CN110891380B - 电子设备壳体的加工方法及电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开是关于一种电子设备壳体的加工方法和电子设备，所述方法通过在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，以使所述纳米镀层的颜色叠加形成具备预设颜色效果的彩色镀层，再在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层，以实现壳体预期的彩色外观效果。由于壳体的颜色通过彩色镀层体验，而彩色镀层是由直接加工在透明基板内侧面的多层纳米镀层的颜色叠加形成，可通过控制纳米镀层的厚度和色彩实现对彩色镀层颜色的控制，提升了壳体颜色变化的精度。

Description

电子设备壳体的加工方法及电子设备

技术领域

本公开涉及电子技术领域，尤其涉及电子设备壳体的加工方法及电子设备。

背景技术

在相关技术中，彩色的电子设备壳体因具备绚丽多变的外观而成为电子设备壳体的一种发展趋势。然而，壳体的颜色和呈现效果往往受到加工方法的限制，存在色彩单一、效果不达预期等问题。因此，如何获得色彩多变且又能精确控制颜色的电子设备壳体加工方法成为当前领域的热点研究问题。

发明内容

本公开提供一种电子设备壳体的加工方法及电子设备，以提升壳体加工过程中控制颜色变化的精确度。

根据本公开的第一方面提出一种电子设备壳体的加工方法，所述方法包括：

在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，以使所述纳米镀层的颜色叠加形成具备预设颜色效果的彩色镀层；

在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层。

可选的，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，包括：

为所述透明基板的内侧面设置遮罩挡板；

以电子轰击预设靶材以产生离子云，与所述内侧面指定区域对应的部分所述离子云通过所述遮罩挡板并附着在所述透明基板的内侧面形成所述纳米镀层。

可选的，所述预设靶材包括氧化硅、氧化钛、氧化铌中至少之一。

可选的，每层所述纳米镀层的厚度范围包括5纳米-15纳米。

可选的，所述彩色镀层的厚度范围包括20纳米-500纳米。

可选的，所述在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层，包括：在所述彩色镀层上喷涂或印刷油墨。

可选的，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，还包括：

在所述透明基板的外侧面涂覆抗指纹膜层。

可选的，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，还包括：打磨并清洗所述透明基板。

可选的，所述透明基板包括玻璃、透明塑胶、透明复合材料中之一。

根据本公开的第二方面提出一种电子设备，所述电子设备包括：设备主体和壳体；

所述壳体采用上述电子设备壳体的加工方法获得，且所述壳体组装于所述设备主体。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

本公开通过在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，以使所述纳米镀层的颜色叠加形成具备预设颜色效果的彩色镀层，再在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层，以实现壳体预期的彩色外观效果。由于壳体的颜色通过彩色镀层体验，而彩色镀层是由直接加工在透明基板内侧面的多层纳米镀层的颜色叠加形成，可通过控制纳米镀层的厚度和色彩实现对彩色镀层颜色的控制，提升了壳体颜色变化的精度。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1是本公开一示例性实施例中一种电子设备壳体加工方法的流程图；

图2是本公开另一示例性实施例中一种电子设备壳体加工方法的流程图；

图3是本公开一示例性实施例中一种电子设备的截面结构示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

相关技术中，彩色的电子设备壳体实现方式多种多样。采用印刷、喷涂、贴装等工艺实现，颜色以及质感效果难以达到预期。而采用光学镀膜，利用膜层的颜色实现壳体的外观效果，则存在颜色稳定性和精度难以把控的问题。例如，在利用光学镀层工艺获得例如粉红色等鲜艳颜色兼具金属质感的过程中，由于光学镀膜工艺的颜色和厚度等参数的控制误差，往往容易造成电子设备壳体的成品在不同角度的颜色不同等问题，降低了电子设备壳体颜色的稳定性，又影响电子设备的整体美观性。

为解决上述技术问题，本公开对电子设备壳体的加工方法进行改进，现描述如下：

图1是本公开一示例性实施例中一种电子设备壳体加工方法的流程图。如图1所示，所述方法可以通过以下步骤实现：

在步骤101中，在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，以使纳米镀层的颜色叠加形成具备预设颜色效果的彩色镀层。

所述纳米镀层可以采用PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)工艺，即在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使预设靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，再利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD工艺获得的镀层颜色均匀一致，在各种基本的空气和直射阳光环境条件下都能永久保持良好外观，且颜色深韵、光亮。PVD工艺获得的镀层还具有很高附着力和耐久力，可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落。

通过在透明基板上分次镀上纳米级厚度的纳米镀层，每层的厚度设定值为10纳米，计误差后厚度范围在5纳米-15纳米之间，利用极薄的多层所述纳米镀层相互叠加而获得预设颜色效果的彩色镀层，便于调整不同区域的颜色，提升了对电子设备壳体颜色的控制精度、稳定性以及在各个视角下的颜色一致性。

所述透明基板的材质可以是玻璃、透明塑胶、透明复合材料中之一，以在加工后实现透明效果为准，本公开并不对其具体材质进行限制。

所述彩色镀层的厚度范围包括20纳米-500纳米，彩色镀层的厚度可以根据具体的颜色需求进行设置，本公开并不对此进行限制。

在步骤102中，在彩色镀层上覆盖遮蔽层。

在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层，避免带有彩色镀层的透明基板透光而影响电子设备壳体的整体颜色效果。所述遮蔽层的厚度范围可以是10微米-30微米以实现遮蔽效果为准，本公开并不对遮蔽层的具体厚度值进行限制。

其中，所述遮蔽层的材质可以是油墨，油墨采用喷涂或印刷工艺覆盖在彩色镀层上，工艺简单、便于操作。油墨直接喷涂或印刷在彩色镀层上，一方面减少了贴装遮蔽层的工艺步骤，降低成本；另一方面使得电子设备壳体的整体厚度降低，提升了电子设备的整体美观性。

在上述实施例中，在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层可以通过多种工艺实现，现以下面实施例为例进行示例性说明。如图2所示，所述方法可以通过以下步骤实现：

在步骤201中，为透明基板的内侧面设置遮罩挡板。

在步骤202中，以电子轰击预设靶材以产生离子云，与所述内侧面指定区域对应的部分所述离子云通过所述遮罩挡板并附着在所述透明基板的内侧面形成所述纳米镀层。

为透明基板的内侧面设置遮罩挡板，遮罩挡板遮挡透明基板的指定区域，以控制某种特定颜色附着在透明基板内侧面的指定区域。以实现紫色到金色逐渐过渡的颜色效果为例：在镀金色纳米镀层时，通过遮罩挡板使金色纳米镀层附着在透明基板内侧面包含金色效果的区域，金色纳米镀层的层数自金色端向紫色端递减以获得渐变的金色效果。在镀紫色纳米镀层时，同样利用遮罩挡板使紫色纳米镀层附着在透明基板内侧面包含紫色效果的区域，紫色纳米镀层的层数自紫色端向金色端递减以获得渐变的紫色效果。此时，金色镀层与紫色镀层相互叠加获得了过渡流畅的紫金渐变颜色效果。遮罩挡板避免了不同颜色之间发生不必要的相互叠加而干扰彩色电子设备壳体的最终颜色效果，提升了彩色电子设备壳体的颜色精度。

需要说明的是，采用本公开提出的电子设备壳体的加工方法，还可以获得多种颜色效果的电子设备壳体。特别是在获得浅色效果电子设备壳体的过程中，本公开所采用的加工方法能够精确把控颜色变化的稳定性，降低浅色效果电子设备壳体在量产过程中颜色误差，保证电子设备整体外观的一致性。

而且，通过使电子轰击预设靶材产生的离子云附着在透明基板的内侧面，能够在透明基板的内侧面获得纳米级厚度的纳米镀层，多层所述纳米镀层叠加成所述彩色镀层。由于纳米镀层的厚度较薄，因此通过控制纳米镀层的层数即可精确控制彩色镀层所产生的颜色效果，降低了彩色电子设备壳体的量产误差，保证了电子设备壳体外观的一致性。

在上述实施例中，所述预设靶材包括氧化硅、氧化钛、氧化铌中至少之一，预设靶材的选择可以根据彩色电子设备壳体所要呈现的颜色效果进行选择，本公开并不对此进行限制。

在步骤203中，判断所述纳米镀层的层数是否小于预设层数，若是则返回步骤202，若否则执行步骤204。

在步骤204中，在彩色镀层上覆盖遮蔽层。

其中，在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层，避免了带有彩色镀层的透明基板透光而影响电子设备壳体的整体颜色效果。所述遮蔽层的厚度范围可以是10微米-30微米以实现遮蔽效果为准，本公开并不对遮蔽层的具体厚度值进行限制。

其中，所述遮蔽层的材质可以是油墨，油墨采用喷涂或印刷工艺覆盖在彩色镀层上，工艺简单、便于操作。

此外，在透明基板的内侧面设置增透膜层之前，还可以在透明基板的外侧面涂覆抗指纹膜层。以透明基板的材质为玻璃为例，抗指纹膜能够使玻璃外表面在使用时避免用户指纹附着在玻璃材质的外侧面，提升壳体在使用过程中的外观效果。

以及，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，还可以打磨并清洗所述透明基板，以提升透明基板的附着效果以及彩色电子设备壳体的成品率。

本公开进一步提出一种电子设备，图3是本公开一示例性实施例中一种电子设备的截面结构示意图。如图3所示，所述电子设备1包括设备主体11和壳体2。其中，所述壳体2采用上述电子设备壳体加工方法获得，且壳体2组装于设备主体11。

通过上述电子设备壳体的加工方法可以获得预期的彩色外观效果的壳体2，所述壳体2包括透明基板21、设置在透明基板21内侧面的彩色镀层22和遮蔽层23。由于壳体2的颜色通过彩色镀层22体验，而彩色镀层22是由直接加工在透明基板21内侧面的多层纳米镀层的颜色叠加形成，可通过控制纳米镀层的厚度和色彩实现对彩色镀层22颜色的控制，提升了壳体2颜色变化的精度。

需要说明的是，所述电子设备可以是手机、电脑等，本公开并不对此进行限制。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的技术方案后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (9)

1.一种电子设备壳体的加工方法，其特征在于，包括：

在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，以使所述纳米镀层的颜色叠加形成具备渐变颜色效果的彩色镀层；其中，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，包括：为所述透明基板的内侧面设置遮罩挡板；以电子轰击预设靶材以产生离子云，与所述内侧面指定区域对应的部分所述离子云通过所述遮罩挡板并附着在所述透明基板的内侧面形成所述纳米镀层；在镀第一颜色纳米镀层时，通过所述遮罩挡板使所述第一颜色纳米镀层附着在所述透明基板内侧面包含第一颜色效果的区域，所述第一颜色纳米镀层的层数自第一颜色端向第二颜色端递减以获得渐变的第一颜色效果；在镀第二颜色纳米镀层时，通过所述遮罩挡板使所述第二颜色纳米镀层附着在所述透明基板内侧面包含第二颜色效果的区域，所述第二颜色纳米镀层的层数自第二颜色端向第一颜色端递减以获得渐变的第二颜色效果，以使第一颜色纳米镀层与第二颜色纳米镀层相互叠加获得了过渡流畅的渐变颜色效果；

在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述预设靶材包括氧化硅、氧化钛、氧化铌中至少之一。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，每层所述纳米镀层的厚度范围包括5纳米-15纳米。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述彩色镀层的厚度范围包括20纳米-500纳米。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述彩色镀层上覆盖遮蔽层，包括：在所述彩色镀层上喷涂或印刷油墨。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，还包括：

在所述透明基板的外侧面涂覆抗指纹膜层。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在透明基板的内侧面上加工预设层数的纳米镀层，还包括：打磨并清洗所述透明基板。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明基板包括玻璃、透明塑胶、透明复合材料中之一。

9.一种电子设备，其特征在于，包括：设备主体和壳体；

所述壳体采用如权利要求1-8任一项所述的电子设备壳体的加工方法获得，且所述壳体组装于所述设备主体。

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