸缩横杆（28），所述伸缩横杆（28）上向下设置伸缩机构（27），所述伸缩机构（27）下端设置框架（30），所述框架（30）内设置滤网（31），所述溢出槽（7）内设置与框架（30）配合的安装槽（23）。

9.如权利要求8所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述表面清理机构包括伸缩横杆（28）上向下设置的推杆（24），所述推杆（24）位于伸缩机构（27）的两侧，所述推杆（24）的端部向内设置弹性杆（25），所述弹性杆（25）端部铰接刮板（26），所述刮板（26）与弹性杆（25）通过扭转弹簧传动连接。

10.如权利要求9所述的废水处理过程中前氧化及混凝沉淀装置，其特征在于：所述伸缩机构（27）和伸缩横杆（28）采用电动伸缩杆。

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