CN111152347A - 一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备 - Google Patents

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CN111152347A CN202010031864.5A CN202010031864A CN111152347A CN 111152347 A CN111152347 A CN 111152347A CN 202010031864 A CN202010031864 A CN 202010031864A CN 111152347 A CN111152347 A CN 111152347A
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Abstract

本发明公开了一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其结构包括：底杆撑架、机箱壳体、提拉柱板块、等离子棉浸槽、观察窗、排渣漏斗槽、载物槽，本发明实现了运用等离子棉浸槽与排渣漏斗槽相配合，通过在陶瓷施釉前的密封处理箱中将加工成型且粘结坯粉的陶瓷体放入后，通过电极板盘座形成等离子电流的横向击穿效果，从而来运用衔铁架杆吸附带静电离子的坯粉，保障衔铁架杆不接触陶瓷表面且形成磁引清洁刷洗陶瓷表面效果，让坯粉脱落进入排渣漏斗槽后，再用浸弯杆受淋釉漆进行上下滑刷，保障施釉前去坯粉和迅速去除坯粉后抗干扰上漆一体化操作，提升整体内槽的陶瓷加工工艺严密度，保障无尘干扰，且提升陶瓷釉面光面和平整度。

Description

一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备
技术领域
本发明是一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，属于陶瓷加工领域。
背景技术
陶瓷施釉前的表面处理设备常用研磨砂轮和毛刷进行打磨抛光和清扫粉尘操作，使陶瓷加工的机械联动性高，流水线上逐个加工环节分配精细，保障陶瓷前期坯胎压铸成型和后期施釉上色都十分灵活便捷，目前技术公用的待优化的缺点有：
陶瓷施釉前的坯粉是由于制配过程脱落的二氧化硅粉体，这会造成施釉后覆盖的油漆面会包夹部分坯粉，使陶瓷的表面平整度掺杂凹凸不平的粉末颗粒，让人触碰后手感粗糙，没有上釉后陶瓷的平滑感，且陶瓷加工后的坯粉静电附着程度高，普通刷体难以清洁扫落，这会给陶瓷施釉前的加工处理造成繁琐的清洁操作，导致陶瓷表面粗加工和精加工的质量一般，成品的成色和加工效率低下，影响釉面的反光和弧面光滑感。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明目的是提供一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，以解决陶瓷施釉前的坯粉是由于制配过程脱落的二氧化硅粉体，这会造成施釉后覆盖的油漆面会包夹部分坯粉，使陶瓷的表面平整度掺杂凹凸不平的粉末颗粒，让人触碰后手感粗糙，没有上釉后陶瓷的平滑感，且陶瓷加工后的坯粉静电附着程度高，普通刷体难以清洁扫落，这会给陶瓷施釉前的加工处理造成繁琐的清洁操作，导致陶瓷表面粗加工和精加工的质量一般，成品的成色和加工效率低下，影响釉面的反光和弧面光滑感的问题。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其结构包括：底杆撑架、机箱壳体、提拉柱板块、等离子棉浸槽、观察窗、排渣漏斗槽、载物槽，所述等离子棉浸槽安装于机箱壳体的内部，所述载物槽嵌套于排渣漏斗槽的底部下，所述观察窗紧贴于等离子棉浸槽的前侧，所述排渣漏斗槽嵌套于等离子棉浸槽的底部下并且相互贯通，所述提拉柱板块安装于机箱壳体的顶部上，所述底杆撑架焊接在机箱壳体的底部下，所述提拉柱板块与等离子棉浸槽机械连接，所述载物槽与底杆撑架紧贴在一起，所述等离子棉浸槽设有通风槽口、电极板盘座、衔铁架杆、棉浸弯杆、施釉喷射器、吊转连杆架、顶格槽、密封处理箱，所述通风槽口嵌套于密封处理箱的左侧，所述顶格槽紧贴于密封处理箱的顶部上，所述电极板盘座与衔铁架杆电连接，所述棉浸弯杆插嵌在电极板盘座轴心的顶部上，所述施釉喷射器嵌套于吊转连杆架的底部下，所述吊转连杆架安装于顶格槽的内部，所述电极板盘座安设在密封处理箱的内部，所述密封处理箱安装于机箱壳体的内部。
为优化上述技术方案，进一步采取的措施为：
作为本发明的进一步改进，所述电极板盘座由电极弯弧板、碳刷架盘座组成，所述电极弯弧板安装于碳刷架盘座的顶部上并且相互垂直，所述电极弯弧板与碳刷架盘座机械连接。
作为本发明的进一步改进，所述电极弯弧板由弧扣槽、弯弧板块、晶闸块、滑块体组成，所述弧扣槽与弯弧板块为一体结构并且处于同一弧面上，所述晶闸块设有两个以上并且均插嵌在弯弧板块的内部，所述滑块体嵌套于弯弧板块的底部下。
作为本发明的进一步改进，所述碳刷架盘座由碳刷架板、轮盘厚垫、减速撑架块、联轴摆杆组成，所述碳刷架板与轮盘厚垫机械连接并且轴心共线，所述碳刷架板与联轴摆杆扣合在一起并且处于同一竖直面上，所述轮盘厚垫与减速撑架块采用过盈配合。
作为本发明的进一步改进，所述衔铁架杆由衔铁块、桁架杆组成，所述衔铁块与桁架杆活动连接并且轴心共线，所述衔铁块安装于桁架杆的中段上并且处于同一水平线上。
作为本发明的进一步改进，所述衔铁块由凹型槽、铁芯杆、磁铁条、锁扣块组成，所述铁芯杆插嵌在凹型槽的内部，所述铁芯杆通过锁扣块与磁铁条扣合在一起并且处于同一竖直面上，所述磁铁条与锁扣块机械连接并且轴心共线。
作为本发明的进一步改进，所述棉浸弯杆由棉芯弧块、蛇形弯杆组成，所述棉芯弧块与蛇形弯杆采用间隙配合，所述棉芯弧块安装于蛇形弯杆的前侧。
作为本发明的进一步改进，所述棉芯弧块由吸水孔、棉芯板块、施釉漆管、侧棉条组成，所述吸水孔安装于棉芯板块的内部，所述施釉漆管插嵌在侧棉条的内部，所述侧棉条设有两个并且分别紧贴于棉芯板块的左右两侧。
作为本发明的进一步改进，所述弧扣槽为左右尖窄中间宽厚且呈月牙状的扣槽结构，方便对衔铁的轨道杆件进行对撑锁扣效果，保障水平位移的平衡量稳定。
作为本发明的进一步改进，所述碳刷架板为扇板厚弯条状带厚框环的碳刷板结构，方便四分之一圆面进行间歇式交替滑刷操作，持续保障电极板的对位等离子电流击穿效果。
作为本发明的进一步改进，所述锁扣块为左右带凸嵌件中间带轴杆槽的方形扣块结构，方便左右插嵌榫件铁杆，然后中段插接磁条环绕旋转形成磁引吸附静电粒子的作用。
作为本发明的进一步改进，所述棉芯板块为后侧窄长方弧板前端宽厚弧面的扇瓣块结构，方便整体棉芯的压覆吸收釉漆作用，提高施釉的高低位均匀扫刷操作效果。
有益效果
本发明一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，工作人员通过底杆撑架插接机箱壳体固定排渣漏斗槽与载物槽让整个机体设备形成架设稳定性，再通过提拉柱板块提升托台放置加工陶瓷品进入等离子棉浸槽与观察窗内，通过通风槽口与顶格槽压扣密封处理箱形成内环境风冷循环效果，再通过电极板盘座的电极弯弧板在碳刷架盘座上通电回转滑动，形成弧扣槽与弯弧板块在晶闸块的放电作用下对滑块体形成椭球电磁场的推送环绕操作效果，再通过碳刷架板在轮盘厚垫内配合减速撑架块顶撑联轴摆杆滑刷，形成电磁场底座的稳定，防游离电子逃逸，然后通过衔铁架杆的衔铁块在桁架杆上受到击穿对位电极板磁场的牵引，形成凹型槽内的铁芯杆通过磁铁条环绕锁扣块磁感形成增幅电磁场吸附陶瓷加工时产生的坯粉静电颗粒，保障后期吊转连杆架带动施釉喷射器喷淋棉浸弯杆施釉时，陶瓷加工的成品成色高且品质感极佳，提升整体弧面平整度和光滑度，保障陶瓷施釉前的表面处理精细效果。
本发明操作后可达到的优点有：
运用等离子棉浸槽与排渣漏斗槽相配合，通过在陶瓷施釉前的密封处理箱中将加工成型且粘结坯粉的陶瓷体放入后，通过电极板盘座形成等离子电流的横向击穿效果，从而来运用衔铁架杆吸附带静电离子的坯粉，保障衔铁架杆不接触陶瓷表面且形成磁引清洁刷洗陶瓷表面效果，让坯粉脱落进入排渣漏斗槽后，再用浸弯杆受淋釉漆进行上下滑刷，保障施釉前去坯粉和迅速去除坯粉后抗干扰上漆一体化操作，提升整体内槽的陶瓷加工工艺严密度，保障无尘干扰，且提升陶瓷釉面光面和平整度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中的附图作详细地介绍，以此让本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备的结构示意图。
图2为本发明等离子棉浸槽详细的侧剖结构示意图。
图3为本发明电极板盘座、衔铁架杆、棉浸弯杆工作状态的侧视结构示意图。
图4为本发明电极弯弧板工作状态的俯视结构示意图。
图5为本发明碳刷架盘座工作状态的俯瞰结构示意图。
图6为本发明衔铁块工作状态的剖视结构示意图。
图7为本发明棉芯弧块工作状态的剖面结构示意图。
附图标记说明：底杆撑架-1、机箱壳体-2、提拉柱板块-3、等离子棉浸槽-4、观察窗-5、排渣漏斗槽-6、载物槽-7、通风槽口-4A、电极板盘座-4B、衔铁架杆-4C、棉浸弯杆-4D、施釉喷射器-4E、吊转连杆架-4F、顶格槽-4G、密封处理箱-4H、电极弯弧板-4B1、碳刷架盘座-4B2、弧扣槽-4B11、弯弧板块-4B12、晶闸块-4B13、滑块体-4B14、碳刷架板-4B21、轮盘厚垫-4B22、减速撑架块-4B23、联轴摆杆-4B24、衔铁块-4C1、桁架杆-4C2、凹型槽-4C11、铁芯杆-4C12、磁铁条-4C13、锁扣块-4C14、棉芯弧块-4D1、蛇形弯杆-4D2、吸水孔-4D11、棉芯板块-4D12、施釉漆管-4D13、侧棉条-4D14。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
实施例一：
请参阅图1-图7，本发明提供一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其结构包括：底杆撑架1、机箱壳体2、提拉柱板块3、等离子棉浸槽4、观察窗5、排渣漏斗槽6、载物槽7，所述等离子棉浸槽4安装于机箱壳体2的内部，所述载物槽7嵌套于排渣漏斗槽6的底部下，所述观察窗5紧贴于等离子棉浸槽4的前侧，所述排渣漏斗槽6嵌套于等离子棉浸槽4的底部下并且相互贯通，所述提拉柱板块3安装于机箱壳体2的顶部上，所述底杆撑架1焊接在机箱壳体2的底部下，所述提拉柱板块3与等离子棉浸槽4机械连接，所述载物槽7与底杆撑架1紧贴在一起，所述等离子棉浸槽4设有通风槽口4A、电极板盘座4B、衔铁架杆4C、棉浸弯杆4D、施釉喷射器4E、吊转连杆架4F、顶格槽4G、密封处理箱4H，所述通风槽口4A嵌套于密封处理箱4H的左侧，所述顶格槽4G紧贴于密封处理箱4H的顶部上，所述电极板盘座4B与衔铁架杆4C电连接，所述棉浸弯杆4D插嵌在电极板盘座4B轴心的顶部上，所述施釉喷射器4E嵌套于吊转连杆架4F的底部下，所述吊转连杆架4F安装于顶格槽4G的内部，所述电极板盘座4B安设在密封处理箱4H的内部，所述密封处理箱4H安装于机箱壳体2的内部。
请参阅图3，所述电极板盘座4B由电极弯弧板4B1、碳刷架盘座4B2组成，所述电极弯弧板4B1安装于碳刷架盘座4B2的顶部上并且相互垂直，所述电极弯弧板4B1与碳刷架盘座4B2机械连接，所述衔铁架杆4C由衔铁块4C1、桁架杆4C2组成，所述衔铁块4C1与桁架杆4C2活动连接并且轴心共线，所述衔铁块4C1安装于桁架杆4C2的中段上并且处于同一水平线上，通过电极弯弧板4B1与衔铁块4C1形成对位击穿电流的牵引电磁悬浮滑动操作，使放大电磁场吸附游离的静电粒子，方便坯粉的集中清除。
请参阅图4，所述电极弯弧板4B1由弧扣槽4B11、弯弧板块4B12、晶闸块4B13、滑块体4B14组成，所述弧扣槽4B11与弯弧板块4B12为一体结构并且处于同一弧面上，所述晶闸块4B13设有两个以上并且均插嵌在弯弧板块4B12的内部，所述滑块体4B14嵌套于弯弧板块4B12的底部下，所述弧扣槽4B11为左右尖窄中间宽厚且呈月牙状的扣槽结构，方便对衔铁的轨道杆件进行对撑锁扣效果，保障水平位移的平衡量稳定，通过弯弧板块4B12与晶闸块4B13形成一个内晶闸电子分节点导向电流输送效果，保障整个弧面的电极立面包裹效果。
请参阅图5，所述碳刷架盘座4B2由碳刷架板4B21、轮盘厚垫4B22、减速撑架块4B23、联轴摆杆4B24组成，所述碳刷架板4B21与轮盘厚垫4B22机械连接并且轴心共线，所述碳刷架板4B21与联轴摆杆4B24扣合在一起并且处于同一竖直面上，所述轮盘厚垫4B22与减速撑架块4B23采用过盈配合，所述碳刷架板4B21为扇板厚弯条状带厚框环的碳刷板结构，方便四分之一圆面进行间歇式交替滑刷操作，持续保障电极板的对位等离子电流击穿效果，通过碳刷架板4B21在轮盘厚垫4B22内旋转，保障顶部的对位极板角度间距持续相同，避免过度挤压电网磁场形成漏电现象，提高电网除坯粉的稳定性。
请参阅图6，所述衔铁块4C1由凹型槽4C11、铁芯杆4C12、磁铁条4C13、锁扣块4C14组成，所述铁芯杆4C12插嵌在凹型槽4C11的内部，所述铁芯杆4C12通过锁扣块4C14与磁铁条4C13扣合在一起并且处于同一竖直面上，所述磁铁条4C13与锁扣块4C14机械连接并且轴心共线，所述锁扣块4C14为左右带凸嵌件中间带轴杆槽的方形扣块结构，方便左右插嵌榫件铁杆，然后中段插接磁条环绕旋转形成磁引吸附静电粒子的作用，通过铁芯杆4C12与磁铁条4C13电磁互感配合滚动滑刷，达到铁芯杆4C12延展电磁力吸引静电坯粉粒子的效果得到增幅提升。
工作流程：工作人员通过底杆撑架1插接机箱壳体2固定排渣漏斗槽6与载物槽7让整个机体设备形成架设稳定性，再通过提拉柱板块3提升托台放置加工陶瓷品进入等离子棉浸槽4与观察窗5内，通过通风槽口4A与顶格槽4G压扣密封处理箱4H形成内环境风冷循环效果，再通过电极板盘座4B的电极弯弧板4B1在碳刷架盘座4B2上通电回转滑动，形成弧扣槽4B11与弯弧板块4B12在晶闸块4B13的放电作用下对滑块体4B14形成椭球电磁场的推送环绕操作效果，再通过碳刷架板4B21在轮盘厚垫4B22内配合减速撑架块4B23顶撑联轴摆杆4B24滑刷，形成电磁场底座的稳定，防游离电子逃逸，然后通过衔铁架杆4C的衔铁块4C1在桁架杆4C2上受到击穿对位电极板磁场的牵引，形成凹型槽4C11内的铁芯杆4C12通过磁铁条4C13环绕锁扣块4C14磁感形成增幅电磁场吸附陶瓷加工时产生的坯粉静电颗粒，保障后期吊转连杆架4F带动施釉喷射器4E喷淋棉浸弯杆4D施釉时，陶瓷加工的成品成色高且品质感极佳，提升整体弧面平整度和光滑度，保障陶瓷施釉前的表面处理精细效果。
实施例二：
请参阅图1-图7，本发明提供一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其他方面与实施例1相同，不同之处在于：
请参阅图3，所述棉浸弯杆4D由棉芯弧块4D1、蛇形弯杆4D2组成，所述棉芯弧块4D1与蛇形弯杆4D2采用间隙配合，所述棉芯弧块4D1安装于蛇形弯杆4D2的前侧，通过棉芯弧块4D1在蛇形弯杆4D2上下滑动，形成根据陶瓷弧面压贴陶瓷表面形成施釉操作的严密性。
请参阅图7，所述棉芯弧块4D1由吸水孔4D11、棉芯板块4D12、施釉漆管4D13、侧棉条4D14组成，所述吸水孔4D11安装于棉芯板块4D12的内部，所述施釉漆管4D13插嵌在侧棉条4D14的内部，所述侧棉条4D14设有两个并且分别紧贴于棉芯板块4D12的左右两侧，所述棉芯板块4D12为后侧窄长方弧板前端宽厚弧面的扇瓣块结构，方便整体棉芯的压覆吸收釉漆作用，提高施釉的高低位均匀扫刷操作效果，通过吸水孔4D11与施釉漆管4D13出漆压釉和吸水防止漆液滴落，保障整体漆面的平整度。
通过陶瓷在对位电磁场合击穿电流的牵引下去除坯粉后，让陶瓷整体表面的杂质颗粒粗糙度降低，且通过棉浸弯杆4D上的棉芯弧块4D1顺着蛇形弯杆4D2滑刷，形成二次陶瓷表面通过棉芯板块4D12与侧棉条4D14的微抛光处理效果，方便后期施釉时通过施釉漆管4D13出漆再通过吸水孔4D11吸收反馈，避免漆液滴落，且保障陶瓷上釉后的采光度极高。
本发明通过上述部件的互相组合，达到运用等离子棉浸槽4与排渣漏斗槽6相配合，通过在陶瓷施釉前的密封处理箱4H中将加工成型且粘结坯粉的陶瓷体放入后，通过电极板盘座4B形成等离子电流的横向击穿效果，从而来运用衔铁架杆4C吸附带静电离子的坯粉，保障衔铁架杆4C不接触陶瓷表面且形成磁引清洁刷洗陶瓷表面效果，让坯粉脱落进入排渣漏斗槽6后，再用浸弯杆4D受淋釉漆进行上下滑刷，保障施釉前去坯粉和迅速去除坯粉后抗干扰上漆一体化操作，提升整体内槽的陶瓷加工工艺严密度，保障无尘干扰，且提升陶瓷釉面光面和平整度，以此来解决陶瓷施釉前的坯粉是由于制配过程脱落的二氧化硅粉体，这会造成施釉后覆盖的油漆面会包夹部分坯粉，使陶瓷的表面平整度掺杂凹凸不平的粉末颗粒，让人触碰后手感粗糙，没有上釉后陶瓷的平滑感，且陶瓷加工后的坯粉静电附着程度高，普通刷体难以清洁扫落，这会给陶瓷施釉前的加工处理造成繁琐的清洁操作，导致陶瓷表面粗加工和精加工的质量一般，成品的成色和加工效率低下，影响釉面的反光和弧面光滑感的问题。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims (8)

1.一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其结构包括：底杆撑架(1)、机箱壳体(2)、提拉柱板块(3)、等离子棉浸槽(4)、观察窗(5)、排渣漏斗槽(6)、载物槽(7)，其特征在于：
所述等离子棉浸槽(4)安装于机箱壳体(2)的内部，所述载物槽(7)嵌套于排渣漏斗槽(6)的底部下，所述观察窗(5)紧贴于等离子棉浸槽(4)的前侧，所述排渣漏斗槽(6)嵌套于等离子棉浸槽(4)的底部下，所述提拉柱板块(3)安装于机箱壳体(2)的顶部上，所述底杆撑架(1)焊接在机箱壳体(2)的底部下，所述提拉柱板块(3)与等离子棉浸槽(4)机械连接，所述载物槽(7)与底杆撑架(1)紧贴在一起；
所述等离子棉浸槽(4)设有通风槽口(4A)、电极板盘座(4B)、衔铁架杆(4C)、棉浸弯杆(4D)、施釉喷射器(4E)、吊转连杆架(4F)、顶格槽(4G)、密封处理箱(4H)；
所述通风槽口(4A)嵌套于密封处理箱(4H)的左侧，所述顶格槽(4G)紧贴于密封处理箱(4H)的顶部上，所述电极板盘座(4B)与衔铁架杆(4C)电连接，所述棉浸弯杆(4D)插嵌在电极板盘座(4B)轴心的顶部上，所述施釉喷射器(4E)嵌套于吊转连杆架(4F)的底部下，所述吊转连杆架(4F)安装于顶格槽(4G)的内部，所述电极板盘座(4B)安设在密封处理箱(4H)的内部，所述密封处理箱(4H)安装于机箱壳体(2)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述电极板盘座(4B)由电极弯弧板(4B1)、碳刷架盘座(4B2)组成，所述电极弯弧板(4B1)安装于碳刷架盘座(4B2)的顶部上，所述电极弯弧板(4B1)与碳刷架盘座(4B2)机械连接。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述电极弯弧板(4B1)由弧扣槽(4B11)、弯弧板块(4B12)、晶闸块(4B13)、滑块体(4B14)组成，所述弧扣槽(4B11)与弯弧板块(4B12)为一体结构，所述晶闸块(4B13)设有两个以上并且均插嵌在弯弧板块(4B12)的内部，所述滑块体(4B14)嵌套于弯弧板块(4B12)的底部下。
4.根据权利要求2所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述碳刷架盘座(4B2)由碳刷架板(4B21)、轮盘厚垫(4B22)、减速撑架块(4B23)、联轴摆杆(4B24)组成，所述碳刷架板(4B21)与轮盘厚垫(4B22)机械连接，所述碳刷架板(4B21)与联轴摆杆(4B24)扣合在一起，所述轮盘厚垫(4B22)与减速撑架块(4B23)相配合。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述衔铁架杆(4C)由衔铁块(4C1)、桁架杆(4C2)组成，所述衔铁块(4C1)与桁架杆(4C2)活动连接，所述衔铁块(4C1)安装于桁架杆(4C2)的中段上。
6.根据权利要求5所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述衔铁块(4C1)由凹型槽(4C11)、铁芯杆(4C12)、磁铁条(4C13)、锁扣块(4C14)组成，所述铁芯杆(4C12)插嵌在凹型槽(4C11)的内部，所述铁芯杆(4C12)通过锁扣块(4C14)与磁铁条(4C13)扣合在一起，所述磁铁条(4C13)与锁扣块(4C14)机械连接。
7.根据权利要求1所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述棉浸弯杆(4D)由棉芯弧块(4D1)、蛇形弯杆(4D2)组成，所述棉芯弧块(4D1)与蛇形弯杆(4D2)相配合，所述棉芯弧块(4D1)安装于蛇形弯杆(4D2)的前侧。
8.根据权利要求7所述的一种陶瓷施釉前的坯粉等离子棉浸脱落的表面处理设备，其特征在于：所述棉芯弧块(4D1)由吸水孔(4D11)、棉芯板块(4D12)、施釉漆管(4D13)、侧棉条(4D14)组成，所述吸水孔(4D11)安装于棉芯板块(4D12)的内部，所述施釉漆管(4D13)插嵌在侧棉条(4D14)的内部，所述侧棉条(4D14)设有两个并且分别紧贴于棉芯板块(4D12)的左右两侧。
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