CN111123661A - 曝光机 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光机。曝光机包括承载平台以及负压装置；所述承载平台用于承载待曝光基板；所述负压装置设于所述承载平台的边缘，用于排出所述待曝光基板挥发的有机物。本发明通过增加负压装置吸附挥发的有机物，将有机挥发物及时排出曝光机，避免了在曝光机内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均，从而保证曝光机内部洁净度，大大减少有机物对曝光机镜组及掩模板的污染，并保证了曝光的均一性，提高了良品率。

Description

曝光机

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域，尤其涉及一种曝光机。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示屏(TFT-LCD)的彩膜基板(CF)在制作过程中，目前彩膜基板曝光机是上风机过滤单元(FFU)进气压使得彩膜基板曝光机内部相对于其外部为正压，通过空气流动保证彩膜基板曝光机内部的洁净度，但存在基板光阻有机物挥发污染镜组的情况。

由于彩膜基板曝光机是掩模板(mask)和彩膜基板接近式曝光，而彩膜基板进入彩膜基板曝光机的机台后，仍然会挥发有机物，使得彩膜基板曝光机的镜组存在附着有机挥发物被污染情况，由于镜组是用于反光形成光路提供曝光光照，因此会影响光路造成彩膜基板上曝光不均。并且有机挥发物也会污染掩模板(mask)，这样会严重影响曝光的均一性，造成曝光后尺寸异常。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种曝光机，以解决现有技术中曝光机内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均的技术问题。

为了实现上述目的，本发明提供一种曝光机，包括承载平台以及负压装置；所述承载平台用于承载待曝光基板；所述负压装置设于所述承载平台的边缘，用于排出所述待曝光基板挥发的有机物。

进一步地，所述负压装置可压缩回弹式安装于所述承载平台的侧表面上。

进一步地，所述曝光机还包括一腔体，所述承载平台及所述负压装置设于所述腔体内部，所述负压装置临近所述承载平台的一端设有通风口，其另一端通过一管路与所述腔体的外部相连通。

进一步地，所述负压装置为多个，分别对应安装于所述承载平台的多个侧面上。

进一步地，多个所述负压装置的总排气量大于总吹气量，用于多个所述通风口整体产生负压吸附所述待曝光基板挥发的有机物。

进一步地，每一所述通风口的气体压力均小于50pa；所述气体压力包括正压或负压。

进一步地，多个所述负压装置的顶面位于同一顶平面内，所述顶平面与所述承载平台所在平面相平行。

进一步地，所述通风口设置于所述负压装置的侧面，所述通风口朝向所述承载平台的中部位置；所述通风口位于所述顶平面与所述承载平台所在平面之间。

进一步地，所述曝光机还包括：掩模板，置于多个所述负压装置之上。

进一步地，所述通风口设置于所述负压装置的顶面，所述通风口朝向所述腔体的顶部；多个所述通风口位于所述承载平台所在平面内。

本发明的有益效果在于，提供一种曝光机，通过增加负压装置吸附挥发的有机物，将有机挥发物及时排出曝光机，避免了在曝光机内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均，从而保证曝光机内部洁净度，大大减少有机物对曝光机镜组及掩模板的污染，并保证了曝光的均一性，提高了良品率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例1中一种曝光机的局部结构俯视图；

图2为图1所示A-A处的截面图；

图3为本发明实施例1中一种曝光机的内部结构示意图；

图4为本发明实施例2中所述曝光机的在负压装置处截面图。

图中部件标识如下：

1、承载平台，2、负压装置，3、待曝光基板，

4、腔体，5、掩模板，6、光源，

7、镜组，10、曝光机，21、通风口。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

在附图中，为了清楚，层和区域的厚度被夸大。例如，为了便于描述，附图中的元件的厚度和尺寸被任意地示出，因此，所描述的技术范围不由附图限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

另外，还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

实施例1

请参阅图1-图3所示，本发明实施例1中提供一种曝光机10，包括承载平台1以及负压装置2；所述承载平台1用于承载待曝光基板3；所述负压装置2设于所述承载平台1的边缘，用于排出所述待曝光基板3挥发的有机物。

本实施例通过增加所述负压装置2吸附挥发的有机物，将有机挥发物及时排出所述曝光机10，避免了在时所述曝光机10内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均，从而保证所述曝光机10内部洁净度，大大减少有机物对所述曝光机10内的镜组及掩模板的污染，并保证了曝光的均一性，提高了良品率。

其中图1为本发明实施例1中所述曝光机10的局部结构俯视图。图2为图1所示A-A处的截面图。图3为本发明实施例1中所述曝光机10的内部结构示意图。

如图2所示，在本实施例中，所述负压装置2可压缩回弹式安装于所述承载平台1的侧表面上。

如图2、图3所示，在本实施例中，所述曝光机10还包括一腔体4，所述承载平台1及所述负压装置2设于所述腔体4内部，所述负压装置2临近所述承载平台1的一端设有通风口21，其另一端通过一管路与所述腔体4的外部相连通。本实施例对所述通风口21的结构不做限制，可以是过滤器(fi lter)也可以是排风孔。

如图1所示，在本实施例中，所述负压装置2为多个，分别对应安装于所述承载平台1的多个侧面上。所述承载平台1呈长方体形，所述承载平台1有四个侧面，所述负压装置2的数量优选为四个，但也可少于四个，例如两个。

在本实施例中，多个所述负压装置2的总排气量大于总吹气量，用于多个所述通风口21整体产生负压吸附所述待曝光基板3挥发的有机物。其中，所述负压装置2中的气体不做特殊要求，优选为压缩干燥空气(Compressed Dry Air，CDA)。

在本实施例中，每一所述通风口21的气体压力均小于50pa；所述气体压力包括正压或负压。所述气体压力为正压时，所述通风口21吹气；所述气体压力为负压时，所述通风口21吸气。

可理解的是，参考图1所示结构可知，本实施例中存在下列四类情形。

一、所述负压装置2为一个，设置在所述承载平台1的任一侧面上，所述负压装置2的通风口21为负压。

二、所述负压装置2为两个，分别设置在所述承载平台1的两个侧面上，可以相邻设置也可相对设置；两个所述负压装置2均为负压；或者，其中一个所述负压装置2为负压，另一个所述负压装置2为正压，所述正压的值小于所述负压的值，以保证两个所述负压装置2的总排气量大于总吹气量，使得两个所述通风口21整体产生负压吸附所述待曝光基板3挥发的有机物。

三、所述负压装置2为三个，分别设置在所述承载平台1的三个侧面上；三个所述负压装置2均为负压，或者两个负压一个正压，或者两个正压一个负压，只需保证三个所述负压装置2的总排气量大于总吹气量，使得三个所述通风口21整体产生负压吸附所述待曝光基板3挥发的有机物即可。

四、所述负压装置2为四个，分别设置在所述承载平台1的四个侧面上；同理，四个所述负压装置2均为负压，或者两个负压两个正压，或者三个负压一个正压，只需保证四个所述负压装置2的总排气量大于总吹气量，使得四个所述通风口21整体产生负压吸附所述待曝光基板3挥发的有机物即可；其中优选两个负压两个正压，相邻的两个所述负压装置2均为负压，另外两个所述负压装置2均为正压，这样便于形成气体流动通路。

在本实施例中，所述负压装置2为多个时，多个所述负压装置2的顶面位于同一顶平面内，所述顶平面与所述承载平台1所在平面相平行。

在本实施例中，所述通风口21设置于所述负压装置2的侧面，所述通风口21朝向所述承载平台1的中部位置；所述通风口21位于所述顶平面与所述承载平台1所在平面之间。

如图2、图3所示，在本实施例中，所述曝光机10还包括：掩模板5，置于多个所述负压装置2之上。这样所述负压装置2还可以起到支撑所述掩模板5的作用。并且由于所述顶平面与所述承载平台1所在平面相平行，使得所述掩模板5的下表面位于所述顶平面内，从而保证所述掩模板5所在平面与所述承载平台1所在平面相平行。当然所述掩模板5也可通过原有的支架支撑而不直接置于多个所述负压装置2之上，从而所述顶平面与所述承载平台1所在平面之间的距离不会很大，避免遮挡光路和影响所述掩模板5的位置。

值得注意的是，如图3所示，所述曝光机10还包括光源6，优选为紫外灯。所述紫外灯可设置于所述掩模板5的上方，也可通过一镜组7反射光线形成光路(图3中用箭头表示)，所述光路从所述掩模板5的上方照射，光线穿过所述掩模板5的透光孔照射至所述承载平台1承载的待曝光基板3上；所述待曝光基板3优选为彩膜基板，其上表面设有光阻层，所述光路的光线用于使所述光阻层变性从而实现图案化处理。本实施例中所述待曝光基板3挥发的有机物即为所述光阻层的挥发物，所述负压装置2设于所述承载平台1的边缘并产生负压，能很好地排出所述光阻层的挥发物，保证了曝光机10内部洁净度。

实施例2

图4为本发明实施例2中所述曝光机10的在负压装置2处截面图。如图4所示，在实施例2中包括实施例1中大部分的技术特征，其区别在于，在实施例2中的所述通风口21设置于所述负压装置2的顶面，所述通风口21朝向所述腔体4的顶部；而不是实施例1中的所述通风口21设置于所述负压装置2的侧面，所述通风口21朝向所述承载平台1的中部位置。

如图4所示，实施例2中，多个所述通风口21位于所述承载平台1所在平面内，即所述顶平面与所述承载平台1所在平面相重合，多个所述通风口21的上表面与所述承载平台1的上表面相齐平。这样可节省空间，不会遮挡光路和影响所述掩模板5的位置。

本发明的有益效果在于，提供一种曝光机，通过增加负压装置吸附挥发的有机物，将有机挥发物及时排出曝光机，避免了在曝光机内存在挥发有机物导致影响光路、污染掩模板造成曝光不均，从而保证曝光机内部洁净度，大大减少有机物对曝光机镜组及掩模板的污染，并保证了曝光的均一性，提高了良品率。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种曝光机，其特征在于，包括：

承载平台，用于承载待曝光基板；以及

负压装置，设于所述承载平台的边缘，用于排出所述待曝光基板挥发的有机物。

2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述负压装置可压缩回弹式安装于所述承载平台的侧表面上。

3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，

所述曝光机还包括一腔体，所述承载平台及所述负压装置设于所述腔体内部，所述负压装置临近所述承载平台的一端设有通风口，其另一端通过一管路与所述腔体的外部相连通。

4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述负压装置为多个，分别对应安装于所述承载平台的多个侧面上。

5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，多个所述负压装置的总排气量大于总吹气量，用于多个所述通风口整体产生负压吸附所述待曝光基板挥发的有机物。

6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，每一所述通风口的气体压力均小于50pa；所述气体压力包括正压或负压。

7.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，多个所述负压装置的顶面位于同一顶平面内，所述顶平面与所述承载平台所在平面相平行。

8.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，所述通风口设置于所述负压装置的侧面，所述通风口朝向所述承载平台的中部位置；所述通风口位于所述顶平面与所述承载平台所在平面之间。

9.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，还包括：

掩模板，置于多个所述负压装置之上。

10.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，所述通风口设置于所述负压装置的顶面，所述通风口朝向所述腔体的顶部；多个所述通风口位于所述承载平台所在平面内。

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