CN111585166A - 一种半导体激光器芯片与lnoi光芯片的异构集成结构 - Google Patents

一种半导体激光器芯片与lnoi光芯片的异构集成结构 Download PDF

Info

Publication number
CN111585166A
CN111585166A CN202010283709.2A CN202010283709A CN111585166A CN 111585166 A CN111585166 A CN 111585166A CN 202010283709 A CN202010283709 A CN 202010283709A CN 111585166 A CN111585166 A CN 111585166A
Authority
CN
China
Prior art keywords
lnoi
laser chip
conical structure
chip
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202010283709.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111585166B (zh
Inventor
钱广
孔月婵
陈堂胜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanjing Zhongdian Xingu High Frequency Device Industry Technology Research Institute Co ltd
CETC 55 Research Institute
Original Assignee
Nanjing Zhongdian Xingu High Frequency Device Industry Technology Research Institute Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanjing Zhongdian Xingu High Frequency Device Industry Technology Research Institute Co ltd filed Critical Nanjing Zhongdian Xingu High Frequency Device Industry Technology Research Institute Co ltd
Publication of CN111585166A publication Critical patent/CN111585166A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111585166B publication Critical patent/CN111585166B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0085Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for modulating the output, i.e. the laser beam is modulated outside the laser cavity

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

本发明公开了一种半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,包括镶嵌槽、激光器芯片、SiN锥形结构、LNOI锥形结构、过渡凹槽和LNOI集成光路;镶嵌槽位于SiN锥形结构和LNOI锥形结构中间,激光器芯片通过贴片材料键合在镶嵌槽中,激光器发光端面嵌入双层锥形结构并与其对准,同时实现激光器芯片光模场向LNOI光路中的尺寸转变和低损耗耦合,且在对准端面加入折射率匹配胶、增透膜以进一步降低耦合损耗,满足半导体激光器芯片与LNOI光芯片的低插损集成需求。本发明将双层的SiN锥形结构和LNOI锥形结构两侧挖空,降低锥形结构侧面辐射和散射,有效降低LNOI锥形结构与LNOI集成光路的光耦合损耗。

Description

一种半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构
技术领域
本发明属于集成微波光子领域,具体涉及一种半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构。
背景技术
薄膜铌酸锂(LNOI,Lithium Niobate on Insulator)材料是一种新兴集成光电子芯片材料。与传统LiNbO3体材料相比,具有更强的光约束能力、更高的集成度及更高的电光调控效率,在集成微波光子领域具有广泛的应用前景。
半导体激光器做为光源,与LNOI光子芯片的芯片集成是该技术领域发展的必然趋势和需求。然而,针对这样需求,目前还没有相关技术报道。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高效的半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,实现半导体激光器芯片与LNOI光子芯片的异构集成。
实现本发明目的的技术解决方案为:一种半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,包括镶嵌槽、激光器芯片、SiN锥形结构、LNOI锥形结构、过渡凹槽和LNOI集成光路;
镶嵌槽位于双层的SiN锥形结构和LNOI锥形结构中,激光器芯片键合在镶嵌槽中,并与双层锥形结构对准,且在对准端面设置折射率匹配胶、增透膜;双层的SiN锥形结构和LNOI锥形结构外侧为挖空结构;
LNOI集成光路嵌于SiO2包层中,所述SiO2包层包括SiO2上包层和SiO2下包层,SiO2下包层位于衬底上方,LNOI集成光路位于SiO2下包层上方,LNOI集成光路和LNOI锥形结构位于同一平面,LNOI锥形结构顶端与LNOI集成光路连接,SiN锥形结构位于LNOI锥形结构上面,SiN锥形结构、LNOI锥形结构和LNOI集成光路上面统一覆盖一层SiO2上包层,过渡凹槽底面与衬底上表面共面。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:(1)本发明提供了一种半导体激光器芯片与LNOI光子芯片异构集成的结构,将半导体激光器芯片镶嵌在双层的SiN锥形结构、LNOI锥形结构中,激光器芯片发光端面嵌入双层的SiN锥形结构和LNOI锥形结构的锥形区并对准,实现激光器芯片发光模场尺寸的横向压缩和纵向约束,降低激光器芯片与LNOI光子芯片的耦合损耗,在对准端面加入折射率匹配胶、增透膜进一步降低耦合损耗;(2)本发明将双层的SiN锥形结构和LNOI锥形结构两侧挖空,实现双层的SiN锥形结构、LNOI锥形结构和空气包层的大折射率差,提高光约束作用,降低锥形结构侧面辐射和散射,且强的光约束作用可使LNOI锥形结构顶端输出光模场尺寸小于LNOI集成光路中的光模场尺寸,有效降低LNOI锥形结构与LNOI集成光路的光耦合损耗。
附图说明
图1为本发明一种半导体激光器芯片与LNOI光子芯片异构集成结构的俯视图。
图2为本发明一种半导体激光器芯片与LNOI光子芯片异构集成结构的剖面图。
图3为LNOI脊型波导结构示意图。
图4为LNOI矩形波导结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,一种半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,包括镶嵌槽1、激光器芯片2、SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6、过渡凹槽7和LNOI集成光路8;
如图2所示,镶嵌槽1位于双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6中,激光器芯片2通过贴片材料10键合在镶嵌槽1中,并与双层锥形结构对准,同时实现激光器芯片2中光模场向LNOI集成光路8中的尺寸转变和低损耗耦合,且在对准端面加入折射率匹配胶3、增透膜4以进一步降低耦合损耗,满足半导体激光器芯片与LNOI光芯片的低插损集成需求。其中折射率匹配胶3靠近激光器芯片2,增透膜4位于折射率匹配胶3和SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6之间。
双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6外侧为挖空结构,保证双层的SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6与空气包层的大折射率差,提高光约束作用,降低锥形结构侧面辐射和散射,且强的光约束作用可使LNOI锥形结构6顶端输出光模场尺寸小于LNOI集成光路8中的光模场尺寸,可有效降低LNOI锥形结构6与LNOI集成光路8的光耦合损耗;
LNOI集成光路8镶嵌于SiO2包层9中,SiO2包层9包括,SiO2上包层9-1和,SiO2下包层9-2,SiO2下包层9-2位于衬底11上方,LNOI集成光路8位于SiO2下包层9-2上方,LNOI集成光路8和LNOI锥形结构6位于同一平面,LNOI锥形结构6顶端与LNOI集成光路8连接,SiN锥形结构5位于LNOI锥形结构6上面,SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6和LNOI集成光路8上面统一覆盖一层SiO2上包层9-1,过渡凹槽7底面与衬底11上表面共面,镶嵌槽1底面在于衬底11中间,激光器芯片2的发光层2-1和双层的SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6对准,激光器芯片2的衬底2-2通过贴片材料10键合在镶嵌槽1底面,衬底11键合在TEC制冷器上面。
进一步的,所述LNOI锥形结构6为矩形光波导结构。
进一步的,所述LNOI集成光路8为脊型光波导结构或矩形光波导结构;当为脊型光波导结构时,SiO2包层9中间嵌埋有一定厚度的LNOI平板层;当为矩形光波导结构时,SiO2包层9中间没有LNOI平板层。
进一步的,所述激光器芯片2键合在镶嵌槽1中后,其与增透膜4靠近的发光端面位于双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6的锥形区域,有助于提高耦合效率。
下面结合附图和实施例对本发明进行详细描述。
实施例
一种半导体激光器芯片与LNOI光子芯片异构集成结构,如图1所示,包括镶嵌槽1、激光器芯片2、折射率匹配胶3、增透膜4、SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6、过渡凹槽7、LNOI集成光路8和SiO2包层9。
图2为本发明异构集成结构的剖面示意图,LNOI集成光路8镶嵌于SiO2包层9中,SiO2下包层9-2位于衬底11上方,LNOI集成光路8位于SiO2下包层9-2上方,LNOI集成光路8和LNOI锥形结构6位于同一平面,LNOI锥形结构6顶端与LNOI集成光路8连接,SiN锥形结构5位于LNOI锥形结构6上面,SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6和LNOI集成光路8上面统一覆盖一层SiO2上包层9-1,过渡凹槽7底面与衬底11上表面共面,镶嵌槽1底面在于衬底11中,激光器芯片2的发光层2-1和双层的SiN锥形结构5、LNOI锥形结构6对准,激光器芯片2的衬底2-2通过贴片材料10键合在镶嵌槽1底面,衬底11键合在TEC制冷器12上面。
镶嵌槽1位于双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6中,激光器芯片2通过贴片材料10键合在镶嵌槽中,并与双层锥形结构对准,同时实现激光器芯片1中光模场向LNOI光路8中的尺寸转变和低损耗耦合,且在对准端面加入折射率匹配胶3、增透膜4以进一步降低耦合损耗,满足半导体激光器芯片与LNOI光芯片的低插损集成需求。
双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6外侧为挖空结构,提高双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6与空气包层的大折射率差,提高光约束作用,降低锥形结构侧面辐射和散射,且强的光约束作用可使LNOI锥形结构6顶端输出光模场尺寸小于LNOI集成光路8中的光模场尺寸,可有效降低LNOI锥形结构6与LNOI集成光路8的光耦合损耗。
LNOI锥形结构6为矩形光波导结构。LNOI集成光路8为脊型光波导结构或矩形光波导结构。图3为LNOI脊型波导结构示意图,其中8-1为脊型LNOI光波导芯层,图4为LNOI矩形波导结构示意图,8-2为矩形LNOI光波导芯层。
当为脊型光波导结构时,SiO2包层9中间嵌埋有一定厚度的LNOI平板层;当为矩形光波导结构时,SiO2包层8中间没有LNOI平板层。所述激光器芯片2键合在镶嵌槽1中后,其与增透膜4靠近的发光端面位于双层的SiN锥形结构5和LNOI锥形结构6的锥形区域,有助于提高耦合效率。

Claims (6)

1.一种半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,其特征在于:包括镶嵌槽(1)、激光器芯片(2)、SiN锥形结构(5)、LNOI锥形结构(6)、过渡凹槽(7)和LNOI集成光路(8);
镶嵌槽(1)位于双层的SiN锥形结构(5)和LNOI锥形结构(6)中,激光器芯片(2)键合在镶嵌槽(1)中,并与双层锥形结构对准,且在对准端面设置折射率匹配胶(3)、增透膜(4);双层的SiN锥形结构(5)和LNOI锥形结构(6)外侧为挖空结构;
LNOI集成光路(8)嵌于SiO2包层(9)中,所述SiO2包层(9)包括SiO2上包层(9-1)和SiO2下包层(9-2),SiO2下包层(9-2)位于衬底(11)上方,LNOI集成光路(8)位于SiO2下包层(9-2)上方,LNOI集成光路(8)和LNOI锥形结构(6)位于同一平面,LNOI锥形结构(6)顶端与LNOI集成光路(8)连接,SiN锥形结构(5)位于LNOI锥形结构(6)上面,SiN锥形结构(5)、LNOI锥形结构(6)和LNOI集成光路(8)上面统一覆盖一层SiO2上包层(9-1),过渡凹槽(7)底面与衬底(11)上表面共面。
2.根据权利要求1所述的半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,其特征在于:镶嵌槽(1)底面位于衬底(11)中间,激光器芯片(2)的发光层(2-1)和双层的SiN锥形结构(5)、LNOI锥形结构(6)对准,激光器芯片(2)的衬底(2-2)通过贴片材料(10)键合在镶嵌槽(1)底面,衬底(11)键合在TEC制冷器(12)上面。
3.根据权利要求1或2所述的半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,其特征在于:所述LNOI锥形结构(6)为矩形光波导结构。
4.根据权利要求1或2所述的半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,其特征在于:所述LNOI集成光路(8)为脊型光波导结构,SiO2包层(9)中间嵌埋有LNOI平板层。
5.根据权利要求1或2所述的半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,其特征在于:所述LNOI集成光路(8)为矩形光波导结构。
6.根据权利要求1所述的半导体激光器芯片与LNOI光芯片的异构集成结构,其特征在于:所述激光器芯片(2)与增透膜(4)靠近的发光端面位于双层的SiN锥形结构(5)和LNOI锥形结构(6)的锥形区域。
CN202010283709.2A 2020-02-13 2020-04-13 一种半导体激光器芯片与lnoi光芯片的异构集成结构 Active CN111585166B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2020100912718 2020-02-13
CN202010091271 2020-02-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111585166A true CN111585166A (zh) 2020-08-25
CN111585166B CN111585166B (zh) 2021-04-06

Family

ID=72113041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010283709.2A Active CN111585166B (zh) 2020-02-13 2020-04-13 一种半导体激光器芯片与lnoi光芯片的异构集成结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111585166B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113809634A (zh) * 2021-08-31 2021-12-17 中山大学 一种基于铌酸锂光子波导的混合集成外腔可调谐激光器
CN113820801A (zh) * 2021-09-24 2021-12-21 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 一种基于铌酸锂薄膜的脊形波导端面耦合器
CN114039273A (zh) * 2021-10-31 2022-02-11 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司 一种InP基激光器与薄膜铌酸锂光波导异质集成结构

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110716262A (zh) * 2019-11-19 2020-01-21 杭州芯耘光电科技有限公司 一种硅光光模斑模式转换器及其制造方法
CN110729630A (zh) * 2019-10-11 2020-01-24 浙江大学 一种采用铌酸锂材料制成的波长高速调谐的激光器

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110729630A (zh) * 2019-10-11 2020-01-24 浙江大学 一种采用铌酸锂材料制成的波长高速调谐的激光器
CN110716262A (zh) * 2019-11-19 2020-01-21 杭州芯耘光电科技有限公司 一种硅光光模斑模式转换器及其制造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HUI HU ET.AL: ""Lithium niobate-on-insulator (LNOI):status and perspectives"", 《SPIE》 *
韩春林 等: ""LNOI光电子集成芯片技术"", 《光电子技术》 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113809634A (zh) * 2021-08-31 2021-12-17 中山大学 一种基于铌酸锂光子波导的混合集成外腔可调谐激光器
CN113820801A (zh) * 2021-09-24 2021-12-21 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 一种基于铌酸锂薄膜的脊形波导端面耦合器
CN114039273A (zh) * 2021-10-31 2022-02-11 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司 一种InP基激光器与薄膜铌酸锂光波导异质集成结构
CN114039273B (zh) * 2021-10-31 2024-03-22 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司 一种InP基激光器与薄膜铌酸锂光波导异质集成结构

Also Published As

Publication number Publication date
CN111585166B (zh) 2021-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111585166B (zh) 一种半导体激光器芯片与lnoi光芯片的异构集成结构
KR102037759B1 (ko) 광 결합기 및 그를 구비한 광학 장치
CN108390256B (zh) 光模块及制造方法
CN105954892B (zh) 一种基于SOI的Si-PLZT异质结结构的混合型电光环形调制器
CN114039273B (zh) 一种InP基激光器与薄膜铌酸锂光波导异质集成结构
CN112666665A (zh) 基于倒装键合的激光器与硅光波导耦合结构
CN111129941B (zh) 一种硅基集成激光器芯片倒装耦合结构
CN109031518A (zh) 一种悬臂型端面耦合器
CN114460682A (zh) 端面耦合器
CN113552669A (zh) 一种端面耦合器及其制备方法
CN106680932A (zh) Cmos后工艺集成高效率双向光栅耦合器
CN113848609A (zh) 光子集成耦合结构、光子集成器件
CN117406352A (zh) 硅光集成光模块及其制作方法
CN114068736B (zh) 光电探测器
CN215678846U (zh) 一种端面耦合器
CN114994833A (zh) 波导及包含其的激光器
CN114994832A (zh) 波导及包含其的光量子集成芯片
CN220040800U (zh) 边耦合器
CN217981913U (zh) 一种混合集成器件
CN115047564A (zh) 具有渐缩表面的波导
CN112698452A (zh) 一种光波导芯片探针及基于该探针的反射式垂直光耦合结构
CN114038923B (zh) 一种薄膜铌酸锂光波导与InP基光电探测器异质集成结构
CN116148990A (zh) 一种新型光学集成结构及其制备工艺
CN110277731B (zh) 一种iii-v族硅基低折射率缝隙结构dbr激光器及集成方法
CN211126441U (zh) 一种激光器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20240101

Address after: Room 1006, Building 4, Nanjing Baixia High tech Industrial Park, No. 6 Yongzhi Road, Qinhuai District, Nanjing City, Jiangsu Province, 210016

Patentee after: NANJING ZHONGDIAN XINGU HIGH FREQUENCY DEVICE INDUSTRY TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE Co.,Ltd.

Patentee after: CHINA ELECTRONICS TECHNOLOGY GROUP CORPORATION NO.55 Research Institute

Address before: Room 1006, building 4, Nanjing Baixia high tech Industrial Park, No.6 Yongzhi Road, Qinhuai District, Nanjing City, Jiangsu Province, 210000

Patentee before: NANJING ZHONGDIAN XINGU HIGH FREQUENCY DEVICE INDUSTRY TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE Co.,Ltd.