CN111489593B - 电子黑板磨砂玻璃、电子黑板及磨砂玻璃制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供电子黑板磨砂玻璃、电子黑板及磨砂玻璃制造方法，涉及电子设备技术领域，在电子黑板磨砂玻璃的正面设多个凹槽，电子黑板磨砂玻璃正面上位于相邻两凹槽之间的部位处同一平面，多个凹槽的面积小于等于电子黑板磨砂玻璃正面面积的10％；电子黑板包括基板、液晶模组、触控膜和前述电子黑板磨砂玻璃；液晶模组连接于基板正面；触控膜连接于电子黑板磨砂玻璃背面；电子黑板磨砂玻璃以使触控膜面向并间隔于液晶模组的方式安装于基板正面；该磨砂玻璃制造方法用于制造前述电子黑板磨砂玻璃，本发明缓解了现有技术中电子黑板磨砂玻璃的书写流畅度和显示清晰度需要相互协调，从而书写流畅度和显示清晰度都不是很好的问题。

Description

电子黑板磨砂玻璃、电子黑板及磨砂玻璃制造方法

技术领域

本发明涉及电子设备技术领域，尤其是涉及一种电子黑板磨砂玻璃、电子黑板及磨砂玻璃制造方法。

背景技术

电子设备中，经常使用到兼具显示和书写功能于一体的电子黑板磨砂玻璃，例如电子黑板，随着大屏幕显示、触摸控制技术的发展及现代化教学的推进，安装有电子黑板磨砂玻璃的电子黑板在各行各业尤其是教育领域得到越来越广泛的应用。

为实现流畅书写，希望电子黑板磨砂玻璃的粗糙度越高越好，为使显示具有较高清晰度，则希望电子黑板磨砂玻璃的光泽度越高越好，但是，一旦粗造度提高，虽然可流畅书写，但是光泽度则对应下降，不利于清晰显示，而若使显示清晰，则粗造度不能较高，但此时对书写不利，从而现有电子黑板磨砂玻璃及应用其的电子设备存在显示清晰与书写流畅之间不能同时满足的技术问题，这导致现有技术中应用于电子黑板等电子设备的电子黑板磨砂玻璃的书写流畅度和显示清晰度需要相互协调，从而书写流畅度和显示清晰度都不是很好。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电子黑板磨砂玻璃、电子黑板及磨砂玻璃制造方法，以缓解现有技术中应用于电子黑板等电子设备的电子黑板磨砂玻璃的书写流畅度和显示清晰度需要相互协调，从而书写流畅度和显示清晰度都不是很好的技术问题。

为实现上述目的，本发明实施例采用如下技术方案：

第一方面，本发明实施例提供一种电子黑板磨砂玻璃，其中，在所述电子黑板磨砂玻璃的正面设置有多个凹槽，多个所述凹槽之间两两相互间隔，且所述电子黑板磨砂玻璃的正面上位于相邻两个所述凹槽之间的部位处于同一平面，多个所述凹槽占用所述电子黑板磨砂玻璃的正面的面积小于等于所述电子黑板磨砂玻璃的正面面积的10％。

在可选的实施方式中，以所述凹槽的轮廓最大高度为Rz，以多个所述凹槽的轮廓算术平均偏差为Ra，以多个所述凹槽的轮廓单峰平均间距为S，以多个所述凹槽的轮廓微观不平度平均间距为Sm，则满足下述关系：0μm<Rz≤10μm；0.9μm≤Ra≤1.1μm；90μm≤S≤110μm；90μm≤Sm≤110μm。

在可选的实施方式中，在所述凹槽的内底壁上涂设有涂料。

第二方面，本发明实施例提供一种电子黑板，包括基板、液晶模组、触控膜和前述任一可选实施方式提供的电子黑板磨砂玻璃；

所述液晶模组连接于所述基板的正面；所述触控膜连接于所述电子黑板磨砂玻璃的背面；所述电子黑板磨砂玻璃以使所述触控膜面向并间隔于所述液晶模组的方式安装于所述基板的正面。

在可选的实施方式中，所述基板包括依次拼接的第一基板、第二基板和第三基板；所述电子黑板磨砂玻璃包括依次拼接的第一电子黑板磨砂玻璃、第二电子黑板磨砂玻璃和第三电子黑板磨砂玻璃；所述液晶模组连接于所述第二基板的正面；所述触控膜连接于所述第二电子黑板磨砂玻璃的背面；

所述第一电子黑板磨砂玻璃安装于所述第一基板的正面，所述第三电子黑板磨砂玻璃安装于所述第三基板的正面，所述第二电子黑板磨砂玻璃以使所述触控膜面向并间隔于所述液晶模组的方式安装于所述第二基板的正面。

第三方面，本发明实施例提供一种磨砂玻璃制造方法，包括掩膜覆盖步骤、氢氟酸腐蚀步骤以及钢化步骤；具体地，掩膜覆盖步骤是指在平直玻璃的正面上覆盖具有多个开孔的耐酸掩膜；氢氟酸腐蚀步骤是指使用氢氟酸对覆盖有所述耐酸掩膜的所述平直玻璃的正面进行腐蚀，以在所述平直玻璃的正面腐蚀出多个凹槽，多个所述凹槽占用所述平直玻璃的正面的面积小于等于所述平直玻璃的正面面积的10％；钢化步骤是指使用钢化炉对经过氢氟酸腐蚀的所述平直玻璃进行钢化。

在以上磨砂玻璃制造方法的可选实施方式中，所述掩膜覆盖步骤中，所述耐酸掩膜包括多个单元膜，各个所述单元膜均为长方形或正方形，在各个所述单元膜上的同一位置处均设置有一个镂空部，所述镂空部的面积小于等于所述单元膜的面积的10％；所述镂空部用于在使用氢氟酸对覆盖有所述耐酸掩膜的所述平直玻璃的正面进行腐蚀的步骤中透过所述氢氟酸，以在所述平直玻璃上形成所述凹槽。

在以上磨砂玻璃制造方法的可选实施方式中，所述磨砂玻璃制造方法还包括凹槽涂色步骤：在所述氢氟酸腐蚀步骤之后，在所述凹槽的内底壁上涂刷涂料。

进一步可选地，所述凹槽涂色步骤包括：将带有颜色的涂料涂刷于所述耐酸掩膜的背离所述平直玻璃的一面，然后从所述平直玻璃的正面除去所述耐酸掩膜。

另外，在以上磨砂玻璃制造方法的可选实施方式中，所述磨砂玻璃制造方法还包括背面印刷步骤，所述背面印刷步骤包括在所述平直玻璃的背面印刷或贴覆深色涂层。

本发明实施例能够实现如下有益效果：

第一方面，本发明实施例提供一种电子黑板磨砂玻璃，其中，在电子黑板磨砂玻璃的正面设置有多个凹槽，多个凹槽之间两两相互间隔，且电子黑板磨砂玻璃的正面上位于相邻两个凹槽之间的部位处于同一平面，多个凹槽占用电子黑板磨砂玻璃的正面的面积小于等于电子黑板磨砂玻璃的正面面积的10％，例如但不限于，使多个凹槽11占用电子黑板磨砂玻璃1的正面的面积为电子黑板磨砂玻璃1的正面面积的2％或4％或6％或8％或10％等。

本发明实施例中，通过在电子黑板磨砂玻璃的正面设置有多个凹槽以使电子黑板磨砂玻璃的正面具有较高粗糙度，同时，通过使电子黑板磨砂玻璃的正面上位于相邻两个凹槽之间的部位处于同一平面，并使电子黑板磨砂玻璃的正面上处于相邻两个凹槽之间的部位具有较大的面积，具体地，使多个凹槽占用电子黑板磨砂玻璃的正面的面积小于等于电子黑板磨砂玻璃的正面面积的10％，电子黑板磨砂玻璃的正面上处于相邻两个凹槽之间的部位的面积即占到电子黑板磨砂玻璃的正面面积的90％以上，由此，即可使电子黑板磨砂玻璃的正面在具有较高粗糙度从而可流畅书写的同时实现高透光率和高光泽度，透光率和光泽度越高，远距离观看时显示清晰度也相应越高；此种方法相对于普通磨砂玻璃而言，可增加凹槽的深度以提高书写流畅度，而电子黑板磨砂玻璃的正面上位于相邻两个凹槽之间的部位处于同一平面且电子黑板磨砂玻璃的正面上处于相邻两个凹槽之间的部位的面积占到电子黑板磨砂玻璃的正面面积的90％以上，又使这种加深凹槽不会对电子黑板磨砂玻璃的透光率和光泽度有大的影响，进而，既可使书写流畅度较好，又可以实现高清晰度显示，缓解了现有技术中应用于电子设备的电子黑板磨砂玻璃的书写流畅度和显示清晰度需要相互协调，从而书写流畅度和显示清晰度都不是很好的技术问题。

本发明实施例的第二方面还提供一种电子黑板，包括基板、液晶模组、触控膜和第一方面提供的电子黑板磨砂玻璃；液晶模组连接于基板的正面；触控膜连接于电子黑板磨砂玻璃的背面；电子黑板磨砂玻璃以使触控膜面向并间隔于液晶模组的方式安装于基板的正面。由于本发明实施例提供的电子黑板包括前述第一方面提供的电子黑板磨砂玻璃，因而，本发明实施例提供的电子黑板能够达到前述电子黑板磨砂玻璃能够达到的所有有益效果。

本发明实施例的第三方面则提供了用于制造前述电子黑板磨砂玻璃的一种具体的磨砂玻璃制造方法，为以上电子黑板磨砂玻璃的制造工艺提供了参考方向。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例一提供的电子黑板磨砂玻璃的一个可选实施方式的侧视图；

图2为本发明实施例一提供的电子黑板磨砂玻璃的另一个可选实施方式的侧视图；

图3为本发明实施例二提供的电子黑板的整体结构示意图；

图4为本发明实施例三提供的磨砂玻璃制造方法中覆盖有耐酸掩膜但未腐蚀形成凹槽的平直玻璃的侧视图；

图5为本发明实施例三提供的磨砂玻璃制造方法中覆盖有耐酸掩膜且已腐蚀形成凹槽的平直玻璃的侧视图；

图6为本发明实施例三提供的磨砂玻璃制造方法中耐酸掩膜的一种可选实施方式的整体结构示意图；

图7为本发明实施例三提供的磨砂玻璃制造方法的一种可选实施方式的工艺流程框图。

图标：1-电子黑板磨砂玻璃；101-第一电子黑板磨砂玻璃；102-第二电子黑板磨砂玻璃；103-第三电子黑板磨砂玻璃；11-凹槽；12-涂料；2-电子黑板；21-基板；201-显示书写区域；202-纯书写区域；211-第一基板；212-第二基板；213-第三基板；4-平直玻璃；5-耐酸掩膜；50-单元膜；501-镂空部；S1-掩膜覆盖步骤；S2-氢氟酸腐蚀步骤；S3-钢化步骤；S4-凹槽涂色步骤；S5-包装发运步骤。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“正面”、“背面”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面结合附图，对本发明的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

实施例一

参照图1，本实施例提供一种电子黑板磨砂玻璃1，其中，在电子黑板磨砂玻璃1的正面设置有多个凹槽11，多个凹槽11之间两两相互间隔，且电子黑板磨砂玻璃1的正面上位于相邻两个凹槽11之间的部位处于同一平面，多个凹槽11占用电子黑板磨砂玻璃1的正面的面积小于等于电子黑板磨砂玻璃1的正面面积的10％，例如但不限于，使多个凹槽11占用电子黑板磨砂玻璃1的正面的面积为电子黑板磨砂玻璃1的正面面积的2％或4％或6％或8％或10％等。

本实施例中，通过在电子黑板磨砂玻璃1的正面设置有多个凹槽11以使电子黑板磨砂玻璃1的正面具有较高粗糙度，同时，通过使电子黑板磨砂玻璃1的正面上位于相邻两个凹槽11之间的部位处于同一平面，并使电子黑板磨砂玻璃1的正面上处于相邻两个凹槽11之间的部位具有较大的面积，具体地，使多个凹槽11占用电子黑板磨砂玻璃1的正面的面积小于等于电子黑板磨砂玻璃1的正面面积的10％，电子黑板磨砂玻璃1的正面上处于相邻两个凹槽11之间的部位的面积即占到电子黑板磨砂玻璃1的正面面积的90％以上，由此，即可使电子黑板磨砂玻璃1的正面在具有较高粗糙度从而可流畅书写的同时实现高透光率和高光泽度，透光率和光泽度越高，远距离观看时显示清晰度也相应越高；此种方法相对于普通磨砂玻璃而言，可增加凹槽11的深度以提高书写流畅度，而电子黑板磨砂玻璃1的正面上位于相邻两个凹槽11之间的部位处于同一平面且电子黑板磨砂玻璃1的正面上处于相邻两个凹槽11之间的部位的面积占到电子黑板磨砂玻璃1的正面面积的90％以上，又使这种加深凹槽11不会对电子黑板磨砂玻璃1的透光率和光泽度有大的影响，进而，既可使书写流畅度较好，又可以实现高清晰度显示，缓解了现有技术中应用于电子设备的电子黑板磨砂玻璃1的书写流畅度和显示清晰度需要相互协调，从而书写流畅度和显示清晰度都不是很好的技术问题。

在本实施例的可选实施方式中，较为优选地，以上述凹槽11的轮廓最大高度为Rz，以多个凹槽11的轮廓算术平均偏差为Ra，以多个凹槽11的轮廓单峰平均间距为S，以多个凹槽11的轮廓微观不平度平均间距为Sm，则满足下述关系：0μm<Rz≤10μm；0.9μm≤Ra≤1.1μm；90μm≤S≤110μm；90μm≤Sm≤110μm。例如但不限于使Rz为1μm或5μm或10μm或大于0μm且小于等于10μm的其他任意数值；Ra为0.9μm或1.0μm或1.1μm或位于0.9μm～1.1μm之间的其他任意数值；S为90μm或100μm或110μm或位于90μm～110μm之间的其他数值；通过以上设置，使本实施例提供的电子黑板磨砂玻璃的平均粗糙度是普通电子黑板磨砂玻璃粗糙度的3倍左右，具有非常高的挂粉率，因此可实现普通粉笔的流畅书写，同时，有利于使电子黑板磨砂玻璃的正面的光泽度不低于30Gu；另外，对于以上轮廓单峰平均间距S和轮廓微观不平度平均间距Sm两参数的具体含义可参考“测量轮廓单峰间距和轮廓微观间距”，丁鸣，《合肥学院学报(自然科学版)》，2006年9月，第16卷第3期。

参照图2，在本实施例的可选实施方式中，在凹槽11的内底壁上涂设有涂料12，从而，可通过在凹槽11的内底壁上涂设涂料12替代在电子黑板磨砂玻璃1的背面印刷深色涂层的方式，以对电子黑板磨砂玻璃1进行背光处理，涂料12的颜色可以是黑色或绿色或其他颜色等，该工艺操作简单、省材料。

实施例二

参照图3，本实施例提供一种电子黑板2。

电子黑板又称智慧黑板，使粉笔或水笔板书、多媒体播放可以在一块黑板上实现，而且板书可以在包括多媒体播放区的整个黑板上书写，可以在不改进电子黑板外部结构的情况下实现板书和显示模式的切换，相比于传统的单一黑板或投影仪更多方便，展示效果更佳。电子黑板表面设置表面具有一定粗糙度的电子黑板磨砂玻璃，可以实现板书功能，同时由于电子黑板磨砂玻璃透明的特性，电子黑板的基板和电子黑板磨砂玻璃之间布置液晶模组和触控膜实现多媒体展示的效果。

本实施例提供的电子黑板2包括基板21、液晶模组、触控膜和实施例一中任一可选实施方式提供的电子黑板磨砂玻璃1；液晶模组连接于基板21的正面；触控膜连接于电子黑板磨砂玻璃1的背面；电子黑板磨砂玻璃1以使触控膜面向并间隔于液晶模组的方式安装于基板21的正面，具体地，电子黑板磨砂玻璃1的边部连接于基板21。

其中，以基板21的正面上连接有液晶模组的部位为显示书写区域201，基板21的正面上除去显示书写区域201的部位构成纯书写区域202，对显示书写区域201和纯书写区域202的面积和数量均不作限制，可设置基板21的整个正面均为显示书写区域201而无纯书写区域202，即液晶模组遍布基板21正面，也可以设置显示书写区域201和纯书写区域分别具有一个或相互间隔的多个等。在基板21的正面上同时存在显示书写区域201和纯书写区域202的情况下，电子黑板磨砂玻璃1可以完全覆盖基板21的方式安装于基板21，也可仅仅覆盖于基板21的显示书写区域201，而在基板21的正面上纯书写区域内安装书写板来实现纯书写功能，较佳地，使电子黑板磨砂玻璃1以完全覆盖基板21的方式安装于基板21，电子黑板磨砂玻璃1上与显示书写区域201对应的部位用于显示书写，电子黑板磨砂玻璃1上与纯书写区域202对应的部位用于纯书写。

本实施例中，较为优选地，以电子黑板磨砂玻璃1上凹槽11的轮廓最大高度为Rz，以电子黑板磨砂玻璃1上多个凹槽11的轮廓算术平均偏差为Ra，以其多个凹槽11的轮廓单峰平均间距为S，以电子黑板磨砂玻璃1上多个凹槽11的轮廓微观不平度平均间距为Sm，则满足下述关系：0μm<Rz≤10μm；0.9μm≤Ra≤1.1μm；90μm≤S≤110μm；90μm≤Sm≤110μm。例如但不限于使Rz为1μm或5μm或10μm或大于0μm且小于等于10μm的其他任意数值；Ra为0.9μm或1.0μm或1.1μm或位于0.9μm～1.1μm之间的其他任意数值；S为90μm或100μm或110μm或位于90μm～110μm之间的其他数值；通过以上设置，使本实施例提供的电子黑板使用的电子黑板磨砂玻璃的平均粗糙度是普通电子黑板磨砂玻璃粗糙度的3倍左右，具有非常高的挂粉率，因此可实现普通粉笔的流畅书写，同时，有利于使电子黑板磨砂玻璃的正面的光泽度不低于30Gu；同时，在基板21的正面上同时存在显示书写区域201和纯书写区域202的情况下，电子黑板磨砂玻璃1上与显示书写区域201对应的部位的蒙砂层面具有高粗糙度和高光泽度，这使外界环境光的反射界面集中到这个蒙砂层面，蒙砂层面后面的与蒙砂层面具有一定距离空气层的液晶模组显示面板的反射则大为降低，从而使熄屏后电子黑板磨砂玻璃1上与显示书写区域201对应的部位与电子黑板磨砂玻璃1上与纯书写区域202对应的部位之间的色差得以减小，因此在熄屏或书写状态可使电子黑板磨砂玻璃1上与显示书写区域201对应的部位和电子黑板磨砂玻璃1上与纯书写区域202对应的部位之间的色差达到最小，实现电子黑板2的电子黑板磨砂玻璃1正面的颜色整体一致；另外，高粗糙度的电子黑板磨砂玻璃1表面可有效遮挡透过其蒙砂层面的反射光线，同时具非常好的反光和眩光抑制效果，实现低反光和低眩光效果。

另外，在本实施例的可选实施方式中，较为优选地，基板21包括依次拼接的第一基板211、第二基板212和第三基板213；电子黑板磨砂玻璃1包括依次拼接的第一电子黑板磨砂玻璃101、第二电子黑板磨砂玻璃102和第三电子黑板磨砂玻璃103；液晶模组连接于第二基板212的正面；触控膜连接于第二电子黑板磨砂玻璃102的背面；第一电子黑板磨砂玻璃101安装于第一基板211的正面，第三电子黑板磨砂玻璃103安装于第三基板213的正面，第二电子黑板磨砂玻璃102以使触控膜面向并间隔于液晶模组的方式安装于第二基板212的正面。由此，有利于对电子黑板2进行生产和运输。

实施例三

本实施例提供一种用于制造电子黑板磨砂玻璃的磨砂玻璃制造方法，参照图4、图5和图7，该磨砂玻璃制造方法包括掩膜覆盖步骤S1、氢氟酸腐蚀步骤S2、以及钢化步骤S3；其中，掩膜覆盖步骤S1是指在平直玻璃4的正面上覆盖具有多个开孔的耐酸掩膜5；氢氟酸腐蚀步骤S2是指使用氢氟酸对覆盖有耐酸掩膜5的平直玻璃4的正面进行腐蚀，以在平直玻璃4的正面腐蚀出多个凹槽11，多个凹槽11占用平直玻璃4的正面的面积小于等于平直玻璃4的正面面积的10％，例如但不限于，使多个凹槽11占用平直玻璃4的正面的面积为平直玻璃4的正面面积的2％或4％或6％或8％或10％等；钢化步骤S3是指使用钢化炉对经过氢氟酸腐蚀的平直玻璃4进行钢化。

参照图6，在以上磨砂玻璃制造方法的可选实施方式中，掩膜覆盖步骤中使用的耐酸掩膜5包括多个单元膜50，各个单元膜50均为长方形或正方形，在各个单元膜50上的同一位置处均设置有一个镂空部501，镂空部501的面积小于等于单元膜50的面积的10％；镂空部501用于在使用氢氟酸对覆盖有耐酸掩膜5的平直玻璃4的正面进行腐蚀的步骤中透过氢氟酸，以在平直玻璃4上形成凹槽11。其中，耐酸掩膜5的单元膜50采用长方形或正方形有利于多个单元膜50之间相互拼合以铺满平直玻璃4的正面，以便于调整镂空部501占整个耐酸掩膜5的面积，具体地，例如但不限于如图5所示，使各个单元膜50均为边长L1为100μm的正方形，各个镂空部501为边长L2为20μm的正方形，多个单元膜50布满平直玻璃4，或者根据需要的比例设置单元膜50的边长和镂空部501的边长；在使用氢氟酸对覆盖有耐酸掩膜5的平直玻璃4的正面进行腐蚀的步骤中，平直玻璃4上与耐酸掩膜5的未开孔部位对应的区域不会被腐蚀，平直玻璃4上与被耐酸掩膜5的开孔部位对应的区域由于未被耐酸掩膜5覆盖，从而腐蚀出多个凹槽11。

继续参照图7，在以上磨砂玻璃制造方法的可选实施方式中，该磨砂玻璃制造方法还包括凹槽涂色步骤S4，凹槽涂色步骤S4是指在氢氟酸腐蚀步骤S2之后，或者在钢化步骤S3之后，在形成的凹槽11的内底壁上涂刷涂料12，较佳地，该凹槽涂色步骤S4的具体步骤可包括将带有颜色的涂料涂刷于耐酸掩膜5的背离平直玻璃4的一面，然后从平直玻璃4的正面除去耐酸掩膜5。

继续参照图7，在凹槽涂色步骤S4之后，即可进行包装发运步骤S5。

另外，在以上磨砂玻璃制造方法的可选实施方式中，在包装发运步骤S5之前，该磨砂玻璃制造方法还可以包括背面印刷步骤，该背面印刷步骤包括在平直玻璃4的背面印刷或贴覆深色涂层，以对电子黑板磨砂玻璃1进行背光处理，增加显示清晰度。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种电子黑板磨砂玻璃（1），其特征在于，在所述电子黑板磨砂玻璃（1）的正面设置有多个凹槽（11），多个所述凹槽（11）之间两两相互间隔，且所述电子黑板磨砂玻璃（1）的正面上位于相邻两个所述凹槽（11）之间的部位处于同一平面，多个所述凹槽（11）占用所述电子黑板磨砂玻璃（1）的正面的面积小于等于所述电子黑板磨砂玻璃（1）的正面面积的10%，以多个所述凹槽（11）的轮廓单峰平均间距为S，90μm≤S≤110μm。

2.根据权利要求1所述的电子黑板磨砂玻璃（1），其特征在于，以所述凹槽（11）的轮廓最大高度为Rz，以多个所述凹槽（11）的轮廓算术平均偏差为Ra，以多个所述凹槽（11）的轮廓微观不平度平均间距为Sm，则满足下述关系：0μm<Rz≤10μm；0.9μm≤Ra≤1.1μm；90μm≤Sm≤110μm。

3.根据权利要求1或2所述的电子黑板磨砂玻璃（1），其特征在于，在所述凹槽（11）的内底壁上涂设有涂料（12）。

4.一种电子黑板（2），其特征在于，包括基板（21）、液晶模组、触控膜和权利要求1至3中任一项所述的电子黑板磨砂玻璃（1）；

所述液晶模组连接于所述基板（21）的正面；所述触控膜连接于所述电子黑板磨砂玻璃（1）的背面；所述电子黑板磨砂玻璃（1）以使所述触控膜面向并间隔于所述液晶模组的方式安装于所述基板（21）的正面。

5.根据权利要求4所述的电子黑板（2），其特征在于，所述基板（21）包括依次拼接的第一基板（211）、第二基板（212）和第三基板（213）；所述电子黑板磨砂玻璃（1）包括依次拼接的第一电子黑板磨砂玻璃（101）、第二电子黑板磨砂玻璃（102）和第三电子黑板磨砂玻璃（103）；所述液晶模组连接于所述第二基板（212）的正面；所述触控膜连接于所述第二电子黑板磨砂玻璃（102）的背面；

所述第一电子黑板磨砂玻璃（101）安装于所述第一基板（211）的正面，所述第三电子黑板磨砂玻璃（103）安装于所述第三基板（213）的正面，所述第二电子黑板磨砂玻璃（102）以使所述触控膜面向并间隔于所述液晶模组的方式安装于所述第二基板（212）的正面。

6.一种磨砂玻璃制造方法，用于制造权利要求1所述的电子黑板磨砂玻璃，其特征在于，包括：

掩膜覆盖步骤（S1）：在平直玻璃（4）的正面上覆盖具有多个开孔的耐酸掩膜（5）；

氢氟酸腐蚀步骤（S2）：使用氢氟酸对覆盖有所述耐酸掩膜（5）的所述平直玻璃（4）的正面进行腐蚀，以在所述平直玻璃（4）的正面腐蚀出多个凹槽（11），多个所述凹槽（11）占用所述平直玻璃（4）的正面的面积小于等于所述平直玻璃（4）的正面面积的10%，以多个所述凹槽（11）的轮廓单峰平均间距为S，90μm≤S≤110μm；

以及钢化步骤（S3）：使用钢化炉对经过氢氟酸腐蚀的所述平直玻璃（4）进行钢化。

7.根据权利要求6所述的磨砂玻璃制造方法，其特征在于，所述掩膜覆盖步骤中，所述耐酸掩膜（5）包括多个单元膜（50），各个所述单元膜（50）均为长方形或正方形，在各个所述单元膜（50）上的同一位置处均设置有一个镂空部（501），所述镂空部（501）的面积小于等于所述单元膜（50）的面积的10%；所述镂空部（501）用于在使用氢氟酸对覆盖有所述耐酸掩膜（5）的所述平直玻璃（4）的正面进行腐蚀的步骤中透过所述氢氟酸，以在所述平直玻璃（4）上形成所述凹槽（11）。

8.根据权利要求6所述的磨砂玻璃制造方法，其特征在于，所述磨砂玻璃制造方法还包括凹槽涂色步骤（S4）：在所述氢氟酸腐蚀步骤（S2）之后，在所述凹槽（11）的内底壁上涂刷涂料（12）。

9.根据权利要求8所述的磨砂玻璃制造方法，其特征在于，所述凹槽涂色步骤（S4）包括：将带有颜色的涂料涂刷于所述耐酸掩膜（5）的背离所述平直玻璃（4）的一面，然后从所述平直玻璃（4）的正面除去所述耐酸掩膜（5）。

10.根据权利要求6所述的磨砂玻璃制造方法，其特征在于，所述磨砂玻璃制造方法还包括背面印刷步骤，所述背面印刷步骤包括在所述平直玻璃（4）的背面印刷或贴覆深色涂层。

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