CN111244070B - 一种显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示装置及其制作方法，包括显示区和非显示区，并具有开孔，所述开孔的边缘设置有金属走线；还包括设置在所述显示装置内的阻挡部，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。本发明实施例通过阻挡部切断了照射到AA孔边缘的金属走线上的光路，使得光线在显示装置的内部被消耗掉，避免发生AA孔边缘漏光的问题，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

Description

一种显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示装置及其制作方法。

背景技术

对于全面屏，绝大部分厂商都在追求更高的屏占比，以期给用户带来更好的视觉冲击，但摄像头及一些感应器件却限制着屏幕往更高的屏占比发展。

由于有效显示区(Active Area，简称AA区)的开孔结构设计，会发生侧视角漏光，导致影响摄像头的成像效果和屏幕外观问题。漏光路径如图1所示，由于AA区的电致发光层101发光时，激子发光的方向在三维空间是随机发射的，因此当发射角与垂直方向较大时，很大一部分光线会进入像素定义层102，而且由于阴极103的反射和/或薄膜封装层104的全反射波导效应，光线被困在面板内部，沿着水平方向传播。当传播到AA孔边缘的金属走线105时，会发生光线的反射。如图2所示，一方面，由于金属走线105与切割线之间存在一定距离，人眼就会看到这些从金属走线105表面反射出的光线，影响屏幕外观；另一方面，从金属走线105表面反射出的光线还会从孔的侧面射出，落到摄像头的收光区域，从而影响了摄像头的成像效果。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提出一种显示装置及其制作方法，以解决由于漏光而导致影响摄像头的成像效果和屏幕外观的问题。

基于上述目的，本发明实施例提供了一种显示装置，

包括显示区和非显示区，并具有开孔，所述开孔的边缘设置有金属走线；

还包括设置在所述显示装置内的阻挡部，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。

在本发明的一些实施例中，包括依次设置的像素定义层、电致发光层和第一电极层，以及第二电极层；所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；所述阻挡部用于阻挡在所述第一电极层和所述第二电极层的激发下，从所述电致发光层发出并照射到所述金属走线上的光线。

在本发明的一些实施例中，所述像素定义层开设有第一隔离槽，所述阻挡部设置在所述第一隔离槽内。

在本发明的一些实施例中，还包括设置在所述像素定义层的远离所述电致发光层一侧的平坦层；

所述平坦层和所述像素定义层上共同开设第二隔离槽，所述阻挡部设置在所述第二隔离槽内。

在本发明的一些实施例中，还包括设置在所述第一电极层的远离所述电致发光层一侧的盖板；所述阻挡部采用以下结构中的一种：

所述阻挡部包括所述电致发光层；

所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层；或者，

所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。

在本发明的一些实施例中，所述盖板在与所述第一隔离槽相对的表面上设置有第一凸起，所述第一凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第一隔离槽内；

所述盖板在与所述第二隔离槽相对的表面上设置有第二凸起，所述第二凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第二隔离槽内。

本发明实施例还提供了一种显示装置的制作方法，包括：

在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，开设开孔；

其中，所述显示装置包括显示区和非显示区，所述金属走线设置于所述开孔的边缘，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线的光线。

在本发明的一些实施例中，在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，包括：

在衬底基板上形成金属走线、开设有第一隔离槽的像素定义层，以及第二电极层；其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；

在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板，以及位于所述第一隔离槽内的阻挡部。

在本发明的一些实施例中，在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，包括：

在衬底基板上形成金属走线、共同开设有第二隔离槽的平坦层和像素定义层，以及第二电极层；其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；

在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板，以及位于所述第二隔离槽内的阻挡部。

在本发明的一些实施例中，所述阻挡部包括所述电致发光层，所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层，或者，所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。

从上面所述可以看出，本发明提供的显示装置及其制作方法通过阻挡部切断了照射到AA孔边缘的金属走线上的光路，使得光线在显示装置的内部被消耗掉，避免发生AA孔边缘漏光的问题，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中显示装置的漏光路径示意图；

图2为现有技术中显示装置的AA孔的结构示意图；

图3为本发明一个实施例的显示装置的结构示意图；

图4为本发明另一个实施例的显示装置的结构示意图；

图5为本发明又一个实施例的显示装置的结构示意图

图6为本发明一个实施例的显示装置的俯视图；

图7为本发明又一个实施例的显示装置的俯视图；

图8为本发明一个实施例的显示装置的制作方法的流程图；

图9为本发明另一个实施例的显示装置的制作方法的流程图。

具体实施方式

使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。

需要说明的是，除非另外定义，本发明实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

在本发明实施例中，所述显示装置包括显示区和非显示区，并且所述显示装置具有开孔，所述开孔的边缘设置有金属走线；其中，所述显示装置还包括设置在所述显示装置内的阻挡部，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。本发明实施例通过阻挡部切断了照射到AA孔边缘的金属走线上的光路，使得光线在显示装置的内部被消耗掉，避免发生AA孔边缘漏光的问题，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

在本发明的实施例中，所述显示装置可以是全面屏显示装置，所述非显示区位于所述显示区的内部。可选地，所述非显示区也可以位于所述显示区的外侧，本发明实施例对显示区和非显示区的位置不作限制。

图3为本发明一个实施例的显示装置的结构示意图。如图3所示，所述显示装置包括依次设置像素定义层2、电致发光层3和第一电极层4，以及第二电极层6，其中，所述像素定义层2具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层6位于所述开口区内。在该实施例中，所述阻挡部8用于阻挡在所述第一电极层4和所述第二电极层6的激发下，从所述电致发光层3发出并照射到所述金属走线105上的光线。本发明实施例提供的显示装置在电致发光层3到金属走线105的光路上设置阻挡部8，切断了从电致发光层3到AA孔边缘的金属走线105的光路，使得光线在显示装置的内部被消耗掉，避免发生AA孔边缘漏光的问题，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

可选地，如图3所示，所述像素定义层3开设有第一隔离槽7，所述阻挡部8设置在所述第一隔离槽7内，以将所述阻挡部8设置在所述显示装置内，用于阻挡从所述电致发光层3发出并照射到所述金属走线105上的光线，使得光线在显示装置的内部被消耗掉。

在本发明的另一个实施例中，如图4-5所示，所述显示装置还包括设置在所述像素定义层2的远离所述电致发光层3一侧的平坦层1；其中，所述平坦层1和所述像素定义层2上共同开设第二隔离槽9，所述阻挡部8设置在所述第二隔离槽9内。可以看出，第二隔离槽9的深度大于第一隔离槽7的深度，因此设置在第二隔离槽9内的阻挡部8的高度大于设置在第一隔离槽7内的阻挡部8的高度，这样可以增加阻挡部8的反射面积，从而将原本要反射到AA孔边缘的金属走线105的光线在显示装置的内部消耗掉，避免发生AA孔边缘漏光的问题。

可选地，如图3-5所示，所述第一隔离槽7和/或所述第二隔离槽9垂直于所述显示装置的表面，以提高所述阻挡部8的反射效果，使得原本要反射到AA孔边缘的金属走线105的光线在显示装置的内部尽可能地被消耗掉，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

需要指出的是，所述像素定义层2可以开设有一个或者多个第一隔离槽7，所述平坦层1和像素定义层2可以共同开设有一个或者多个第二隔离槽9。而且，所述显示装置内可以只开设第一隔离槽7，也可以只开设第二隔离槽9，还可以既开设第一隔离槽7也开设第二隔离槽9，本发明实施例对此不作限制。

可选地，如图3-5所示，所述显示装置还包括设置在所述第一电极层4的远离所述电致发光层3一侧的盖板5；所述阻挡部8采用以下结构中的一种：所述阻挡部8包括所述电致发光层3a；所述阻挡部8包括所述电致发光层3a和所述第一电极层4a；或者，所述阻挡部8包括所述电致发光层3a、所述第一电极层4a和所述盖板5a。需要指出的是，阻挡部8的高度与第一隔离槽7、第二隔离槽9的深度有直接关系。通常地，隔离槽的深度较大，那么阻挡部8包括所述电致发光层3、所述第一电极层4和所述盖板5，隔离槽的深度越小，阻挡部8包括所述电致发光层3。本发明实施例以电致发光层3，电致发光层3和第一电极层4，或者，电致发光层3、第一电极层4和盖板5作为阻挡部，这样就不需要单独制作阻挡部，不需要新增曝光(mask)，因此不需要改变原有工艺。

可选地，如图3-5所示，所述盖板5在与所述第一隔离槽7相对的表面上设置有第一凸起，所述第一凸起将所述电致发光层3和所述第一电极层4嵌入在所述第一隔离槽7内；所述盖板5在与所述第二隔离槽9相对的表面上设置有第二凸起，所述第二凸起将所述电致发光层3和所述第一电极层4嵌入在所述第二隔离槽9内。本发明实施例通过在所述盖板5的表面设置凸起，以将凸起下方的电致发光层3和第一电极层4牢固地固定在第一隔离槽7和第二隔离槽9内。

在本发明的再一个实施例中，如图3-6所示，所述盖板5包括显示区(AA区)和非显示区(包括开设在AA区内的AA孔和孔边缘)；所述第一隔离槽7和第二隔离槽9在所述盖板5上的投影均位于所述非显示区内，因此阻挡部8在所述盖板5上的投影也位于所述非显示区内，这样使得原本要反射到AA孔边缘的金属走线105的光线在显示装置的内部尽可能地被消耗掉，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。可选地，隔离槽(第一隔离槽7或者第二隔离槽9)设置在所述金属走线105与所述显示区(即AA区)之间，这样使得原本要反射到AA孔边缘的金属走线105的光线在显示装置的内部被消耗掉，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

在本发明的再一个实施例中，如图7所示，所述显示装置还包括隔离柱，所述隔离柱用于将所述非显示区域的电致发光层3断开；隔离槽(第一隔离槽7或者第二隔离槽9)设置在所述隔离柱与所述显示区之间，这样使得原本要反射到AA孔边缘的金属走线105的光线在显示装置的内部被消耗掉，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

本发明还提供了一种显示装置的制作方法，包括：在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，开设开孔；其中，所述显示装置包括显示区和非显示区，所述金属走线设置于所述开孔的边缘，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线的光线。

可选地，在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，包括：在衬底基板上形成金属走线、开设有第一隔离槽的像素定义层，以及第二电极层；其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板，以及位于所述第一隔离槽内的阻挡部。

可选地，在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，包括：在衬底基板上形成金属走线、共同开设有第二隔离槽的平坦层和像素定义层，以及第二电极层；其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板，以及位于所述第二隔离槽内的阻挡部。

作为本发明的一个实施例，如图8所示，所述显示装置的制作方法包括以下步骤：

步骤801，在衬底基板上形成平坦层。

步骤802，在所述平坦层上形成金属走线、开设有第一隔离槽的像素定义层，以及第二电极层。其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内。

该实施例中，平坦层上可以不开设隔离槽，而是在像素定义层上开设隔离槽(即第一隔离槽)，然后在所述像素定义层的开口区内制作第二电极层(比如阳极)。

步骤803，在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板以及位于所述第一隔离槽内的阻挡部。

由于在像素定义层上开设了第一隔离槽，因此在像素定义层上形成电致发光层、第一电极层(比如阴极)和盖板时，同时在第一隔离槽内形成了阻挡部。其中，所述阻挡部包括所述电致发光层，所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层，或者，所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。

需要指出的是，阻挡部的高度与第一隔离槽的深度有直接关系。通常地，隔离槽的深度较大，那么阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板，隔离槽的深度越小，阻挡部包括所述电致发光层。本发明实施例以电致发光层，电致发光层和第一电极层，或者，电致发光层、第一电极层和盖板作为阻挡部，这样就不需要单独制作阻挡部，不需要新增mask，因此不需要改变原有工艺。

步骤804，在平坦层、像素定义层、电致发光层和第一电极层上共同开设开孔。

步骤805，将盖板盖合在贴合在第一电极层上。

作为本发明的另一个实施例，如图9所示，所述显示装置的制作方法包括以下步骤：

步骤901，在衬底基板上形成开设有第一凹槽的平坦层。

步骤902，在所述平坦层上形成金属走线、开设有第二凹槽的像素定义层，以及第二电极层。其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；所述第一凹槽与所述第二凹槽相互连通，共同形成第二隔离槽。

该实施例中，平坦层和像素定义层上均开设第二隔离槽，然后在所述像素定义层的开口区内制作第二电极层(比如阳极)。

步骤903，在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板以及位于所述第二隔离槽内的阻挡部。

由于在平坦层和像素定义层上共同开设了第二隔离槽，因此在像素定义层上形成电致发光层、第一电极层(比如阴极)和盖板时，在第二隔离槽内形成了阻挡部。其中，所述阻挡部包括所述电致发光层，所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层，或者，所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。

需要指出的是，阻挡部的高度与第二隔离槽的深度有直接关系。通常地，隔离槽的深度较大，那么阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板，隔离槽的深度越小，阻挡部包括所述电致发光层。本发明实施例以电致发光层，电致发光层和第一电极层，或者，电致发光层、第一电极层和盖板作为阻挡部，这样就不需要单独制作阻挡部，不需要新增mask，因此不需要改变原有工艺。

步骤904，在平坦层、像素定义层、电致发光层和第一电极层上共同开设开孔。

步骤905，将盖板盖合在贴合在第一电极层上。

本发明提供的显示装置的制作方法通过在电致发光层到金属走线的光路上设置阻挡部，切断了从电致发光层到AA孔边缘的金属走线的光路，使得光线在显示装置的内部被消耗掉，避免发生AA孔边缘漏光的问题，从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本发明的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，步骤可以以任意顺序实现，并存在如上所述的本发明的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。

本发明的实施例旨在涵盖落入所附权利要求的宽泛范围之内的所有这样的替换、修改和变型。因此，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示装置，其特征在于，包括显示区和非显示区，并具有开孔，所述开孔的边缘设置有金属走线；

还包括设置在所述显示装置内的阻挡部，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线上的光线；

所述装置包括依次设置的像素定义层、电致发光层和第一电极层，以及第二电极层；

所述阻挡部采用以下结构中的一种：

所述阻挡部包括所述电致发光层；

所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；所述阻挡部用于阻挡在所述第一电极层和所述第二电极层的激发下，从所述电致发光层发出并照射到所述金属走线上的光线。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述像素定义层开设有第一隔离槽，所述阻挡部设置在所述第一隔离槽内。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，还包括设置在所述像素定义层的远离所述电致发光层一侧的平坦层；

所述平坦层和所述像素定义层上共同开设第二隔离槽，所述阻挡部设置在所述第二隔离槽内。

5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，还包括设置在所述第一电极层的远离所述电致发光层一侧的盖板；

所述阻挡部采用以下结构：

所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述盖板在与所述第一隔离槽相对的表面上设置有第一凸起，所述第一凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第一隔离槽内；

所述盖板在与所述第二隔离槽相对的表面上设置有第二凸起，所述第二凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第二隔离槽内。

7.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，开设开孔；

其中，所述显示装置包括显示区和非显示区，所述金属走线设置于所述开孔的边缘，所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内，用于阻挡照射到所述金属走线的光线；

所述显示装置还包括依次设置的像素定义层、电致发光层和第一电极层，以及第二电极层；

所述阻挡部采用以下结构中的一种：

所述阻挡部包括所述电致发光层；

所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层。

8.根据权利要求7所述的显示装置的制作方法，其特征在于，在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，包括：

在衬底基板上形成金属走线、开设有第一隔离槽的像素定义层，以及第二电极层；其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；

在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板，以及位于所述第一隔离槽内的阻挡部。

9.根据权利要求7所述的显示装置的制作方法，其特征在于，在衬底基板上形成阻挡部和金属走线，包括：

在衬底基板上形成金属走线、共同开设有第二隔离槽的平坦层和像素定义层，以及第二电极层；其中，所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区，所述第二电极层位于所述开口区内；

在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板，以及位于所述第二隔离槽内的阻挡部。

10.根据权利要求8或9所述的显示装置的制作方法，其特征在于，所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。

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