CN111312924A - 显示基板及其制备方法、显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的双面显示面案制程复杂的问题。本发明的一种显示基板，包括：基底；设置于所述基底上的多个第一显示单元和第二显示单元；所述第一显示单元用于发出沿第一方向传播的光；所述第二显示单元用于发出沿第二方向传播的光；所述第一方向与所述第二方向相反。

Description

显示基板及其制备方法、显示面板

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

随着显示技术的快速发展，显示产品的种类也越来越多，例如双面显示产品、柔性显示产品等。目前业界所生产的双面显示装置通常是由两个单面显示面板对贴而成，例如一液晶显示面板与一有机电致发光显示面板对贴，或是两有机电致发光显示面板对贴。但是这种双面显示装置厚度会比较大，且制程比较复杂。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种较为轻薄，且双面显示效果较好的的显示基板。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，包括：

基底；

设置于所述基底上的多个第一显示单元和第二显示单元；

所述第一显示单元用于发出沿第一方向传播的光；所述第二显示单元用于发出沿第二方向传播的光；所述第一方向与所述第二方向相反。

优选的，所述第一显示单元包括OLED显示器件，和设置于所述OLED显示器件靠近所述基底一侧的第一反射图案；

所述第二显示单元包括OLED显示器件，和设置于所述OLED显示器件背离所述基底一侧的第二反射图案。

进一步优选的，所述第一显示单元还包括位于所述OLED显示器件背离所述基底一侧的反射材料抑制图案；所述反射材料抑制图案所在层位于所述第二反射图案所在层靠近所述基底的一侧，且与所述第二反射图案所在层相邻；所述反射材料抑制图案用于抑制第二反射图案的材料在所述基底上成膜。

优选的，第二反射图案的材料包括反射金属。

进一步优选的，所述第二反射图案的材料包括金属镁；

所述反射材料抑制图案的材料包括：聚四氟乙烯(PTFE)、硅或基于硅酮的聚合物，3-(4-联苯)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1，2，4-三唑(TAZ)、双(2-甲基-8-羟基喹啉对羟基(quninolinato))-4-联苯酚铝(III)(BAlq)、2-(4-(9，10-二(萘-2-基)蒽-2-基)苯基)-1-苯基-1H-苯并-[D]咪唑(LG201)、8-羟基喹啉锂(Liq)、N(联苯-4-基)9，9-二甲基-N-(4(9-苯基-9H-咔唑-3-基)苯基)-9H-芴-2-胺(HT211)中的至少一者。

优选的，第二反射图案的厚度包括500埃-1000埃。

优选的，所述基底包括柔性基底。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板的制备方法，包括：

在基底上形成第一反射图案；

在形成有第一反射图案的基底上形成多个OLED显示器件；

在形成有所述OLED显示器件的基底上形成第二反射图案；

其中，部分所述OLED显示器件与所述第一反射图案对应设置，部分所述OLED器件与所述第二反射图案对应设置。

优选的，在形成所述第二反射图案之前，还包括：

通过第一预设工艺在形成有OLED显示器件的基底上形成反射材料抑制图案，所述反射材料抑制图案位于对应所述第一反射图案的位置；所述反射材料抑制图案用于抑制第一反射图案的材料在所述基底上成膜；

形成所述第二反射图案的步骤包括：通过成膜工艺在形成有反射材料抑制图案的基底上形成反射材料层，以形成第一反射图案。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至7中任意一项所述的显示基板。

附图说明

图1为本发明的实施例的显示基板的结构示意图；

图2为本发明的实施例的显示基板的制备方法中形成第一反射结构的示意图；

图3为本发明的实施例的显示基板的制备方法中形成OLED显示器件的示意图；

其中附图标记为：1、基底；21、第一反射图案；22、第二反射图案；3、阳极；4、发光层；5、阴极；6、像素限定层；7、导电层；8、反射材料抑制图案。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

实施例1：

如图1所示，本实施例提供一种显示基板，该显示基板可实现双面显示。本实施例中，显示基板的双面显示指的是在显示基板的正反两侧(背离基底1的两个不同方向；如图1中向上和向下两个方向)均可实现显示功能。

本实施例提供的显示基板包括：基底1；设置于基底1上的多个第一显示单元和第二显示单元。其中，第一显示单元用于发出沿第一方向(如图1中向上方向)传播的光；第二显示单元用于发出沿第二方向(如图1中向下方向)传播的光；第一方向与第二方向相反。

具体的，如图1所示，本实施例中，第一显示单元和第二显示单元分别用于发出相反方向的光线，从而实现显示基板的双面显示。相对于现有技术将液晶显示面板与有机电致发光显示面板对贴形成的显示面板，基于本实施例提供的显示基板所形成的双面显示面板的厚度更薄，有助于实现显示面板的轻薄化。

进一步的，虽然现有技术中提出了在有机电致发光显示面板中，通过设置反射图案，使部分有机电致发光(OLED)显示器件从正面发光，部分OLED器件从反面发光，以实现双面显示。但是在该双面显示面板中，反射图案是设置在封装盖板上的。具体通过在封装盖板上对应部分OLED显示器件的位置设置反射图案，从而在封装盖板与OLED显示基板对盒后，实现OLED显示面板的双面显示。该种技术方案中，由于反射图案与OLED显示基板之间距离较远，用于不同处光方向的OLED显示器件所发出的光线会发生串扰，影响双面显示效果。同时，由于反射图案是依托设置在硬质封装盖板上的，该种OLED显示面板无法实现实现柔性显示。而本申请中的显示基板中的显示单元则是直接在显示基板上设置两种反射图案，无需再在封装盖板上设置反射图案，从而也无需设置硬质的封装盖板，进而有利于实现柔性显示。同时，本实施例提供的技术方案也避免了现有技术中反射图案与OLED显示器件有一定距离所造成的显示干扰的问题，能够提高显示基板的显示效果。

实施例2：

如图1所示，本实施例提供一种显示基板，可用于实现双面显示。本实施例中提供的显示基板包括：基底1；设置于基底1上的多个第一显示单元和第二显示单元。其中，第一显示单元用于发出沿第一方向传播的光；第二显示单元用于发出沿第二方向传播的光；第一方向与第二方向相反。

本实施例提供的显示基板中，第一显示单元和第二显示单元分别可以实现不同方向(第一方向和第二方向)的发光显示，以实现显示基板的双面显示。

优选的，本实施例中，第一显示单元和第二显示单元设置于基底1的同侧。同时，本实施例中以第一显示单元用于发出沿背离基底1方向(图1中向上方向)传播的光线，第二显示单元用于发出沿靠近基底1方向(图1中向下方向)传播的光。为了对本实施例提供的显示基板进行更为清楚、明了地说明，下面以OLED显示基板为例进行具体描述。

本实施例中，第一显示单元包括OLED显示器件，和设置于OLED显示器件靠近基底1一侧的第一反射图案21；第二显示单元包括OLED显示器件，和设置于OLED显示器件背离基底1一侧的第二反射图案22。

如图1所示，本实施例中的OLED显示器件用于实现显示功能。具体的，OLED显示器件可包括：阴极5、电子注入层、电子传输层、有机发光层4、空穴传输层、空穴注入层、阳极3等结构。其中，电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层为OLED显示器件的功能层，图中未示出。第一显示单元中，通过设置在OLED显示器件靠近基底1一侧的第一反射图案21，对OLED显示器件发出的光进行反射，使第一显示单元发出的光都沿背离基底1方向传播，实现显示基板的正面显示；第二显示单元中，通过设置在OLED显示器件背离基底1一侧的第二反射图案22，对OLED显示器件发出的光进行反射，使第二显示单元发出的光都朝向靠近基底1的方向传播，实现显示基板的反面显示，从而实现显示基板的双面显示。

优选的，第一显示单元中的OLED显示器件与第二显示单元中的OLED显示器件的各层结构(相同的结构)同层设置。可以理解的是，此处的同层设置是指第一显示单元与第二显示单元的OLED显示器件对应相同的层结构可以采用一次构图工艺形成，但是最终所形成的位置并不一定是直观视觉上的同层。

本实施例中，第一显示单元中的第一反射图案21可由反射金属材料构成。可以理解的是，第一显示单元中，OLED显示器件的阴极5与第一反射图案21可为一体结构，OLED显示器件的阴极5可为反射阴极5，同时实现电极和光线反射的功能。

优选的，第二显示单元中，第二反射图案22的材料包括反射金属。具体的，第二反射图案22可由镁等反射金属材料形成。

在此需要说明的是，本实施例中，第二反射图案22是直接设置在基底1上的。由于反射金属的材料原因，若直接在形成有OLED显示器件上方形成反射金属材料层，再通过刻蚀工艺形成所需的反射图案(也即第二反射图案22)，OLED显示器件的显示性能会被刻蚀工艺影响(这也是现有技术中需要将正面反射图案设置在封装盖板上的原因)。因此，优选的，本实施例中，第一显示单元还包括位于OLED显示器件背离基底1一侧的反射材料抑制图案8；反射材料抑制图案8所在层位于第二反射图案22所在层靠近基底1的一侧，且与第二反射图案22所在层相邻；反射材料抑制图案8用于抑制第二反射图案22的材料在基底1上成膜。

本实施中，反射材料抑制图案8与第一显示单元中的OLED显示器件一一对应。基于该种结构，后续在显示基板上形成第二反射图案22时，可直接形成反射材料层，在对应第一显示单元的区域则不会形成反射材料，从而直接形成图案化的反射材料层，也即可形成第二显示单元的第二反射图案22。因此，基于该种结构，可以使第二反射图案22直接形成在显示基板上，使显示基板能够实现双面显示功能。

优选的，当第二反射图案22的材料包括金属镁时，反射材料抑制图案8的材料可包括：聚四氟乙烯(PTFE)、硅或基于硅酮的聚合物，3-(4-联苯)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1，2，4-三唑(TAZ)、双(2-甲基-8-羟基喹啉对羟基(quninolinato))-4-联苯酚铝(III)(BAlq)、2-(4-(9，10-二(萘-2-基)蒽-2-基)苯基)-1-苯基-1H-苯并-[D]咪唑(LG201)、8-羟基喹啉锂(Liq)、N(联苯-4-基)9，9-二甲基-N-(4(9-苯基-9H-咔唑-3-基)苯基)-9H-芴-2-胺(HT211)中的至少一者。

本实施例中，为了对显示单元进行保护，特别是当显示基板为OLED显示基板时，对OLED显示器件进行保护，显示基板优选还包括设置在基底1上的封装层，其可直接形成在第二反射图案22所在层背上方(也即第二反射图案22背离基底1的一侧)。当然，也可通过封装盖板对显示基板进行封装，本实施例中对此不做限制。

优选的，本实施例中的基底1包括柔性基底1。本实施例中的显示基板可直接实现双面显示功能，而无需像现有技术一样，为了在封装盖板上设置反射图案而设置硬质的封装盖板。本实施例中的显示基板可直接在形成有第二反射图案22的基底1上设置形成封装层。同时，将基底1设置为柔性基底1，从而实现柔性显示基板的双面显示。

实施例3：

如图1至3所示，本实施例提供一种显示基板的制备方法，可用于制备实施例1或实施例2中提供的显示基板。本实施例所制备的显示基板包括第一显示单元和第二显示单元。其中，第一显示单元用于实现显示基板的正面显示，第二显示单元用于实现显示基板的背面显示。本实施例提供的制备方法可包括以下步骤：

S1、在基底1上形成第一反射图案21。

如图2所示，第一反射图案21为第一显示单元的结构，其位于第一显示单元所在的位置。具体的，本步骤中可通过采用溅射(Sputter)或物理气相沉积制作均匀厚度反射金属层，采用湿法或者干法刻蚀工艺去除第一显示单元所在区域外的反射金属，形成第一反射图案21。

优选的，本步骤中，在形成第一反射图案21之前，还可在基底1上制作像素驱动电路，并通过透明导电层7与像素驱动电路相连，每个透明导电层7单元对应一个像素单元(第一显示单元或者第二显示单元)。

S2、在形成有第一反射图案21的基底1上形成多个OLED显示器件。

如图3所示，多个OLED显示器件包括多个第一显示单元的OLED显示器件和多个第二显示单元的OLED显示器件。本步骤中，多个OLED显示器件的各对应相同结构可通过一次工艺形成，以简化制备工艺。

具体的，本步骤中，可采用溅射或物理气相沉积制作均匀厚度的导电薄膜，可选用ITO(In2O3:SnO2)、IZO(In2O3:ZnO)、GITO(Ga0.08In0.28Sn0.64O3)、ZITO(Zn0.64In0.88Sn0.66O3)等材料，形成厚度为5-50nm的膜层，之后采用湿法/干法刻蚀工艺除去显示单元(包括第一显示单元和第二显示单元)所在区域外其它部分阳极3导电薄膜，保留显示单元所在区域的阳极3导电薄膜。

本实施例中，第一反射图案21可与第一显示单元的OLED显示器件的阳极3为一体结构，以减薄显示基板的厚度。可以理解的是，当第一显示单元中的OLED显示器件的阳极3与第一反射图案21为一体结构时，其不可与第二显示单元中的OLED显示器件的阳极3通过一次工艺形成。第二显示单元中的OLED显示器件的阳极3应为透明阳极3。

在形成阳极3之后，可采用旋涂的工艺及构图工艺制备像素定义层，像素定义层优选聚酰亚胺等有机光交联聚合物材料。具体的，先整面旋涂该有机聚合物材料，之后采用构图工艺除去发光区的材料，露出发光区域，形成永固容纳发光层等结构的容纳部。

在形成像素限定层6之后，可采用真空蒸镀工艺制作OLED显示器件的各层结构，依次蒸镀OLED功能层、发光层4和阴极5。其中，OLED功能层通常包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子阻挡层(EBL)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)等；发光层4可包括红色发光层4、绿色发光层4、蓝色发光层4；第一显示单元的OLED显示器件的阴极5优选的半透明金属阴极5，其材料可为Mg、Ag、Al、Li、K、Ca等金属材料的一种，或上述金属材料的合金MgxAg(1-x)、LixAl(1-x)、LixCa(1-x)、LixAg(1-x)。

S3、在形成有OLED显示器件的基底1上形成第二反射图案22。

第二反射图案22与第二显示单元的OLED显示器件对应设置，用于将第二显示单元中的OLED显示器件发出的光线反设置至基底1，并从基底1射出，实现显示基板的背面显示。

优选的，本实施例中，在形成第二反射图案22之前，还包括：通过第一预设工艺在形成有OLED显示器件的基底1上形成反射材料抑制图案8，反射材料抑制图案8位于对应第一反射图案21的位置；反射材料抑制图案8用于抑制第一反射图案21的材料在基底1上成膜。具体的，可采用掩模版在正面显示区域蒸镀对反射金属(例如镁)具有成核抑制性的材料，从而形成反射材料抑制图案8。

形成第二反射图案22的步骤包括：通过成膜工艺在形成有反射材料抑制图案8的基底1上形成反射材料层，以形成第二反射图案22。具体的，在形成反射材料抑制图案8之后，可直接蒸镀反射金属，形成反射材料层，且厚度大约在500埃-1000埃，具有不透光特性。由于有在第一显示单元所在区域有成反射材料抑制图案8的存在，导致该区域无法蒸镀反射材料，从而不会遮挡第一显示单元的发光。

优选的，本实施例中还包括步骤S 4、在形成有第二反射图案22的基底1上形成光取出层，以提高OLED显示器件的出光效率。

实施例3：

本实施例提供一种显示面板，包括实施例1或2中提供的任意一种显示基板。

本实施例提供的显示面板中，由于包括实施例1提供的显示基板，故其具有较为轻薄，显示效果好，有利于实现柔性显示等效果。可以理解的是，该显示装置可以为手机、平板电脑、智能电视等具有显示功能的终端设备。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

基底；

设置于所述基底上的多个第一显示单元和第二显示单元；

所述第一显示单元用于发出沿第一方向传播的光；所述第二显示单元用于发出沿第二方向传播的光；所述第一方向与所述第二方向相反。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一显示单元包括OLED显示器件，和设置于所述OLED显示器件靠近所述基底一侧的第一反射图案；

所述第二显示单元包括OLED显示器件，和设置于所述OLED显示器件背离所述基底一侧的第二反射图案。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一显示单元还包括位于所述OLED显示器件背离所述基底一侧的反射材料抑制图案；所述反射材料抑制图案所在层位于所述第二反射图案所在层靠近所述基底的一侧，且与所述第二反射图案所在层相邻；所述反射材料抑制图案用于抑制第二反射图案的材料在所述基底上成膜。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，第二反射图案的材料包括反射金属。

5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第二反射图案的材料包括金属镁；

所述反射材料抑制图案的材料包括：聚四氟乙烯(PTFE)、硅或基于硅酮的聚合物，3-(4-联苯)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1，2，4-三唑(TAZ)、双(2-甲基-8-羟基喹啉对羟基(quninolinato))-4-联苯酚铝(III)(BAlq)、2-(4-(9，10-二(萘-2-基)蒽-2-基)苯基)-1-苯基-1H-苯并-[D]咪唑(LG201)、8-羟基喹啉锂(Liq)、N(联苯-4-基)9，9-二甲基-N-(4(9-苯基-9H-咔唑-3-基)苯基)-9H-芴-2-胺(HT211)中的至少一者。

6.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，第二反射图案的厚度包括500埃-1000埃。

7.根据权利要求的1所述的显示基板，其特征在于，所述基底包括柔性基底。

8.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成第一反射图案；

在形成有第一反射图案的基底上形成多个OLED显示器件；

在形成有所述OLED显示器件的基底上形成第二反射图案；

其中，部分所述OLED显示器件与所述第一反射图案对应设置，部分所述OLED器件与所述第二反射图案对应设置。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述第二反射图案之前，还包括：

通过第一预设工艺在形成有OLED显示器件的基底上形成反射材料抑制图案，所述反射材料抑制图案位于对应所述第一反射图案的位置；所述反射材料抑制图案用于抑制第一反射图案的材料在所述基底上成膜；

形成所述第二反射图案的步骤包括：通过成膜工艺在形成有反射材料抑制图案的基底上形成反射材料层，以形成第一反射图案。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至7中任意一项所述的显示基板。

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