CN111224200A - 一种容性耦合结构和介质滤波器 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种容性耦合结构和介质滤波器，其中容性耦合结构包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；金属盲孔和金属通孔连接，且金属盲孔和金属通孔并列设置；金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且隔离圈的形状配合于金属通孔的形状。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

Description

一种容性耦合结构和介质滤波器

技术领域

本申请涉及通信技术领域，尤其涉及一种容性耦合结构和介质滤波器。

背景技术

随着通信技术的发展，尤其是5G时代的到来，对通信系统架构提出了更高的要求，系统模块要做到高度集成化、小型化等，介质滤波器因具有低损耗、峰值功率大、小型化等特点，在5G通信设备中具有广泛的应用前景。

为了提高介质滤波器的性能，通常采用耦合结构，其中容性耦合为常用的耦合结构。现有的容性耦合方式为图案耦合，通过在两谐振腔之间加图案开窗，图案开在腔的边缘位置，通过改变图案大小即两腔之间的窗口大小及到边缘的距离来调节耦合，这种方式虽然结构灵活，但是加工复杂。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种容性耦合结构和介质滤波器，解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

本申请第一方面提供了一种介质滤波器，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；

所述金属盲孔和所述金属通孔连接，且所述金属盲孔和所述金属通孔并列设置；

所述金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且所述隔离圈的形状配合于所述金属通孔的形状。

可选地，

所述隔离圈为非金属隔离圈。

可选地，

所述隔离圈位于所述金属通孔的底部。

可选地，

所述隔离圈位于所述金属通孔的二分之一处。

可选地，

所述金属盲孔的形状为规则形状。

可选地，

所述金属盲孔的形状为矩形。

可选地，

所述金属通孔的形状为规则形状。

可选地，

所述金属的形状为矩形。

本申请第二方面提供了一种介质滤波器，包括如第一方面所述的容性耦合结构。

可选地，

所述介质滤波器的谐振腔的数量为4个；

4个所述谐振腔呈矩形的四个顶点分布。

从以上技术方案可以看出，本申请具有以下优点：

本申请中容性耦合结构，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；金属盲孔和金属通孔连接，且金属盲孔和金属通孔并列设置；金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且隔离圈的形状配合于金属通孔的形状。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

附图说明

图1为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种介质滤波器的结构示意图；

其中，附图标记如下：

104、金属盲孔；105、金属通孔；106、隔离圈；101、谐振腔；103、容性耦合结构。

具体实施方式

本申请实施例提供了一种容性耦合结构和介质滤波器，解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

下面将结合附图对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请实施例中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请实施例保护的范围。

在本申请实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本申请实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可更换连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。

本申请实施例提供一种容性耦合结构的第一实施例，具体请参阅图1。

本实施例中的容性耦合结构，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔104和金属通孔105；金属盲孔104和金属通孔105连接，且金属盲孔104和金属通孔105并列设置；金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状。

本实施例中的容性耦合结构由金属盲孔104和金属通孔105构成，其中金属盲孔104和金属通孔105连接，且并列设置，此时的金属盲孔104和金属通孔105并列设置，呈类似于台阶的分布。

本实施例中的容性耦合结构适用于同块之间的耦合，故此时没有产品的结合，同时容性耦合结构也可以直接一次加工完毕，不再需要将异块上的图案开窗进行拼合等操作，加工简单。

由于介质滤波器的底面通常涂覆有金属层，且金属通孔105是从顶面至底面贯穿介质滤波器的，这样底面涂覆的金属层和金属通孔105内的金属层会连接，此时会衰减2个谐振腔之间的耦合强度，故本实施例中，设置隔离圈106，用于隔离上面描述的两个金属层，使金属通孔105产生容性耦合，提升容性耦合结构的耦合性能。

隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状，例如：即当金属通孔105的形状为矩形时，隔离圈106的形状也为矩形。可以理解的是，本实施例中的形状指的是对金属通孔105进行横向切面(即横截面)，得到的横向剖视图的图形。

金属盲孔104和金属通孔105内中涂覆的金属层可以为银，现有的介质滤波器的加工工艺中被银工艺和孔加工工艺成熟，可以有效保障产品合格率和性能稳定性。

本实施例中的容性耦合结构由金属盲孔104和金属通孔105组成，其中金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且该隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状，现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

以上为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的实施例一，以下为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的实施例二，具体请参阅图1。

本实施例中的容性耦合结构，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔104和金属通孔105；金属盲孔104和金属通孔105连接，且金属盲孔104和金属通孔105并列设置；金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状。

可以理解的是，金属盲孔104和金属通孔105的分布可以是，金属盲孔104在靠近介质滤波器中心的位置处，当然也可以设置金属通孔105在靠近介质滤波器的中心位置处，具体的设置本领域技术人员可以根据实际需要选择，在此不再赘述。

可以理解的是，本实施例中隔离圈106可以是多种结构，包括但不限于非金属隔离圈106。

具体地，隔离圈106的设置位置可以是任意地，例如可以是金属通孔105的中部位置，即二分之一处，也可以是金属通孔105的底部，本领域技术人员在设置时，可以根据需要进行灵活选择，本实施例中不做赘述。

具体地，金属盲孔104和金属通孔105的形状可以是多种多样的，例如是规则形状或者不规则形状的。可以理解的是，规则形状为有规律有特征的形状，不规则形状为没有规律没有特征的形状。例如规则形状可以是圆形、椭圆形或矩形等，不规则形状的可以是例如矩形和椭圆形的结合的任意形状、圆形或椭圆形的结合的任意形状。本领域技术人员可以根据加工场景和产品设计灵活选择金属盲孔104和金属通孔105的形状，在此不再赘述。

本实施例中金属盲孔104和金属通孔105的大小并不做要求，可以设置二者的横截面等大，也可以设置为非等大的，即一大一小，具体设置本领域技术人员可以根据需要进行选择，在此不做具体限定。

可以理解的是，由于金属盲孔104的孔深可以调节，即可以通过调节本实施例中的金属盲孔104的孔深减小谐振腔101之间的耦合强度，例如当增加金属盲孔104的孔深减小耦合强度，减小金属盲孔104的孔深增加谐振腔101之间的耦合强度。

金属盲孔104的横截面的大小可以影响谐振腔101之间的耦合强度，例如增大金属盲孔104横截面增加谐振腔101之间的耦合强度，减小金属盲孔104的横截面减小谐振腔101之间的耦合强度。金属通孔105的横截面的大小同样可以影响谐振腔101之间的耦合强度，其对应的关系与金属盲孔104和耦合强度之间的关系相反，具体可以参见上述描述，在此不再赘述。

本实施例中的容性耦合结构由金属盲孔104和金属通孔105组成，其中金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且该隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状，现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

以上为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的实施例二，以下为本申请实施例提供的一种介质滤波器的实施例，具体请参阅图2。

本实施例中的介质滤波器包括前面任一实施例中所描述的容性耦合结构103。

具体地，本实施例中的介质滤波器包括4个谐振腔101，这4个谐振腔101呈矩形的4个顶点分布。可以理解的是的，上述谐振腔101的数量仅仅是一个示意性说明，本领域技术人员可以根据需要设置为5个、6个或更多，谐振腔101不同数量时，谐振腔101的分布同样可以根据需要进行设置，在此不再一一赘述。

本实施例中容性耦合结构的数量为一个，该容性耦合结构103可以设置在矩形某一条边的中点处，即在相邻的两个谐振腔101的中点处。

本实施例中的容性耦合结构由金属盲孔104和金属通孔105组成，其中金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且该隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状，现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

以上所述，以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种容性耦合结构，其特征在于，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；

所述金属盲孔和所述金属通孔连接，且所述金属盲孔和所述金属通孔并列设置；

所述金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且所述隔离圈的形状配合于所述金属通孔的形状。

2.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述隔离圈为非金属隔离圈。

3.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述隔离圈位于所述金属通孔的底部。

4.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述隔离圈位于所述金属通孔的二分之一处。

5.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述金属盲孔的形状为规则形状。

6.根据权利要求5所述的容性耦合结构，其特征在于，所述金属盲孔的形状为矩形。

7.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述金属通孔的形状为规则形状。

8.根据权利要求7所述的容性耦合结构，其特征在于，所述金属的形状为矩形。

9.一种介质滤波器，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的容性耦合结构。

10.根据权利要求9所述的介质滤波器，其特征在于，所述介质滤波器的谐振腔的数量为4个；

4个所述谐振腔呈矩形的四个顶点分布。

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