CN111542129A - 基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统 - Google Patents

基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统 Download PDF

Info

Publication number
CN111542129A
CN111542129A CN202010309890.XA CN202010309890A CN111542129A CN 111542129 A CN111542129 A CN 111542129A CN 202010309890 A CN202010309890 A CN 202010309890A CN 111542129 A CN111542129 A CN 111542129A
Authority
CN
China
Prior art keywords
base station
mobile terminal
magnetron sputtering
handover
sputtering equipment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
CN202010309890.XA
Other languages
English (en)
Inventor
王文爽
沈文齐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bengbu Taixin Material Technology Co ltd
Original Assignee
Bengbu Taixin Material Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bengbu Taixin Material Technology Co ltd filed Critical Bengbu Taixin Material Technology Co ltd
Priority to CN202010309890.XA priority Critical patent/CN111542129A/zh
Publication of CN111542129A publication Critical patent/CN111542129A/zh
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W76/00—Connection management
    • H04W76/10—Connection setup
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W36/00—Hand-off or reselection arrangements
    • H04W36/0005—Control or signalling for completing the hand-off
    • H04W36/0055—Transmission or use of information for re-establishing the radio link
    • H04W36/0058—Transmission of hand-off measurement information, e.g. measurement reports
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W36/00—Hand-off or reselection arrangements
    • H04W36/0005—Control or signalling for completing the hand-off
    • H04W36/0083—Determination of parameters used for hand-off, e.g. generation or modification of neighbour cell lists
    • H04W36/0085—Hand-off measurements
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W36/00—Hand-off or reselection arrangements
    • H04W36/24—Reselection being triggered by specific parameters
    • H04W36/30—Reselection being triggered by specific parameters by measured or perceived connection quality data
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W74/00—Wireless channel access
    • H04W74/08—Non-scheduled access, e.g. ALOHA
    • H04W74/0833—Random access procedures, e.g. with 4-step access
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04W—WIRELESS COMMUNICATION NETWORKS
    • H04W76/00—Connection management
    • H04W76/10—Connection setup
    • H04W76/19—Connection re-establishment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mobile Radio Communication Systems (AREA)

Abstract

本发明公开了一种基于物联网的磁控溅射设备控制方法，包括如下步骤：由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数并与第一基站建立通信连接；由移动终端接收由第一基站发送的测量配置；响应于接收到由第一基站发送的测量配置，由移动终端监听由第二基站发送的参考信号；响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量；如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端向第一基站发送测量报告；响应于接收到测量报告，由第一基站确定切换模式；如果确定使用第一切换模式，则由第一基站向第二基站发送第一切换请求消息。

Description

基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统
技术领域
本发明是关于磁控溅射技术领域，特别是关于一种基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统。
背景技术
磁控溅射(magnetron-sputtering)是70年代迅速发展起来的一种“高速低温溅射技术”。磁控溅射是在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。
现有技术CN110643964A公开了一种磁控溅射工艺中直流电源的控制方法、控制装置及系统，其中控制方法包括：预先接收工控机下发的参数指令，参数指令包括：电源设定功率、定时启动功率、电源加载时间；在磁控溅射工艺的过程中，实时判断电源设定功率和定时启动功率是否满足预设条件；当电源设定功率和定时启动功率满足预设条件时，开始计时，同时控制直流电源输出电源设定功率；当计时时间达到电源加载时间后，关闭直流电源。
公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统，其能够现有技术的缺点。
为实现上述目的，本发明提供了一种基于物联网的磁控溅射设备控制方法，包括如下步骤：由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数，其中，移动终端与磁控溅射设备的控制器通信连接；由移动终端与第一基站建立通信连接；响应于与第一基站建立通信连接，由移动终端接收由第一基站发送的测量配置，其中，测量配置中包括对于链路质量门限的指示；响应于接收到由第一基站发送的测量配置，由移动终端监听由第二基站发送的参考信号；响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量；如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端向第一基站发送测量报告；响应于接收到测量报告，由第一基站确定切换模式；如果确定使用第一切换模式，则由第一基站向第二基站发送第一切换请求消息；响应于接收到第一切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入；如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向第一基站发送切换确认消息，其中，切换确认消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；响应于接收到切换确认消息，由第一基站向移动终端发送第一切换命令，其中，第一切换命令中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码、第二基站的系统信息、对于执行切换条件的指示、对于退出切换过程的条件的指示以及第一切换命令的有效时间。
在一优选的实施方式中，其中，对于执行切换条件的指示中包括对于切换链路质量门限的指示以及对于持续时间的指示；并且基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：响应于接收到第一切换命令，由移动终端保持与第一基站的通信，并由移动终端继续监听由第二基站发送的参考信号；响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量；由移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量是否大于切换链路质量门限；如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限，则由移动终端继续判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间是否达到持续时间；如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间达到持续时间，则由移动终端向第一基站发送切换启动消息；响应于接收到切换启动消息，由第一基站停止向移动终端发送消息；响应于向第一基站发送切换启动消息，由移动终端对第二基站进行随机接入；响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送RRC连接重新配置完成消息。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站；由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令；如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量满足退出切换过程的条件，则由移动终端退出切换过程；响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站；由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令；在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：如果在第一切换命令的有效时间内，移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量始终小于切换链路质量门限，则由移动终端退出切换过程；响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站；由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令；在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：如果确定使用第二切换模式，则由第一基站向第二基站发送第二切换请求消息；响应于接收到第二切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入；如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向移动终端发送RRC连接重新配置消息，其中，RRC连接重新配置消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；响应于接收到RRC连接重新配置消息，由移动终端对第二基站进行随机接入；响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站；由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令。
本发明还提供了一种基于物联网的磁控溅射设备控制系统，包括：用于由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数的单元，其中，移动终端与磁控溅射设备的控制器通信连接；用于由移动终端与第一基站建立通信连接的单元；用于响应于与第一基站建立通信连接，由移动终端接收由第一基站发送的测量配置的单元，其中，测量配置中包括对于链路质量门限的指示；用于响应于接收到由第一基站发送的测量配置，由移动终端监听由第二基站发送的参考信号的单元；用于响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量的单元；用于如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端向第一基站发送测量报告的单元；用于响应于接收到测量报告，由第一基站确定切换模式的单元；用于如果确定使用第一切换模式，则由第一基站向第二基站发送第一切换请求消息的单元用于响应于接收到第一切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入的单元；用于如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向第一基站发送切换确认消息的单元，其中，切换确认消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；用于响应于接收到切换确认消息，由第一基站向移动终端发送第一切换命令的单元，其中，第一切换命令中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码、第二基站的系统信息、对于执行切换条件的指示、对于退出切换过程的条件的指示以及第一切换命令的有效时间。
在一优选的实施方式中，其中，对于执行切换条件的指示中包括对于切换链路质量门限的指示以及对于持续时间的指示；并且基于物联网的磁控溅射设备控制系统还包括：用于响应于接收到第一切换命令，由移动终端保持与第一基站的通信，并由移动终端继续监听由第二基站发送的参考信号的单元；用于响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量的单元；用于由移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量是否大于切换链路质量门限的单元；用于如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限，则由移动终端继续判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间是否达到持续时间的单元；用于如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间达到持续时间，则由移动终端向第一基站发送切换启动消息的单元用于响应于接收到切换启动消息，由第一基站停止向移动终端发送消息的单元用于响应于向第一基站发送切换启动消息，由移动终端对第二基站进行随机接入的单元；用于响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送RRC连接重新配置完成消息的单元。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括用于响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站的单元；用于由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元；用于如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量满足退出切换过程的条件，则由移动终端退出切换过程的单元；用于响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站的单元；用于由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元；用于在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告的单元。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：用于如果在第一切换命令的有效时间内，移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量始终小于切换链路质量门限，则由移动终端退出切换过程的单元；用于响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站的单元；用于由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元；用于在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告的单元。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：用于如果确定使用第二切换模式，则由第一基站向第二基站发送第二切换请求消息的单元；用于响应于接收到第二切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入的单元；用于如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向移动终端发送RRC连接重新配置消息的单元，其中，RRC连接重新配置消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息用于响应于接收到RRC连接重新配置消息，由移动终端对第二基站进行随机接入的单元；用于响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站的单元；用于由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元。
与现有技术相比，本发明具有如下优点，由于磁控溅射设备运行特点，一般生产厂家在进行磁控溅射生产时一般要求磁控溅射设备24小时运行，而工程师则按照三班倒的方式实时待命并实时监测磁控溅射设备。由于磁控溅射设备运行过程中需要维持真空度，所以设备运行噪音很大，长时间在现场进行巡检可能造成工程师的不适。此外，为了巡检的方便，工程师一般都在距离现场比较近的地方休息，由于现场空间有限，所以工程师休息室一般条件简陋，难以使得工程师得到有效休息。由于上述原因，很多生产企业很难留住高端人才，而机器监测工作虽然看似简单，但是很多技术知识只有受过高等教育的大学生甚至研究生才能看明白，而往往这些人才对于工作环境要求又普遍很高，这就造成了企业需求与人员需求的矛盾。本申请提供了一种基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统，本申请的方法允许工程师进行远程监测，这样工程师不需要进行现场巡逻，也能够在距离现场稍远的地方休息待命，这样工程师工作环境得到改善，工作效率得到提高。
附图说明
图1是根据本发明一实施方式的基于物联网的磁控溅射设备控制系统结构示意图。
图2是根据本发明一实施方式的基于物联网的磁控溅射设备控制方法流程图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本发明的保护范围并不受具体实施方式的限制。
除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
图1是根据本发明一实施方式的基于物联网的磁控溅射设备控制系统结构示意图。如图所示，本申请的移动终端可以例如是类似于手机的装置，或者是专门用于进行设备监测的手机(所谓的专门用于进行设备监测的手机指的是安装有相应专门APP的手机，硬件功能方面参照现有手机按需配置即可，例如交互功能可能是需要的，照相功能可能是不需要的等等)。如图所示，移动终端可以通过NFC方式、蓝牙方式或者无线局域网方式从一个或者多个磁控溅射设备接收设备运行参数(例如，温度、溅射时间、功率、气压、气体成分等等数据)，在接收到磁控溅射设备之后，由移动终端通过无线传输方式将参数传输到基站，再由基站将数据经过基于IP的网络传输到工厂的中心控制计算机或者中心控制服务器。
图2是根据本发明一实施方式的基于物联网的磁控溅射设备控制方法流程图。如图所示，本发明的基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：
步骤101：由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数，其中，移动终端与磁控溅射设备的控制器通信连接；
步骤102：由移动终端与第一基站建立通信连接；
步骤103：响应于与第一基站建立通信连接，由移动终端接收由第一基站发送的测量配置，其中，测量配置中包括对于链路质量门限的指示；
步骤104：响应于接收到由第一基站发送的测量配置，由移动终端监听由第二基站发送的参考信号；
步骤105：响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量；
步骤106：如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端向第一基站发送测量报告；
步骤107：响应于接收到测量报告，由第一基站确定切换模式；
步骤108：如果确定使用第一切换模式，则由第一基站向第二基站发送第一切换请求消息；
步骤109：响应于接收到第一切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入；
步骤110：如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向第一基站发送切换确认消息，其中，切换确认消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；
步骤111：响应于接收到切换确认消息，由第一基站向移动终端发送第一切换命令，其中，第一切换命令中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码、第二基站的系统信息、对于执行切换条件的指示、对于退出切换过程的条件的指示以及第一切换命令的有效时间。
在一优选的实施方式中，其中，对于执行切换条件的指示中包括对于切换链路质量门限的指示以及对于持续时间的指示，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：响应于接收到第一切换命令，由移动终端保持与第一基站的通信，并由移动终端继续监听由第二基站发送的参考信号；响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量；由移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量是否大于切换链路质量门限；如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限，则由移动终端继续判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间是否达到持续时间；如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间达到持续时间，则由移动终端向第一基站发送切换启动消息；响应于接收到切换启动消息，由第一基站停止向移动终端发送消息响应于向第一基站发送切换启动消息，由移动终端对第二基站进行随机接入；响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送RRC连接重新配置完成消息。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站；由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令；如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量满足退出切换过程的条件，则由移动终端退出切换过程；响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站；由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令；在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：如果在第一切换命令的有效时间内，移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量始终小于切换链路质量门限，则由移动终端退出切换过程；响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站；由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令；在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：如果确定使用第二切换模式，则由第一基站向第二基站发送第二切换请求消息；响应于接收到第二切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入；如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向移动终端发送RRC连接重新配置消息，其中，RRC连接重新配置消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；响应于接收到RRC连接重新配置消息，由移动终端对第二基站进行随机接入；响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数；响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数；由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站；由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令。
本发明还提供了一种基于物联网的磁控溅射设备控制系统，包括：用于由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数的单元，其中，移动终端与磁控溅射设备的控制器通信连接；用于由移动终端与第一基站建立通信连接的单元；用于响应于与第一基站建立通信连接，由移动终端接收由第一基站发送的测量配置的单元，其中，测量配置中包括对于链路质量门限的指示；用于响应于接收到由第一基站发送的测量配置，由移动终端监听由第二基站发送的参考信号的单元；用于响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量的单元；用于如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端向第一基站发送测量报告的单元用于响应于接收到测量报告，由第一基站确定切换模式的单元；用于如果确定使用第一切换模式，则由第一基站向第二基站发送第一切换请求消息的单元；用于响应于接收到第一切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入的单元；用于如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向第一基站发送切换确认消息的单元，其中，切换确认消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；用于响应于接收到切换确认消息，由第一基站向移动终端发送第一切换命令的单元，其中，第一切换命令中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码、第二基站的系统信息、对于执行切换条件的指示、对于退出切换过程的条件的指示以及第一切换命令的有效时间。
在一优选的实施方式中，其中，对于执行切换条件的指示中包括对于切换链路质量门限的指示以及对于持续时间的指示基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：用于响应于接收到第一切换命令，由移动终端保持与第一基站的通信，并由移动终端继续监听由第二基站发送的参考信号的单元；用于响应于监听到由第二基站发送的参考信号，由移动终端基于由第二基站发送的参考信号确定移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量的单元；用于由移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量是否大于切换链路质量门限的单元；用于如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限，则由移动终端继续判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间是否达到持续时间的单元；用于如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于切换链路质量门限的时间达到持续时间，则由移动终端向第一基站发送切换启动消息的单元；用于响应于接收到切换启动消息，由第一基站停止向移动终端发送消息的单元；用于响应于向第一基站发送切换启动消息，由移动终端对第二基站进行随机接入的单元；用于响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送RRC连接重新配置完成消息的单元。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：用于响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站的单元；用于由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元；用于如果判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量满足退出切换过程的条件，则由移动终端退出切换过程的单元；用于响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站的单元用于由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元；用于在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告的单元。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：用于如果在第一切换命令的有效时间内，移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量始终小于切换链路质量门限，则由移动终端退出切换过程的单元；用于响应于退出切换过程，由移动终端向第一基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第一基站的单元用于由第一基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元；用于在退出切换过程之后，如果移动终端判断移动终端与第二基站之间的通信链路的链路质量大于链路质量门限，则由移动终端再次向第一基站发送测量报告的单元。
在一优选的实施方式中，基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：用于如果确定使用第二切换模式，则由第一基站向第二基站发送第二切换请求消息的单元；用于响应于接收到第二切换请求消息，由第二基站判断第二基站能否允许移动终端进行随机接入的单元；用于如果判断第二基站能够允许移动终端进行随机接入，则由第二基站向移动终端发送RRC连接重新配置消息的单元，其中，RRC连接重新配置消息中至少包括第二基站为移动终端分配的C-RNTI、专门用于移动终端的随机接入前导码以及第二基站的系统信息；用于响应于接收到RRC连接重新配置消息，由移动终端对第二基站进行随机接入的单元；用于响应于完成对于第二基站的随机接入过程，由移动终端向第二基站发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于响应于接收到磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送磁控溅射设备的运行参数的单元；用于由磁控溅射设备控制服务器基于磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将对于磁控溅射设备的控制命令发送给第二基站的单元；用于由第二基站向移动终端发送对于磁控溅射设备的控制命令的单元。
本领域内的技术人员应明白，本申请的实施例可提供为方法、系统、或计算机程序产品。因此，本申请可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本申请可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。
本申请是参照根据本申请实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。
这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
前述对本发明的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本发明限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本发明的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本发明的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本发明的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。

Claims (10)

1.一种基于物联网的磁控溅射设备控制方法，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：
由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数，其中，所述移动终端与所述磁控溅射设备的控制器通信连接；
由所述移动终端与第一基站建立通信连接；
响应于与所述第一基站建立通信连接，由所述移动终端接收由所述第一基站发送的测量配置，其中，所述测量配置中包括对于链路质量门限的指示；
响应于接收到由所述第一基站发送的测量配置，由所述移动终端监听由第二基站发送的参考信号；
响应于监听到所述由第二基站发送的参考信号，由所述移动终端基于所述由第二基站发送的参考信号确定所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量；
如果移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述链路质量门限，则由所述移动终端向所述第一基站发送测量报告；
响应于接收到所述测量报告，由所述第一基站确定切换模式；
如果确定使用第一切换模式，则由所述第一基站向所述第二基站发送第一切换请求消息；
响应于接收到所述第一切换请求消息，由所述第二基站判断所述第二基站能否允许所述移动终端进行随机接入；
如果判断所述第二基站能够允许所述移动终端进行随机接入，则由所述第二基站向所述第一基站发送切换确认消息，其中，所述切换确认消息中至少包括所述第二基站为所述移动终端分配的C-RNTI、专门用于所述移动终端的随机接入前导码以及所述第二基站的系统信息；
响应于接收到所述切换确认消息，由所述第一基站向所述移动终端发送第一切换命令，其中，所述第一切换命令中至少包括所述第二基站为所述移动终端分配的C-RNTI、专门用于所述移动终端的随机接入前导码、所述第二基站的系统信息、对于执行切换条件的指示、对于退出切换过程的条件的指示以及所述第一切换命令的有效时间。
2.如权利要求1所述的基于物联网的磁控溅射设备控制方法，其特征在于，其中，所述对于执行切换条件的指示中包括对于切换链路质量门限的指示以及对于持续时间的指示；
并且所述基于物联网的磁控溅射设备控制方法还包括如下步骤：
响应于接收到所述第一切换命令，由所述移动终端保持与所述第一基站的通信，并由所述移动终端继续监听由第二基站发送的参考信号；
响应于监听到所述由第二基站发送的参考信号，由所述移动终端基于所述由第二基站发送的参考信号确定所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量；
由所述移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量是否大于所述切换链路质量门限；
如果判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述切换链路质量门限，则由所述移动终端继续判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述切换链路质量门限的时间是否达到所述持续时间；
如果判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述切换链路质量门限的时间达到所述持续时间，则由所述移动终端向所述第一基站发送切换启动消息；
响应于接收到所述切换启动消息，由所述第一基站停止向所述移动终端发送消息；
响应于向所述第一基站发送切换启动消息，由所述移动终端对所述第二基站进行随机接入；
响应于完成对于所述第二基站的随机接入过程，由所述移动终端向所述第二基站发送RRC连接重新配置完成消息。
3.如权利要求2所述的基于物联网的磁控溅射设备控制方法，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：
响应于完成对于所述第二基站的随机接入过程，由所述移动终端向所述第二基站发送所述磁控溅射设备的运行参数；
响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由所述第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数；
由磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第二基站；
由所述第二基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令；
如果判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量满足所述退出切换过程的条件，则由所述移动终端退出切换过程；
响应于退出切换过程，由所述移动终端向所述第一基站发送所述磁控溅射设备的运行参数；
响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由所述第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数；
由所述磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第一基站；
由所述第一基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令；
在退出切换过程之后，如果所述移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述链路质量门限，则由所述移动终端再次向所述第一基站发送测量报告。
4.如权利要求3所述的基于物联网的磁控溅射设备控制方法，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：
如果在所述第一切换命令的有效时间内，所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量始终小于所述切换链路质量门限，则由移动终端退出切换过程；
响应于退出切换过程，由所述移动终端向所述第一基站发送所述磁控溅射设备的运行参数；
响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由所述第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数；
由所述磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第一基站；
由所述第一基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令；
在退出切换过程之后，如果所述移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述链路质量门限，则由所述移动终端再次向所述第一基站发送测量报告。
5.如权利要求4所述的基于物联网的磁控溅射设备控制方法，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制方法包括如下步骤：
如果确定使用第二切换模式，则由所述第一基站向所述第二基站发送第二切换请求消息；
响应于接收到所述第二切换请求消息，由所述第二基站判断所述第二基站能否允许所述移动终端进行随机接入；
如果判断所述第二基站能够允许所述移动终端进行随机接入，则由所述第二基站向所述移动终端发送RRC连接重新配置消息，其中，所述RRC连接重新配置消息中至少包括所述第二基站为所述移动终端分配的C-RNTI、专门用于所述移动终端的随机接入前导码以及所述第二基站的系统信息；
响应于接收到所述RRC连接重新配置消息，由所述移动终端对所述第二基站进行随机接入；
响应于完成对于所述第二基站的随机接入过程，由所述移动终端向所述第二基站发送所述磁控溅射设备的运行参数；
响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由所述第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数；
由所述磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第二基站；
由所述第二基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令。
6.一种基于物联网的磁控溅射设备控制系统，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：
用于由移动终端收集磁控溅射设备的运行参数的单元，其中，所述移动终端与所述磁控溅射设备的控制器通信连接；
用于由移动终端与第一基站建立通信连接的单元；
用于响应于与所述第一基站建立通信连接，由所述移动终端接收由第一基站发送的测量配置的单元，其中，所述测量配置中包括对于链路质量门限的指示；
用于响应于接收到由第一基站发送的测量配置，由所述移动终端监听由第二基站发送的参考信号的单元；
用于响应于监听到所述由第二基站发送的参考信号，由所述移动终端基于所述由第二基站发送的参考信号确定所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量的单元；
用于如果所述移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述链路质量门限，则由所述移动终端向所述第一基站发送测量报告的单元；
用于响应于接收到所述测量报告，由第一基站确定切换模式的单元；
用于如果确定使用第一切换模式，则由第一基站向所述第二基站发送第一切换请求消息的单元；
用于响应于接收到所述第一切换请求消息，由第二基站判断所述第二基站能否允许所述移动终端进行随机接入的单元；
用于如果判断所述第二基站能够允许所述移动终端进行随机接入，则由第二基站向所述第一基站发送切换确认消息的单元，其中，所述切换确认消息中至少包括所述第二基站为所述移动终端分配的C-RNTI、专门用于所述移动终端的随机接入前导码以及所述第二基站的系统信息；
用于响应于接收到所述切换确认消息，由第一基站向所述移动终端发送第一切换命令的单元，其中，所述第一切换命令中至少包括所述第二基站为所述移动终端分配的C-RNTI、专门用于所述移动终端的随机接入前导码、所述第二基站的系统信息、对于执行切换条件的指示、对于退出切换过程的条件的指示以及所述第一切换命令的有效时间。
7.如权利要求6所述的基于物联网的磁控溅射设备控制系统，其特征在于，其中，所述对于执行切换条件的指示中包括对于切换链路质量门限的指示以及对于持续时间的指示；
并且所述基于物联网的磁控溅射设备控制系统还包括：
用于响应于接收到所述第一切换命令，由所述移动终端保持与所述第一基站的通信，并由所述移动终端继续监听由第二基站发送的参考信号的单元；
用于响应于监听到所述由第二基站发送的参考信号，由所述移动终端基于所述由第二基站发送的参考信号确定所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量的单元；
用于由所述移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量是否大于所述切换链路质量门限的单元；
用于如果判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述切换链路质量门限，则由所述移动终端继续判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述切换链路质量门限的时间是否达到所述持续时间的单元；
用于如果判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述切换链路质量门限的时间达到所述持续时间，则由所述移动终端向所述第一基站发送切换启动消息的单元；
用于响应于接收到所述切换启动消息，由第一基站停止向所述移动终端发送消息的单元；
用于响应于向所述第一基站发送切换启动消息，由所述移动终端对所述第二基站进行随机接入的单元；
用于响应于完成对于所述第二基站的随机接入过程，由所述移动终端向所述第二基站发送RRC连接重新配置完成消息的单元。
8.如权利要求7所述的基于物联网的磁控溅射设备控制系统，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：
用于响应于完成对于所述第二基站的随机接入过程，由所述移动终端向所述第二基站发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于由磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第二基站的单元；
用于由第二基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令的单元；
用于如果判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量满足所述退出切换过程的条件，则由所述移动终端退出切换过程的单元；
用于响应于退出切换过程，由所述移动终端向所述第一基站发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于由磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第一基站的单元；
用于由第一基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令的单元；
用于在退出切换过程之后，如果所述移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述链路质量门限，则由所述移动终端再次向所述第一基站发送测量报告的单元。
9.如权利要求8所述的基于物联网的磁控溅射设备控制系统，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：
用于如果在所述第一切换命令的有效时间内，所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量始终小于所述切换链路质量门限，则由所述移动终端退出切换过程的单元；
用于响应于退出切换过程，由所述移动终端向所述第一基站发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由第一基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于由磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第一基站的单元；
用于由第一基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令的单元；
用于在退出切换过程之后，如果移动终端判断所述移动终端与所述第二基站之间的通信链路的链路质量大于所述链路质量门限，则由所述移动终端再次向所述第一基站发送测量报告的单元。
10.如权利要求9所述的基于物联网的磁控溅射设备控制系统，其特征在于，所述基于物联网的磁控溅射设备控制系统包括：
用于如果确定使用第二切换模式，则由所述第一基站向所述第二基站发送第二切换请求消息的单元；
用于响应于接收到所述第二切换请求消息，由所述第二基站判断所述第二基站能否允许所述移动终端进行随机接入的单元；
用于如果判断所述第二基站能够允许所述移动终端进行随机接入，则由所述第二基站向所述移动终端发送RRC连接重新配置消息的单元，其中，所述RRC连接重新配置消息中至少包括所述第二基站为所述移动终端分配的C-RNTI、专门用于所述移动终端的随机接入前导码以及所述第二基站的系统信息；
用于响应于接收到所述RRC连接重新配置消息，由所述移动终端对所述第二基站进行随机接入的单元；
用于响应于完成对于所述第二基站的随机接入过程，由所述移动终端向所述第二基站发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于响应于接收到所述磁控溅射设备的运行参数，由所述第二基站向磁控溅射设备控制服务器发送所述磁控溅射设备的运行参数的单元；
用于由磁控溅射设备控制服务器基于所述磁控溅射设备的运行参数生成对于磁控溅射设备的控制命令，并将所述对于磁控溅射设备的控制命令发送给所述第二基站的单元；
用于由所述第二基站向所述移动终端发送所述对于磁控溅射设备的控制命令的单元。
CN202010309890.XA 2020-04-20 2020-04-20 基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统 Withdrawn CN111542129A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010309890.XA CN111542129A (zh) 2020-04-20 2020-04-20 基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010309890.XA CN111542129A (zh) 2020-04-20 2020-04-20 基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111542129A true CN111542129A (zh) 2020-08-14

Family

ID=71975191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010309890.XA Withdrawn CN111542129A (zh) 2020-04-20 2020-04-20 基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111542129A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111970385A (zh) * 2020-10-21 2020-11-20 四川九门科技股份有限公司 一种多功能远程物联网监控方法
CN112055324A (zh) * 2020-08-26 2020-12-08 陈一丰 一种用于物联网的番茄种植大棚温度控制方法及系统
CN112383595A (zh) * 2020-11-02 2021-02-19 河南工学院 基于物联网技术的智能生产线设备运行数据的传输方法及系统
CN112511638A (zh) * 2020-12-04 2021-03-16 河南工学院 基于物联网的处理有机固废的远程控制方法及系统

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112055324A (zh) * 2020-08-26 2020-12-08 陈一丰 一种用于物联网的番茄种植大棚温度控制方法及系统
CN112055324B (zh) * 2020-08-26 2023-08-18 陈一丰 一种用于物联网的番茄种植大棚温度控制方法及系统
CN111970385A (zh) * 2020-10-21 2020-11-20 四川九门科技股份有限公司 一种多功能远程物联网监控方法
CN112383595A (zh) * 2020-11-02 2021-02-19 河南工学院 基于物联网技术的智能生产线设备运行数据的传输方法及系统
CN112383595B (zh) * 2020-11-02 2022-08-26 河南工学院 基于物联网技术的智能生产线设备运行数据的传输方法及系统
CN112511638A (zh) * 2020-12-04 2021-03-16 河南工学院 基于物联网的处理有机固废的远程控制方法及系统
CN112511638B (zh) * 2020-12-04 2022-11-08 河南工学院 基于物联网的处理有机固废的远程控制方法及系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111542129A (zh) 基于物联网的磁控溅射设备控制方法及系统
KR101763255B1 (ko) 드라이브 테스트 최소화 측정 구성 매개변수 송신 방법, 시스템 및 장치
CN102833824B (zh) 无线局域网的接入方法和装置、网络设备
US10499298B2 (en) Mobile terminal control method and mobile terminal
CN103369609B (zh) 一种通信模式切换方法和装置
EP2670188A1 (en) Cqi reporting method, cqi acquisition method, system, terminal and base station
US11159994B2 (en) Uplink signal based handover control, handover cancellation and handover expiration
RU2009133353A (ru) Способ передачи обслуживания между базовыми станциями, система радиосвязи, способ управления drx, базовая станция и терминал связи
EP2966928A1 (en) Method and user equipment for reestablishing rrc connection
CN104469827A (zh) 一种无线链路失败的处理方法及装置
CA3114420A1 (en) Measurement reporting for network maintenance methods and systems
CN102215511A (zh) 一种上报mdt测量结果的方法、系统和设备
CN103237301A (zh) 一种信令关联的方法及装置
JP2022507362A (ja) パラメータ設定のための方法および装置
CN103974401A (zh) 一种ap的功率调整方法、ac及ap
WO2017215435A1 (zh) 无线资源控制rrc的连接方法、装置及终端
CN111787583B (zh) 一种基于区块链的装备健康管理大数据传输方法及系统
CN102711063B (zh) 一种无线资源控制连接建立消息的发送方法及装置
CN111542132A (zh) 基于物联网的磁控溅射现场灰尘浓度的监测方法及系统
WO2017161539A1 (zh) 一种监听和发送寻呼消息的方法、设备以及系统
CN113395341A (zh) 一种基于物联网的多功能医疗消毒设备的控制方法及系统
EP3949508A1 (en) Feedback information for conditional mobility
CN112261627A (zh) 基于物联网的锅炉温度无线监测数据的高速传输方法及系统
CN103607733A (zh) 一种检测无线接入过程失败原因的方法、装置及系统
CN102523600A (zh) 网络侧自动触发用户设备进行小区切换的测试方法及装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WW01 Invention patent application withdrawn after publication
WW01 Invention patent application withdrawn after publication

Application publication date: 20200814