CN111494809A - 辐射测量面板、辐射测量装置及辐射测量系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种辐射测量面板，所述辐射测量面板包括一基板、一第一导电层、一牺牲层以及一第二导电层。所述第一导电层设置在所述基板上。所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化。所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。所述辐射测量面板能够测量辐射剂量，从而为患者提供一个最佳的放射治疗方案。本发明还提供了一种具有所述辐射测量面板的辐射测量装置以及辐射测量系统。
Description
技术领域
本发明涉及医疗领域，尤其涉及一种辐射测量面板、辐射测量装置及辐射测量系统。
背景技术
由于放射治疗能够针对身体的某一个部位进行，使其能够用于治疗多种癌症。例如，放射治疗经常用于治疗胃癌、结肠直肠癌、胰腺癌、头颈癌、食道癌、肺癌和乳腺癌。
在进行放射疗法之前，医生可以根据期望的效果和目标区域的性质来决定患者目标区域吸收的辐射剂量。能够通过目标区域准确地估计吸收的辐射剂量可以帮助跟踪治疗的结果。因此，有必要提供一种能够测量辐射剂量的辐射测量手段。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种能够测量辐射剂量的辐射测量面板。
另，还有必要提供一种具有上述辐射测量面板的辐射测量装置以及辐射测量系统。
本发明提供一种辐射测量面板，包括：
一基板；
一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上；
一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。
本发明还提供一种辐射测量装置，包括所述辐射测量面板以及一测量装置，所述测量装置与所述辐射测量面板连接，所述测量装置用于当所述辐射测量面板受到辐射时，通过测量介电常数的变化预测所述辐射测量面板接收的辐射剂量。
本发明还提供一种辐射测量面板，包括：
一第一子面板，所述第一子面板在接收第一辐射时收集信息，所述信息用于生成图像；
一第二子面板，包括：
一基板，所述基板设置在所述第一子面板上；
一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上；
一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。
本发明还提供一种辐射测量装置，包括：
所述辐射测量面板；
一测量装置，所述测量装置与所述第二子面板连接，所述测量装置用于测量介电常数的变化，以评估当所述辐射测量面板暴露于第二辐射时所述辐射测量面板所接收的辐射剂量；以及
一处理单元，所述处理单元与所述第一子面板连接，所述处理单元根据所述第一子面板收集的信息生成图像。
本发明还提供一种辐射测量系统，所述辐射测量系统设置在第二辐射源发射的第二辐射的路径中，所述辐射测量系统包括：
一第一辐射测量装置，所述第一辐射测量装置设置在所述第二辐射源和一目标区域之间，所述第一辐射测量装置包括：
一辐射测量面板，包括：
一基板；
一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容；以及
一测量装置，所述测量装置与一辐射测量面板连接，所述测量装置用于测量介电常数的变化，以评估当所述辐射测量面板暴露于第二辐射时接收第二辐射的剂量。
本发明所具有的优点：本发明提供的所述辐射测量面板能够测量辐射剂量，从而为患者提供一个最佳的放射治疗方案。
附图说明
图1是本发明一些实施例的辐射测量装置的操作环境。
图2是本发明一些实施例的辐射测量装置的模块框架图。
图3是本发明的一些实施例的辐射测量面板的截面示意图。
图4是本发明的一些实施例的辐射测量面板的截面示意图。
图5是本发明一些实施例的辐射测量系统的操作环境。
符号说明
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
请参阅图1，本发明通过一些实施例提供了一种辐射测量装置11的操作环境100。
所述操作环境100包括一辐射测量装置11、一第一辐射源12、一第二辐射源13、一患者支架14以及一头部支架15。在本实施方式中，所述第一辐射源12用于发射一第一辐射121，所述第一辐射121用于生成医学图像。所述第一辐射121可包括X射线辐射。所述第二辐射源13用于发射一第二辐射131，所述第二辐射131用于癌症治疗、细胞活性调节以及组织活性调节。所述第二辐射131可包括电离辐射。在本实施方式中，所述第二辐射源13可包括线性加速器。
如图1所示，患者躺在所述患者支架14上，并且患者的头部由所述头部支架15支撑。所述辐射测量装置11以及所述第一辐射源12按照从所述第一辐射源12发射的所述第一辐射121穿过患者头部到达所述辐射测量装置11的顺序设置。类似地，所述第二辐射源13按照从所述第二辐射源13发射的所述第二辐射131穿过目标区域16到达所述辐射测量装置11的顺序设置。在这种情况下，当所述第一辐射121和所述第二辐射131到达所述辐射测量装置11时，所述辐射测量装置11可以测量所述述第二辐射131到达所述辐射测量装置11上的辐射剂量，同时生成患者头部的内部图像。
请参阅图2，本发明还提供了一种辐射测量装置200，所述辐射测量装置200包括一辐射测量面板21，一与所述辐射测量面板21连接的测量装置22以及一与所述辐射测量面板21以及所述测量装置22连接的处理单元23。为了方便实施，所述辐射测量面板21可以是所述辐射测量装置200的一个组成部分，或者是具有一个或多个物理接口的一次性产品，以便连接所述测量装置22以及所述处理单元23。
请参阅图3，本发明还提供了一种辐射测量面板31，所述辐射测量面板31包括一基板31d、一第一子面板31a、一第二子面板31b以及一第三粘合剂层31c。
所述第一子面板31a设置在所述基板31d上。所述第一子面板31a在接收第一辐射时收集信息以生成图像。在一些实施方式中，所述第一子面板31a可包括X射线检测平板。例如，所述第一子面板31a可包括使用薄膜晶体管作为开关元件的二维X射线检测像素，每个像素可以包括但不限于由非晶硅(下文称为a-Si)制成的薄膜晶体管311a，并且用作开关元件，由Se制成的转换膜，像素电容器(下文称为Cst)。当X射线照射所述第一子面板31a时，转换膜则会产生电荷并将电荷存储在Cst中。当扫描电路接通所述薄膜晶体管311a时，可以通过电路读出表示二维X射线图像的存储电荷。
所述第三粘合剂层31c设置在所述第一子面板31a上。
所述第二子面板31b包括一基板313、一第一导电层314、一第一粘合剂层315、一牺牲层316、一第二粘合剂层317、一第二导电层318以及一覆盖层319。
所述基板313设置在所述第一子面板31a上，并通过所述第三粘合剂层31c与所述第一子面板31a连接。所述基板313可包括玻璃和塑料。
所述第一导电层314设置在所述基板313上。在本实施方式中，所述第一导电层314包括多个分立电极314a。在其他实施方式中，所述第一导电层314本身可以是单个电极。在本实施方式中，所述第一导电层314为透明导电膜。所述透明导电膜可为氧化铟锡(ITO)薄膜。
所述第一粘合剂层315设置在所述牺牲层316与所述第一导电层314之间。
所述牺牲层316包括一种能够在所述第二辐射131照射下介电特性发生变化的材料。在一定的照射时间内，所述介电特性(如介电常数)的变化是可以测量的。在一些实施方式中，所述牺牲层316设置在所述第一导电层314上，所述牺牲层316的介电常数根据所述牺牲层316接收所述第二辐射131剂量的变化而变化。在本实施方式中，所述牺牲层316的厚度为0.1～10微米。在本实施方式中，所述牺牲层316的材质包括聚氯乙烯(PVC)和聚苯二甲酸乙二醇酯(PET)。
所述第二粘合剂层317设置在所述牺牲层316和所述第一导电层314之间。
所述第二导电层318设置在所述牺牲层316上，所述第二导电层318接收的辐射剂量对应于所述第一导电层314和所述第二导电层318之间的电容。在本实施方式中，所述第二导电层318为透明导电膜。所述透明导电膜可为ITO薄膜。
所述测量装置22包括一个或多个用于执行本文描述的一个或多个功能的硬件组件，数据或软件应用程序。例如，测量装置22可以包括一个或多个计算机处理器，例如MCU，存储模块、各种电路以及存储在存储模块中的制表。在一种情况下，所述制表可以包括多个介电常数和多个参考辐射剂量之间的关系。在另一种情况下，所述制表可以包括多个电容和多个参考辐射剂量之间的关系。
例如，在本实施方式中，当所述第二辐射131照射一辐射测量面板(如辐射测量面板31)时，所述测量装置22通过测量介电常数的变化来评估所述辐射测量面板接收的所述第二辐射131的剂量。一种情况是，所述测量装置22与所述辐射测量面板31的所述第一导电层314以及所述辐射测量面板31的所述第二导电层318连接。当所述第二辐射131照射至所述辐射测量面板31时，所述测量装置22通过测量所述第一导电层314与所述第二导电层318之间的电容来评估所述牺牲层316介电常数的变化，然后根据测量的电容与所述制表评估所述辐射测量面板31接收的所述第二辐射131的剂量。
在一种情况下，所述测量装置22可以应用下面的公式通过测量所述第一导电层314与所述第二导电层318之间的电容来评估所述牺牲层316介电常数(Δε)的变化。公式如下：
C＝(ε+Δε)A/d；
其中，C为第一导电层314和第二导电层318之间的电容；A为第一导电层314和第二导电层318的面积；d为牺牲层的厚度。
在一种情况下，所述测量装置22可包括一与所述第一导电层314以及所述第二导电层318连接的测量电路，所述测量电路用于测量所述第一导电层314与所述第二导电层318之间的电容。例如，所述测量电路可将一种或多种交流电施加到所述第一导电层314或所述第二导电层318以获得一个或多个用于计算电容的特征阻抗。在另一种情况下，所述测量电路可包括电阻器-电容器(RC)电路和MCU，所述测量电路通过充电时间和放电时间来计算电容。
所述处理单元23可以包括用于执行本文描述的一个或多个功能的一个或多个硬件组件，数据或软件应用程序。例如，处理单元23可以包括一个或多个计算机处理器，例如CPU、MCU、GPU、控制芯片、存储模块、各种电路以及存储在存储模块中的有关治疗的信息。有关治疗的信息包括但不限制于由所述第二辐射源13发射的所述第二辐射131的剂量。
在一些实施方式中，所述处理单元23根据所述辐射测量面板31接收的所述第二辐射131的剂量以及位于存储模块中的所述第二辐射源13发射的所述第二辐射131的剂量评估患者在所述第二辐射131下接收的辐射剂量。在一种情况下，患者在所述第二辐射131条件下接收的辐射剂量与所述辐射测量面板31接收的辐射剂量的和等于所述第二辐射源13发射的所述第二辐射131的剂量。
在一些实施方式中，患者在所述第二辐射131条件下接收的辐射剂量可为以后的治疗提供参考。例如，患者接收的辐射剂量可通过与所述处理单元23连接的屏幕显示以便为负责确定下一步治疗方案(如所述第二辐射131的方向和剂量)的医生提供必要的信息。在一些实施方式中，所述处理单元23还可将辐射剂量信息传输到所述第二辐射源13，所述辐射剂量信息可表明患者接收的辐射剂量。在一些实施方式中，所述第二辐射源13可存储从所述第二辐射源13发射的所述第二辐射131的剂量和方向以及从所述处理单元23得到的患者吸收的辐射剂量。先前治疗的信息可能会为确定后期治疗参数(如所述第二辐射131的剂量和方向)提供参考。
在一些实施方式中，所述处理单元23还用于确定患者接收的辐射剂量是否超过预定的辐射剂量，并向所述第二辐射源13传输信号以控制所述第二辐射源13是否发射所述第二辐射131。
在本实施方式中，所述处理单元23还根据所述第一子面板31a收集的信息生成图像。在本实施方式中，所述处理单元23可能包括一扫描电路以及一阅读电路。所述扫描电路用于打开所述第一子面板31a上的所述薄膜晶体管311a。所述阅读电路用于读取电荷表示的信号以生成存储在所述第一子面板31a上的图像信息，并生成图像。
在一些实施方式中，所述处理单元23还具有通过将所述生成的图像与能够显示患者头部原始位置的参考图像作比较，进而分析患者头部运动(如移动，回转等)的能力。患者头部的原始位置通过所述目标区域16相对所述第二辐射131的位置确定，同时也给是否结束治疗提供一个参考。例如，与所述处理单元23数据连接的屏幕可显示描述患者头部运动(如移动的幅度，回转等)的参数，以便给负责治疗的医生提供参考以便确定是否中止治疗。
当所述第一导电层314包括多个分立电极314a，所述第一导电层314的所述分立电极314a与所述第二导电层318之间的多个电容可以通过所述测量装置22测量，从而得到多个介电常数的变化。在此情况下，当所述第二辐射131照射所述辐射测量面板31时，所述测量装置22根据测量到的所述介电常数变化中的最大值预测所述辐射测量面板31接收的辐射剂量。在此情况下，所述处理单元23可根据介电常数的变化对应于所述分立电极314a以及所述分立电极314a位置的关系进一步确定所述第二辐射131的准确性。
应该说明的是，为了治疗患者身体内部的目标区域16，所述第二辐射131需要穿透健康组织以致照射至所述目标区域16。在传统放射治疗中，大量的健康组织因此处于所述第二辐射131的有害照射下。放射治疗方案应该集中于治疗一个部位，同时对正常细胞的影响应达到最小。换句话说，当患者的运动使得更多的正常组织处于所述第二辐射131的有害照射之下时，需要停止治疗。
请参阅图4，本发明提供了一种辐射测量面板41，所述辐射测量面板41包括一基板413、一第一导电层414、一第一粘合剂层415、一牺牲层416、一第二粘合剂层417、一第二导电层418以及一覆盖层419。
所述基板413可包括玻璃和塑料。
所述第一导电层414设置在所述基板413上。在一些实施方式中，所述第一导电层414包括多个分立电极414a。在其他实施方式中，所述第一导电层414本身可以是单个电极。在一些实施方式中，所述第一导电层414为透明导电膜。所述透明导电膜可为氧化铟锡(ITO)薄膜。
所述第一粘合剂层415设置在所述牺牲层416与所述第一导电层414之间。
所述牺牲层416设置在所述第一导电层414上，所述牺牲层416的介电常数根据其接收的辐射剂量的变化而变化。所述牺牲层416接收的辐射剂量的大小对应于所述第一导电层414与所述第二导电层418之间的电容。在一些实施方式中，所述牺牲层416的厚度为0.1～10微米。在一些实施方式中，所述牺牲层316的材质包括聚氯乙烯(PVC)和聚苯二甲酸乙二醇酯(PET)。
所述第二粘合剂层417设置在所述牺牲层416和所述第二导电层418之间。
所述第二导电层418设置在所述牺牲层416上，所述第二导电层418接收的辐射剂量对应于所述第一导电层414和所述第二导电层418之间的电容。在一些实施方式中，所述第二导电层418为透明导电膜。所述透明导电膜可为ITO薄膜。
当照射所述辐射测量面板41时，一测量装置(如测量装置22)通过测量介电常数的变化来评估所述辐射测量面板41接收的辐射剂量。一种情况是，一测量装置(如测量装置22)与所述第一导电层414以及所述第二导电层418连接，通过测量所述第一导电层414与所述第二导电层418之间的电容来评估所述牺牲层416介电常数的变化，然后根据测量的电容与所述制表评估所述辐射测量面板41接收的辐射剂量。
在本实施方式中，一测量装置(如测量装置22)可包括一与所述第一导电层414以及所述第二导电层418连接的测量电路，所述测量电路用于测量所述第一导电层414与所述第二导电层418之间的电容。例如，所述测量电路可将一种或多种交流电施加到所述第一导电层414或所述第二导电层418以获得一个或多个用于计算电容的特征阻抗。在另一种情况下，所述测量电路可包括电阻器-电容器(RC)电路和MCU，所述测量电路通过充电时间和放电时间来计算电容。
在一种情况下，所述辐射测量面板41设置在所述第二辐射源发射的所述第二辐射的路径中，并位于所述目标区域与所述第二辐射源之间，以便从所述第二辐射源发射的所述第二辐射直接照射到所述辐射测量面板41上。在此情况下，所述测量装置可用于评估所述第二辐射源发射的所述第二辐射的剂量。
在一些实施方式中，一处理单元(如处理单元23)根据所述辐射测量面板接收的辐射剂量以及位于存储模块中的辐射源发射的辐射剂量评估患者在辐射条件下接收的辐射剂量。在一种情况下，患者在辐射条件下接收的辐射剂量与所述辐射测量面板接收的辐射剂量的和等于所述辐射源发射的辐射剂量。
在一些实施方式中，患者在辐射条件下接收的辐射剂量可为以后提供参考。例如，患者接收的辐射剂量可通过与一处理单元(如处理单元23)连接的屏幕显示以便为负责确定下一步治疗方案(如辐射方向和辐射剂量)的医生提供必要的信息。当所述第一导电层414包括多个分立电极414a，所述第一导电层414的所述分立电极414a与所述第二导电层418之间的多个电容可以通过一测量装置(如测量装置22)测量，从而得到多个介电常数的变化。在此情况下，当照射所述辐射测量面板41时，一测量装置(如测量装置22)根据测量到的所述介电常数变化中的最大值预测所述辐射测量面板41接收的辐射剂量。在此情况下，一处理单元(如处理单元23)可根据介电常数的变化对应于所述分立电极414a与所述分立电极414a位置的关系进一步确定辐射的准确性。
请参阅图5，本发明还提供了一辐射测量系统5的操作环境500。
所述操作环境500包括一辐射测量系统5、一第一辐射源52、一第二辐射源53、一患者支架54以及一头部支架55。在一种情况下，所述第一辐射源52用于发射一第一辐射521，所述第一辐射521用于生成医学图像。所述第一辐射521可包括X射线辐射。所述第二辐射源53用于发射一第二辐射531，所述第二辐射531用于癌症治疗、细胞活性调节或组织活性调节。所述第二辐射531可包括电离辐射。在一种情况下，所述第二辐射源53可包括线性加速器。
如图5所示，患者躺在所述患者支架54上，并且患者的头部由所述头部支架55支撑。
所述辐射测量系统5包括一第一辐射测量装置57以及一第二辐射测量装置51。
在一种情况下，所述第一辐射测量装置57包括一辐射测量面板以及一测量装置。所述辐射测量面板包括一基板(如基板413)、一第一导电层(如第一导电层414)、一牺牲层(如牺牲层416)以及第二导电层(如第二导电层418)。所述测量装置(如测量装置22)与所述辐射测量面板连接。当所述第二辐射531照射所述辐射测量面板时，所述测量装置通过介电常数的变化评估所述辐射测量面板接收的第二辐射531的剂量。
所述第二辐射测量装置51包括一辐射测量面板、一测量装置以及一处理单元。所述第二辐射测量装置51的所述辐射测量面板包括一第一子面板以及一第二子面板。所述第一子面板(如第一子面板31a)用于在接收到所述第一辐射521后收集信号以生成图像信息。所述第二子面板包括一设置在所述第一子面板上的基板(如基板313)、一设置在所述基板上的第一导电层(如第一导电层314)、一设置在所述第一导电层上的牺牲层(如牺牲层316)以及一设置在所述牺牲层上的第二导电层(如第二导电层318)。所述第二辐射测量装置51的所述测量装置与所述第二子面板连接。当所述第二辐射照射所述辐射测量面板时，所述测量装置通过测量介电常数的变化评估所述辐射测量面板接收的辐射剂量。所述第二辐射测量装置51的所述处理单元与所述第一子面板连接，所述处理单元根据所述第一子面板收集的信息生成图像。
所述第一辐射测量装置57以及所述第二辐射测量装置51按照从所述第二辐射源53发射的所述第二辐射531依次经过所述第一辐射测量装置57和目标区域56，最终达到所述第二辐射测量装置51的顺序排列。在此情况下，当所述第二辐射531照射到所述第一辐射测量装置57上时，除其他特征外，所述第一辐射测量装置57测量所述第二辐射源53发射的所述第二辐射531的剂量，在同时，所述第二辐射测量装置51测量患者接收的所述第二辐射531的剂量，并生成患者的医疗图像。
在一些实施方式中，具有双离子室的所述第二辐射源53测量所述第二辐射531的剂量，所述双离子室设置在主准直器和副准直器之间，所述主准直器和所述副准直器不能测量存在于准直器或MLC(多叶准直器)中的辐射光束。这可能是监控单元的定义。根据后面提供的测试结果需要进行校准。这意味着每个系统都需要校准，这对于治疗来说是严重的，这需要时间以及费用。在此实施方式中，能够测量所述第二辐射源53发射的所述第二辐射531剂量的所述辐射测量装置可能可以测量存在于准直器或MLC中的辐射光束。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。
Claims (26)
1.一种辐射测量面板，其特征在于，包括：
一基板；
一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上；
一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。
2.如权利要求1所述的辐射测量面板，其特征在于，所述第二导电层是透明导电膜。
3.如权利要求1所述的辐射测量面板，其特征在于，所述第一导电层包括多个分立电极。
4.如权利要求1所述的辐射测量面板，其特征在于，所述牺牲层的厚度为0.1～10微米。
5.如权利要求1所述的辐射测量面板，其特征在于，所述牺牲层包括聚氯乙烯和聚苯二甲酸乙二醇酯。
6.如权利要求1所述的辐射测量面板，其特征在于，所述辐射测量面板还包括：
一第一粘合剂层，所述第一粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第一导电层之间；以及
一第二粘合剂层，所述第二粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第二导电层之间。
7.一种辐射测量装置，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的辐射测量面板以及一测量装置，所述测量装置与所述辐射测量面板连接，所述测量装置用于当所述辐射测量面板受到辐射时，通过测量介电常数的变化预测所述辐射测量面板接收的辐射剂量。
8.如权利要求7所述的辐射测量装置，其特征在于，所述测量装置与所述第一导电层以及所述第二导电层连接，所述测量装置用于测量所述第一导电层以及所述第二导电层之间的电容以评估所述牺牲层介电常数的变化。
9.如权利要求7所述的辐射测量装置，其特征在于，所述辐射测量装置还包括一制表，所述制表包括多个介电常数和多个辐射剂量之间的对应关系。
10.如权利要求7所述的辐射测量装置，其特征在于，所述辐射测量装置还包括一制表，所述制表包括多个电容和多个辐射剂量之间的对应关系。
11.如权利要求7所述的辐射测量装置，其特征在于，所述辐射测量装置还包括一处理单元，所述处理单元根据所述辐射测量面板接收的辐射剂量预测患者接收的辐射剂量。
12.一种辐射测量面板，其特征在于，包括：
一第一子面板，所述第一子面板在接收第一辐射时收集信息，所述信息用于生成图像；
一第二子面板，包括：
一基板，所述基板设置在所述第一子面板上；
一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上；
一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容。
13.如权利要求12所述的辐射测量面板，其特征在于，所述第二导电层是透明导电膜。
14.如权利要求12所述的辐射测量面板，其特征在于，所述第一导电层包括多个分立电极。
15.如权利要求12所述的辐射测量面板，其特征在于，所述牺牲层的厚度为0.1～10微米。
16.如权利要求12所述的辐射测量面板，其特征在于，所述牺牲层包括聚氯乙烯和聚苯二甲酸乙二醇酯。
17.如权利要求12所述的辐射测量面板，其特征在于，所述辐射测量面板还包括：
一第一粘合剂层，所述第一粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第一导电层之间；以及
一第二粘合剂层，所述第二粘合剂层设置在所述牺牲层与所述第二导电层之间。
18.如权利要求12所述的辐射测量面板，其特征在于，所述辐射测量面板还包括一第三粘合剂层，所述第三粘合剂层设置在所述第一子面板与所述第二子面板的所述基板之间。
19.一种辐射测量装置，其特征在于，包括：
如权利要求12-18项中任一项所述的辐射测量面板；
一测量装置，所述测量装置与所述第二子面板连接，所述测量装置用于测量介电常数的变化，以评估当所述辐射测量面板暴露于第二辐射时所述辐射测量面板所接收的辐射剂量；以及
一处理单元，所述处理单元与所述第一子面板连接，所述处理单元根据所述第一子面板收集的信息生成图像。
20.如权利要求19所述的辐射测量装置，其特征在于，所述测量装置与所述第一导电层以及所述第二导电层连接，所述测量装置用于测量所述第一导电层以及所述第二导电层之间的电容以评估所述牺牲层介电常数的变化。
21.如权利要求19所述的辐射测量装置，其特征在于，所述辐射测量装置还包括一制表，所述制表包括多个介电常数和多个辐射剂量之间的对应关系。
22.如权利要求19所述的辐射测量装置，其特征在于，所述处理单元还用于根据所述辐射测量面板接收的第二辐射剂量预测患者在第二辐射下接收的辐射剂量。
23.如权利要求19所述的辐射测量装置，其特征在于，所述第一导电层包括多个分立电极；以及
所述测量装置用于根据测量到的所述介电常数变化中的最大值预测所述辐射测量面板接收的辐射剂量。
24.一种辐射测量系统，其特征在于，所述辐射测量系统设置在第二辐射源发射的第二辐射的路径中，所述辐射测量系统包括：
一第一辐射测量装置，所述第一辐射测量装置设置在所述第二辐射源和一目标区域之间，所述第一辐射测量装置包括：
一辐射测量面板，包括：
一基板；
一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容；以及
一测量装置，所述测量装置与一辐射测量面板连接，所述测量装置用于测量介电常数的变化，以评估当所述辐射测量面板暴露于第二辐射时接收第二辐射的剂量。
25.如权利要求24所述的辐射测量系统，其特征在于，所述辐射测量系统还包括：
一第二辐射测量装置，包括：
一辐射测量面板，包括：
一第一子面板，所述第一子面板在接收第一辐射时收集信息以生成图像；
一第二子面板，包括：
一基板，所述基板设置在所述第一子面板上；一第一导电层，所述第一导电层设置在所述基板上；
一牺牲层，所述牺牲层设置在所述第一导电层上，所述牺牲层的介电常数根据所述牺牲层接收的辐射剂量对应变化；以及
一第二导电层，所述第二导电层设置在所述牺牲层上，所述第二导电层接收的辐射剂量对应于所述第一导电层和所述第二导电层之间的电容；
一测量装置，所述测量装置与所述第二子面板连接，所述测量装置用于测量介电常数的变化，以预测当所述辐射测量面板暴露于第二辐射时，所述辐射测量面板所接收的辐射剂量；以及
一处理单元，所述处理单元与所述第一子面板连接，所述处理单元根据所述第一子面板收集的信息生成图像。
26.如权利要求25所述的辐射测量系统，其特征在于，所述第一辐射测量装置以及所述第二辐射测量装置按照从所述第二辐射源发射的所述第二辐射依次经过所述第一辐射测量装置和所述目标区域，最终达到所述第二辐射测量装置的顺序排列。
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