CN110860539A - 免疫分析仪及其清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种清洗装置和免疫分析仪，清洗装置包括支架、承载组件、磁吸组件、注液组件和吸液组件，其中：承载组件，设置在支架上并能够在第一、第二工位之间往复运动，承载组件上设置至少一个清洗位；磁吸组件，靠近第二工位设置并用于吸附磁粒结合物；注液组件，包括注液件，注液件用于向处于第一工作位的反应器中注入清洗液；吸液组件，包括能够与清洗位一一对应的吸液件，吸液件能够相对支架运动以伸入或伸出反应器中，吸液件用于从处于第二工作位的反应器中吸取废液；当反应器跟随承载组件在第一、第二工位之间往复运动若干次时，同一反应器通过相同的吸液件吸取废液。这样能避免吸液件的携带污染，保证清洗效果。

Description

免疫分析仪及其清洗装置

技术领域

本发明涉及体外诊断技术领域，特别是涉及一种免疫分析仪及其清洗装置。

背景技术

全自动免疫分析通过以抗原抗体相互结合的免疫学反应为基础，使用酶标记、镧系元素标记或化学发光剂标记抗原抗体，通过一系列级联放大反应，将光信号或电信号与分析物浓度等相联系，分析人体样本中的待测的抗原或抗体。

在测量分析中，涉及到待测物的清洗分离(Bound-free,以下简称清洗)，即采用磁力捕捉结合后的磁微粒、抗原和标记抗体的复合物(即待测物)，最后去除未结合的游离标记物和其它干扰杂质。

传统的部分清洗装置采用旋转式圆盘带动反应容器转动，以实现反应容器中待测物的“串行清洗”；但该装置结构复杂，在抽废液过程中会对下一个反应容器形成携带污染，从而影响分析性能。其它清洗装置采用在不同位置设置多块磁铁以吸附待测物，导致清洗效果欠佳。

发明内容

本发明解决的一个技术问题是如何在简化结构的基础上提高清洗装置的清洗效果。

一种清洗装置，用于清洗反应器中的磁粒结合物和去除反应器中未结合的成分、并具有第一工位和第二工位，所述清洗装置包括支架和设置在所述支架上的承载组件、磁吸组件、注液组件和吸液组件，其中：

承载组件，设置在所述支架上并能够在第一、第二工位之间往复运动，所述承载组件上设置至少一个清洗位，所述清洗位用于放置所述反应器；

磁吸组件，靠近所述第二工位设置并用于吸附所述磁粒结合物；

注液组件，包括注液件，所述注液件用于向处于第一工作位的反应器中注入清洗液；

吸液组件，包括能够与所述清洗位一一对应的吸液件，所述吸液件能够相对所述支架运动以伸入或伸出所述反应器中，所述吸液件用于从处于第二工作位的反应器中吸取废液；

当所述反应器跟随承载组件在第一、第二工位之间往复运动若干次时，同一反应器通过相同的吸液件吸取废液。

一种清洗装置，用于清洗反应器中的磁粒结合物和去除反应器中未结合的成分，所述清洗装置包括支架和设置在所述支架上的承载组件、磁吸组件、注液组件和吸液组件，其中：

承载组件，所述承载组件上设置至少一个清洗位，所述清洗位用于放置所述反应器；

磁吸组件，用于吸附所述反应器中的磁粒结合物；

注液组件，包括注液件，所述注液件用于向反应器中注入清洗液；

吸液组件，包括能够与所述清洗位一一对应的吸液件，所述吸液件能够相对所述支架运动以伸入或伸出所述反应器中，所述吸液件用于从反应器中吸取废液，同一反应器通过相同的吸液件吸取废液。

所述磁吸组件包括永磁铁单元，所述永磁铁单元在所述承载组件上具有正投影，在所述清洗位的排列方向上，所述正投影覆盖全部所述清洗位。

一种免疫分析仪，包括上述的清洗装置。

本发明的一个实施例的一个技术效果是：反应器跟随承载组件在第一工位和第二工位之间往复滑动，使得清洗装置的结构更为紧凑。同时，在反应器通过注入清洗液和吸取废液所形成的清洗过程中，反应器在第一、第二工位之间往复运动次数越多，反应器中磁粒结合物清洗次数越多，由于同一反应器通过相同的吸液件吸取废液，随着反应器清洗次数的增多，吸液件上所携带的残留废液的浓度逐渐递减直至忽略不计，防止吸液件对反应器形成携带污染，从而提高磁粒结合物的清洗效果。

附图说明

图1为一实施例提供的免疫分析仪的平面结构示意图；

图2为磁粒结合物悬浮在反应器中的示意图；

图3为磁粒结合物吸附在反应器上的示意图；

图4为图1中承载块的俯视示意图；

图5为图1中第一示例清洗装置的立体图；

图6为图1中第二示例清洗装置的立体图；

图7为一实施例提供的清洗方法的流程框图；

图8为一实施例提供的样本分析方法的流程框图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“内”、“外”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

参阅图1至图4，本发明一实施例提供的免疫分析仪10包括供给装置100、存储装置200、孵育装置300、清洗装置400、测量装置500、采样装置600、混匀装置700和转移装置。供给装置100对空置且洁净的反应器20进行整理排序以便转移抓取。存储装置200上存放有样本和目标试剂，采样装置600将样本和目标试剂加入反应器20中，混匀装置700对反应器20中的样本和目标试剂进行混匀，孵育装置300对盛装有样本和目标试剂的反应器20进行加热孵育，清洗装置400对经孵育装置300加热过的反应器20进行清洗，测量装置500对含有信号试剂和清洗完毕的磁粒结合物21的反应器20进行测试。转移装置将反应器20在供给装置100、孵育装置300、清洗装置400和测量装置500之间转移，例如转移装置能够将供给装置100上的反应器20转移至孵育装置300上，或者将孵育装置300上的反应器20转移至清洗装置400上，或者将清洗装置400上的反应器20装置至测量装置500上。

在一些实施例中，供给装置100包括给料排序机构100、供给滑道120和供给盘130。给料排序机构100可以位于存储装置200的上方，这样可以充分利用整机的空间，使整机的机构更为紧凑；供给滑道120连接在给料排序机构100和供给盘130之间。给料排序机构100包括料仓和排序单元，料仓用于存放未使用的洁净反应器20，排序单元将来自料仓的散乱放置的反应器20进行逐个有序排列。供给滑道120将已有序排列的反应器20输送至供给盘130，供给盘130用于缓存排序好的反应器20，反应器20可以沿供给盘130的周向间隔分布，供给盘130可以转动，以便转移装置在指定合适的位置将供给盘130上的反应器20转移至孵育装置300中。

在一些实施例中，存储装置200包括旋转盘210，旋转盘210上设置样本位和试剂位，用于放置样本容器和试剂容器并将样本和目标试剂输送至采样位211。样本容器用于盛放待测样本，样本含有待测的目标抗体和抗原等目标检测物质。试剂容器用于盛放目标试剂，一个测试项目通常包括磁微粒试剂、酶标试剂和稀释液等试剂组分，各种成分不同的目标试剂可以分装在不同的试剂容器中。采样位211设置在存储装置200上，用于采样装置通过存储装置200从样本容器中吸取样本和从试剂容器中吸取目标试剂。存储装置200还可以包括条码扫描器，条码扫描器用于识别样本容器和试剂容器上的条码信息，以便采样装置准确采样；为了使整机结构紧凑并降低成本，条码扫描器采用固定式设计。存储装置200还可以包括制冷器，为了在线长期保存目标试剂，制冷器可以对试剂容器中的试剂进行冷藏处理。

在一些实施例中，采样装置600包括采样件，采样件用于吸取样本和目标试剂，采样件包括采样钢针，当然，采样件也可以包括一次性吸嘴等。采样件可以在立体空间内存在三个直线运动的自由度，即可以上下、左右和前后运动，当然还可以存在转动的自由度。为提高整机的紧凑性和降低成本，采样钢针能够同时用于吸取样本和目标试剂，即采样钢针既可以用于吸取样本，又可以用于吸取目标试剂。采样装置600还可以包括清洗站610，清洗站610位于存储装置200上的旋转盘210的旁侧，清洗站610位于采样件的运动轨迹上，清洗站610用于清洗采样件，例如，当采样钢针从样本容器中吸取样本后，可以将吸取样本后的采样钢针在清洗站610中进行清洗，然后在将清洗过的采样钢针从试剂容器中吸取目标试剂，清洗站610可以有效防止样本和目标试剂吸取过程中的携带污染。

在一些实施例中，孵育装置300包括温控单元和孵育块310，孵育块310固定设置，这样可以省去驱动孵育块310运动的驱动机构，也节约了孵育块310运动所需占用的空间，同样能提高整机的紧凑性和降低成本。孵育块310可以采用导热性能优良的铝块或铜块。温控单元用于提供恒温环境并减少热量的损失，温控单元可以包括隔热器、加热器、温度传感器、温度控制电路等。孵育块310上具有孵育位311，孵育位311用于容置反应器20。根据实际测试速度的需要，孵育位311的数量可以为5至100个，所有孵育位311可以呈矩阵式排列，即多行和多列的排列形式。

在一些实施例中，对于存储装置200上所设置的采样位211，该采样位211可以分布在存储装置200上的某条直径所在的直线30上，孵育块310上的部分孵育位311处于该直线30上，该直线30与采样件的运动轨迹重合；即采样件的运动轨迹覆盖采样位211和孵育块310上的部分孵育位311。当采样件吸取样本或目标试剂后，以便该采样件以最短的路径和最少的时间运动至位于孵育块310上的反应器20的正上方，从而提高孵育块310上的反应器20的样本和目标试剂的加注效率。

在一些实施例中，混匀装置700位于转移单元的运动范围内或可通过水平运动运动到转移单元的运动范围内。混匀装置700接收和承载转移单元转移过来的反应器20，其上设置至少一个反应器位，用于放置需要混匀的反应器20，对反应器20内的反应物进行混匀。混匀装置700对每次加注样本、目标试剂后的反应器20进行超声混匀、偏向旋转或震荡混匀。当设置独立的加注站时，可将混匀装置700和加注站集成在一起，形成加注混匀装置，这样结构更简单紧凑。

在一些实施例中，混匀装置700上的反应器位在采样件的运动轨迹下，采样件可以在混匀装置700上的反应器位上加注样本和目标试剂。

本实施的混匀装置700除了上述作用和功能外，还可以接收加注完信号试剂后需要混匀的反应器20。转移单元将完成清洗分离、加注信号试剂后的反应器20转移至混匀装置700，由混匀装置700完成对加注信号试剂后的反应器20进行混匀，这样可以省去在清洗装置400上设置混匀单元，进一步精简了结构和部件，缩减了体积和降低了成本，同时也提高了整机可靠性。

盛放有样本和目标试剂的反应器20可以在孵育装置300孵育大致5-60分钟，孵育完成后，反应器20中的磁微粒、待测物质、标记试剂等相互反应并结合形成磁粒结合物21，未参加反应的标记试剂与磁微粒没有结合并游离在反应器20的悬浮液中。清洗装置400将对磁粒结合物21进行清洗，以去除游离的标记试剂和其它未反应的非结合成分。

同时参阅图1至图6，在一些实施例中，清洗装置400具有初始工位403、第一工位401和第二工位402，清洗装置400包括支架450、承载组件410、磁吸组件420、注液组件430和吸液组件440。承载组件410、磁吸组件420、注液组件430和吸液组件440四者均设置在支架450上。承载组件410用于带动反应器20在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间运动，磁吸组件420用于吸附位于第二工位402处的反应器20中的磁粒结合物21，注液组件430包括注液件431，注液件431用于向处于第一工位401的反应器20中注入清洗液。吸液组件440，包括能够与所述清洗位412一一对应的吸液件441，吸液件441用于从处于第二工位402的反应器20中吸取废液。注液件431可以为注液针、注液管或注液嘴等适合注入液体的部件，同样地，吸液件441也可以为吸液针、吸液管或吸液嘴等适合吸取液体的部件。本实施例中第一工位401和第二工位402的设置可以避免在同一工位完成清洗过程中的注入清洗液、吸取废液，不仅有利于注液后磁粒结合物21的重悬浮，还可降低清洗残留，从而提高了清洗效果和最终的分析性能。

同时参阅图5和图6，承载组件410滑动设置在支架450上，并能够在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间滑动，承载组件410上设置至少一个清洗位412，该清洗位412用于放置反应器20。在一些实施例中，承载组件410包括承载块411，承载块411一体成型，清洗位412为承载块411上的容置孔，当然，承载块411的数量可以为多个，清洗位412也可以采用其它夹持结构，只要能使反应器20跟随承载块411运动即可。支架450上可以设置滑轨451，该滑轨451为直线型滑轨451，承载块411与该滑轨451滑动配合，因此，承载组件410在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间的运动轨迹为直线。

承载组件410还包括带传动单元，带传动单元安装在支架450上，带传动单元用于驱动承载块411沿滑轨451运动。在一些实施例中，带传动单元包括步进电机414、主动轮415、从动轮416和同步带417。步进电机414固定在支架450上，主动轮415设置在步进电机414的输出轴上，从动轮416转动设置在支架450上，同步带417套设在主动轮415与从动轮416之间，承载块411与同步带417固定连接。当步进电机414转动时，同步带417拉动承载块411沿滑轨451运动，以实现承载块411在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间的运动，因此，承载组件410在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间的运动轨迹为直线。在其它实施例中，带传动单元也可以采用齿轮齿条机构等进行替换，载组件在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间的运动轨迹也可以为圆形或三角形等。

在一些实施例中，承载组件410的承载块411上还设置有加注位413，该加注位413与清洗位412的结构相同，加注位413处于清洗位412的旁侧，加注位413用于放置磁粒结合物21清洗完成后需要加信号试剂的反应器20。注液组件430还包括注射件432，当承载组件410处于第一工位401时，注射件432能够向位于加注位413的反应器20中注入信号试剂。因此，除了清洗功能之外，清洗装置400还可以具有向反应器20中加入信号试剂的功能，达到“一机两用”的效果，在提高整机紧凑性的基础上降低制造成本。

参阅图5，在一些实施例中，承载块411上的容置孔(清洗位412)排列成一条直线(记为第一直线)，该直线的延伸方向与承载块411的滑动方向垂直，同样地，注液件431排列成一条直线(记为第二直线)，注液件431与承载块411上的容置孔一一对应。吸液件441排列成一条直线(记为第三直线)，吸液件441与承载块411上的容置孔一一对应。第一直线、第二直线和第三直线在空间上相互平行，即容置孔、注液件431和吸液件441三者各自所排列的直线相互平行。

参阅图5，在一些实施例中，磁吸组件420包括安装框421和至少一个永磁铁单元422，安装框421设置有容置腔421a，永磁铁单元422则收容在该容置腔421a内，安装框421对永磁铁单元422形成支撑和保护作用。当承载组件410处于第二工位402时，全部永磁铁单元422在承载组件410的承载块411上具有正投影，在与承载块411滑动方向(X轴方向)垂直的方向(Y轴方向)上，即清洗位412的排列方向上，全部永磁铁单元422的正投影覆盖全部清洗位412。当永磁铁单元422的数量仅为一个时，该一个永磁铁单元422在承载组件410上的正投影即可覆盖全部清洗位412；当永磁铁单元422的数量大于一个时，存在至少一个永磁铁单元422在承载组件410的正投影可以覆盖至少两个清洗位412。例如，在与承载块411滑动方向垂直的方向上，当永磁铁单元422和承载块411均相对滑轨451对称设置时，永磁铁单元422的长度大于或等于全部清洗位412的长度，这样可以保证正投影覆盖全部清洗位412，进一步保证永磁铁单元422的磁力线能覆盖位于不同清洗位412中的反应器20，从而对所有反应器20中磁粒结合物21均能形成有效的吸附。同时，永磁铁单元422的磁力线能均匀分布在各个清洗位412上，避免在多个清洗位412放置多块磁铁，防止出现不同清洗位412磁力分布不均匀和相邻清洗位412磁力相互影响的问题，进一步避免多个清洗位412清洗效果的差异，提高清洗效果和分析性能。

在一些实施例中，反应器20可以在同一工位处进行注入清洗液和吸取废液处理，即反应器20无需在第一工位401和第二工位402之间的往复运动；同时，同一反应器通过相同的吸液件441吸取废液。在此基础上，靠近该工位处设置的磁铁单元422在承载组件410的承载块411上具有正投影，在清洗位412的排列方向上(Y轴方向上)，该正投影覆盖全部清洗位412。永磁铁单元422的磁力线能均匀分布在各个清洗位412上，同样能防止出现不同清洗位412磁力分布不均匀和相邻清洗位412磁力相互影响的问题，进一步避免多个清洗位412清洗效果的差异，提高清洗效果和分析性能。

参阅图6，永磁铁单元422可以包括一个永磁铁422a，为提供更强和更稳定的磁场环境，永磁铁422a可以为钕铁硼磁铁或铝镍钴合金磁铁。永磁铁422a的其中一个磁极朝向承载组件410上的承载块411设置，例如，永磁铁422a的N极朝向承载块411设置，或者，永磁铁422a的S极朝向承载块411设置，永磁铁422a N极或S极在Y轴方向上的长度不小于各个清洗位412在Y轴方向上所占据的总长度。为进一步增强永磁铁单元422的磁场强度，减少反应器20内磁粒结合物21吸附聚集在反应器20内壁面上的时间，并防止磁粒结合物21在吸取废液的过程中被吸走，提高清洗装置400的清洗效率和清洗效果，参阅图5，永磁铁单元422可以包括两个永磁铁422a。两个永磁铁422a并排相互叠置一起，两个永磁铁422a朝向承载块411设置的磁极的极性刚好相反，例如，其中一个永磁铁422a的N极朝向承载块411设置，另一个永磁铁422a的S极朝向承载块411设置。位于两个永磁铁422a叠置处位置附近的磁力最大，因此，反应器20内的磁粒结合物21被吸附在反应器20的内侧壁上，磁粒结合物21在反应器20的内侧壁上的吸附位置与反应器20的底壁保持一定距离。

吸液组件440还包括滑板442、第一横梁443和带传动单元444，滑板442竖直设置，滑板442与支架450滑动配合，带传动单元444可以驱动滑板442相对支架450上下滑动。第一横梁443与滑板442连接，第一横梁443横向设置。同样地，带传动单元444包括步进电机444b、主动轮444c、从动轮444d和同步带444a。步进电机444b固定在支架450上，主动轮444c设置在步进电机444b的输出轴上，从动轮444d转动设置在支架450上，同步带444a套设在主动轮444c与从动轮444d之间，滑板442与同步带444a固定连接。当步进电机444b转动时，同步带444a拉动滑板442沿支架450上下往复滑动。

参阅图5，在一些实施例中，注液件431和吸液件441均设置在第一横梁443上，即第一横梁443可以带动注液件431和吸液件441上下运动。当承载块411带动反应器20运动到第一工位401时，注液件431刚好位于反应器20的正上方，此时，滑板442带动第一横梁443向下运动，注液件431伸入反应器20内注入清洗液，注入清洗液完毕后，滑板442带动第一横梁443向上运动以使注液件431移出反应器20。当承载块411带动反应器20运动到第二工位402时，吸液件441刚好位于反应器20的正上方，此时，滑板442带动第一横梁443向下运动以使吸液件441伸入反应器20内吸取废液，吸取废液完毕后，滑板442带动第一横梁443向上运动以使吸液件441伸出并远离反应器20。

参阅图6，在一些实施例中，仅吸液件441设置在第一横梁443上，同时，注液组件430还包括第二横梁433，第二横梁433固定在支架450上，注液件431设置在第二横梁433上。即第一横梁443可以仅带动吸液件441上下运动，因此，当承载块411带动反应器20运动到第一工位401时，注液件431刚好位于反应器20的正上方，此时，注液件431不会相对反应器20上下运动，注液件431直接向反应器20中注入清洗液。当承载块411带动反应器20运动到第二工位402时，吸液件441刚好位于反应器20的正上方，此时，第一横梁443可以上下运动以带动吸液件441伸入或伸出反应器20中。

清洗装置400还可以包括混匀器，混匀器用于使反应器20中的反应混合物产生振荡，例如，混匀器可以安装在支架450上并与第一工位401对应，当承载块411带动反应器20运动到第一工位401且注液件431向反应器20中注入清洗液后，混匀器通过承载块411对反应器20产生振荡，在振动涡旋的作用下，使得磁粒结合物21均匀分散并悬浮在反应混合物中，从而提高磁粒结合物21的清洗效果。又如，混匀器安装在承载组件410上，即混匀器直接集成在承载块411上，便于混匀器能够直接对反应器20产生振荡。

参阅图4至图6，清洗装置400工作时，以承载块411上仅设有三个呈直线排列且没有放置反应器20的清洗位412为例进行说明，并分别记为第一清洗位412a、第二清洗位412b和第三清洗位412c。承载块411处于初始工位403时，转移装置仅向第一清洗位412a中加入反应器20。接着，承载块411沿滑轨451从初始工位403运动至第一工位401并停止，此时，注液件431向处于第一清洗位412a中的反应器20注入清洗液，在注入清洗液的过程中，清洗液具有一定的冲击力和流速，使得清洗液能很好地对悬浮在反应器20中的磁粒结合物21进行冲洗。然后，承载块411沿滑轨451从第一工位401运动至第二工位402并停止，此时，在吸取废液之前，磁吸组件420将磁粒结合物21吸附至反应器20的内侧壁上，处于悬浮状态的磁粒结合物21在泳动而吸附至反应器20上的过程中，清洗液同样对磁粒结合物21进行清洗。磁粒结合物21全部被吸附至反应器20上后，吸液件441向下运动以伸入至反应器20中，吸液件441吸取废液，将为第一清洗位412a上的反应器20吸取废液的吸液件441记为第一吸液件441a。由于磁粒结合物21已被吸附，吸液件441无法吸走磁粒结合物21。定义反应器20完成第一次注入清洗液和第一次吸取废液为第一轮清洗，完成第二次注入清洗液和第二次吸取废液为第二轮清洗，依此类推。因此，当反应器20从第一工位401运动到第二工位402时，反应器20将完成一轮次清洗。

处于第一清洗位412a的反应器20完成一轮清洗后，继续将承载块411从第二工位402直接返回至初始工位403，此时，第一清洗位412a上的反应器20依然保留，同时，转移装置仅向第二清洗位412b中加入反应器20，故承载块411上的第一清洗位412a和第二清洗位412b上均放置有反应器20。接着，承载块411带动两个反应器20从初始工位403运动至第一工位401并停止，此时，两个注液件431分别向两个反应器20中注入清洗液，清洗液对磁粒结合物21的清洗如上所述，不再赘述。然后，承载块411沿滑轨451从第一工位401运动至第二工位402并停止，此时，磁吸组件420将两个反应器20中的磁粒结合物21进行吸附，吸附完成后两个吸液件441分别进行吸取废液。特别强调的是，对于第一清洗位412a中的反应器20，吸液件441依然为第一轮清洗时所用的第一吸液件441a，即对同一清洗位412上的反应器20采用相同的吸液件441吸取废液。对于第二清洗位412b中的反应器20，为其吸取废液的吸液件441记为第二吸液件441b。至此，第一清洗位412a中的反应器20已完成第二轮清洗，而第二清洗位412b中的反应器20已完成第一轮清洗。

继续将承载块411从第二工位402直接返回至初始工位403，此时，第一清洗位412a和第二清洗位412b中的反应器20依然保留，同时，转移装置向第三清洗位412c中加入反应器20，故承载块411上的第一清洗位412a、第二清洗位412b和第三清洗位412c上均放置有反应器20。接着，承载块411带动三个反应器20从初始工位403运动至第一工位401并停止，此时，三个注液件431分别向三个反应器20中注入清洗液。然后，承载块411沿滑轨451从第一工位401运动至第二工位402并停止，此时，依然采用第一吸液件441a对第一清洗位412上的反应器20吸取废液，同时，采用第二吸液件441b对第二清洗位412上的反应器20吸取废液，对于第三清洗位412c中的反应器20，为其吸取废液的吸液件441记为第三吸液件441c。确保同一清洗位412上的反应器20采用相同的吸液件441吸取废液。至此，第一清洗位412a中的反应器20已完成第三轮清洗，第二清洗位412b中的反应器20已完成第二轮清洗，第三清洗位412c中的反应器20刚好完成第一轮清洗。

继续将承载块411从第二工位402直接返回至初始工位403，假定反应器20完成第三轮清洗(即已达到三轮次清洗)则已清洗完毕，此时，转移装置将第一清洗位412a上已清洗完毕的反应器20从第一清洗位412a上移出，如承载块411上设置有加注位413，则转移装置将该反应器20从第一清洗位412a转移至该加注位413，同时，转移装置将在空置的第一清洗位412a加入新的待清洗反应器20。接着，承载块411运动至第一工位401，注射件432将向处于加注位413中的反应器20注入信号试剂，同时，三个注液件431对三个反应器20注入清洗液。然后，当承载块411运动到第二工位402进行吸取废液处理后直接返回至初始工位403，此时，第一清洗位412a上的反应器20刚好完成第一轮清洗，第二清洗位412b中的反应器20已完成第三轮清洗，第三清洗位412c中的反应器20已完成第二轮清洗。因此，首先，转移装置将位于加注位413上已注入信号试剂的反应器20转移至测量装置500进行信号测量或孵育装置300进行信号孵育，其次，转移装置将第二清洗位412b中已完成三轮次清洗的反应器20转移至刚刚空置的加注位413中，最后，转移装置将向刚刚空置的第二清洗位412b中放置新的待清洗反应器20。

因此，根据上述的运动规律和清洗规律，将承载块411带动反应器20在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间往复循环滑动，将已达到设定轮次注入清洗液和吸取废液处理(即达到设定轮次清洗)后的反应器20在初始工位403处移出承载块411的清洗位412，以下称“设定轮次注入清洗液和吸取废液处理”为“设定轮次清洗”，将未达到设定轮次清洗的反应器20继续跟随承载组件410运动，同时，将新的带清洗反应器20移入至承载块411的清洗位412中，根据实际分析性能的要求可以灵活确定清洗的轮次，设定轮次可以为三次、四次、五次、六次甚至更多，这样可以达到最佳的清洗效果和最大的清洗效率的平衡。。

针对同一个反应器20不同轮次的清洗，始终采用相同的吸液件441吸取废液，当吸液件441完成前一轮(第N轮)清洗中的吸取废液处理后，由于吸液件441浸入反应器20的悬浮液中，吸液件441离开反应器20后，吸液件441上携带相对较高浓度的残留废液，当吸液件441完成后一轮(第N+1轮)清洗中的吸取废液处理后，由于磁粒结合物21已经过第N轮清洗，反应器20中废液的浓度相对较低，吸液件441上将携带相对较底浓度的残留废液，当吸液件441完成再后一轮(第N+2轮)清洗中的吸取废液处理后，吸液件441上携带相对更低浓度的残留废液。因此，随着清洗轮次的增加，吸液件441上携带的残留废液的浓度可以忽略不计，从而不会对下一轮吸取废液造成携带污染，进而提高清洗效果和分析性能。对于传统的多个不同反应器20通过相同吸液件441吸取废液的模式，吸液件441在上一个反应器20中所携带的高浓度废液将进入下一个反应器20中，从而影响下一个反应器20的清洗效果。

承载块411上的清洗位412不仅可以设为三个，还可以设为四个、五个甚至更多。部分相邻两个清洗位412上的反应器20相差一个轮次的清洗，即当第N个清洗位412上的反应器20完成第M轮清洗时，第N+1个清洗位412上的反应器20完成第M-1轮清洗。换言之，先放入清洗位412上的反应器20比下一个接着后放入清洗位412上的反应器20要多一轮次清洗，承载块411在第一工位401和第二工位402之间经过大于设定轮次的运动次数后，当承载块411从第二工位402直接抵达初始工位403时，必然有一个反应器20因达到设定轮次清洗而被移出清洗位412，同时将有一个新的待清洗反应器20被移入清洗位412，因此，清洗完毕的反应器20将从初始工位403不断移出清洗位412，新的待清洗反应器20从初始工位403不断移入清洗位412，从而实现清洗完毕反应器20和新的待清洗反应器20之间的“新陈代谢”，最终实现清洗装置400对反应器20的连续循环清洗。

在一些实施例中，清洗装置400的初始工位403可以省略，即清洗装置400仅设置第一工位401和第二工位402，当反应器20清洗完毕后，可以直接将反应器20从第一工位401或第二工位402处移出承载块411上的清洗位412。

在一些实施例中，测量装置500包括测量室510和光探测器520，测量室510为避光的测量暗室，光探测器520安装在测量室510上，测量室510内设置有测量位511，经清洗并加入信号试剂的反应器20放置在该测量位511上，当信号试剂与磁粒结合物21产生反应并发光时，光探测器520将检测到反应器20内的光信号，根据光信号以对磁粒结合物21进行测量分析。

免疫分析仪10开启时，下面以其中一种工作方式为例进行说明。首先，供给装置100将空置且洁净的反应器20进行整理排序并缓存。然后，转移装置将供给装置100上的反应器20转移至孵育装置300的孵育位311上，采样装置将存储装置200上的样本和目标试剂加入至位于孵育位311上的反应器20中，孵育装置300对已盛装有样本和目标试剂的反应器20加热孵育设定时间。接着，转移装置将孵育完毕后的反应器20转移至清洗装置400上，清洗装置400对反应器20清洗完毕后，可以继续对清洗完毕的反应器20内注入信号试剂。最后，转移装置将清洗完毕并注入有信号试剂的反应器20转移至测量室510进行测量分析。

参阅图7，本发明还提供一种清洗方法，该清洗方法可以通过上述的清洗装置400对反应器20中的磁粒结合物21进行清洗，该清洗方法主要包括如下步骤：

S810，将处于第一工位401处的反应器20中注入清洗液。

S820，将处于第二工位402处的反应器20中的磁粒结合物21吸附在反应器20的内侧壁上，并通过吸液件441对反应器20吸取废液。

S830，将承载组件410带动反应器20在所述第一、第二工位401、402之间循环往复运动，以使反应器20交替进行注入清洗液和吸取废液处理，并且同一反应器20通过相同的吸液件441吸取废液。

S840，将已达到设定轮次注入清洗液和吸取废液处理后的反应器20移出承载组件410的清洗位412，将未达到设定轮次注入清洗液和吸取废液处理后的反应器20继续跟随承载组件410运动，并将未进行注入清洗液和抽废液处理的新反应器20移入承载组件410的清洗位412。

当反应器20在第一工位401时，可以通过注液件431向反应器20中注入清洗液，以便清洗液对磁粒结合物21进行清洗。当反应器20在第二工位402时，在通过吸液件441吸取废液之前，磁粒结合物21被吸附在反应器20内侧壁上，避免吸取废液时磁粒结合物21被抽走而损失，影响分析性能。反应器20在第一工位401和第二工位402之间往复运动多次后，反应器20将交替进行注入清洗液和吸取废液处理，从而形成多轮次清洗，在每一轮次的清洗过程中，同一反应器20均通过相同的吸液件441吸取废液，随着反应器20清洗轮次的增多，吸液件441上所携带的残留废液的浓度逐渐递减，防止吸液件441对反应器20形成携带污染。

在一些实施例中，将承载组件410带动反应器20依次在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间循环往复运动，即初始工位403作为缓冲工位，当承载组件410运动至初始工位403时，可以将已经设定轮次清洗的反应器20移出清洗位412，并将新的待清洗反应器20移入清洗位412。为提高清洗效率，将承载组件410在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间于同一直线形轨迹上运动，即承载组件410在初始工位403、第一工位401和第二工位402之间做直线运动。将同一反应器20经过三轮次或四轮次注入清洗液和吸取废液处理后移出承载组件410，即经过三轮次或四轮次清洗的反应器20已经清洗完毕。

在一些实施例中，通过一个永磁铁单元422吸附反应器20中的磁粒结合物21，使永磁铁单元422的磁力线均匀覆盖处于第二工位402处承载组件410上的多个清洗位412，以便永磁铁单元422对各个反应器20中的磁粒结合物21都能进行吸附。当承载组件410处于第二工位402时，改变永磁铁单元422与承载组件410之间的距离以调节磁粒结合物21在反应器20上的吸附范围或吸附形状，根据实际情况的需要，可以从磁粒结合物21的损失风险和清洗效果两方面平衡考虑，最后形成永磁铁单元422与承载组件410之间的合理距离。

在一些实施例中，当反应器20已达到设定轮次注入清洗液和吸取废液处理后，将反应器20从承载组件410的清洗位412上移送至承载组件410的加注位413上，并在第一工位401处向位于加注位413中的反应器20注入信号试剂。这样增加了清洗装置400的使用功能，使得清洗装置400的结构更加紧凑。

参阅图8，本发明还提供一种样本分析方法，该样本分析方法包括如下步骤：

S910，供给：通过供给装置100将空置的反应器20进行整理排序。

S920，采样：通过采样装置600将样本和目标试剂加入空置的反应器20中。

S940，孵育：通过孵育装置300将盛装有样本和目标试剂的反应器20加热设定时间。

S950，清洗：通过清洗装置400对反应器20中的磁粒结合物21进行清洗。

S980，测量：通过测量装置500将经过所述清洗方法处理并加入信号试剂的反应器20进行发光量测量。

在一些实施例中，在孵育步骤之前，将采样后盛装有样本和目标试剂的反应器20进行混匀处理步骤(S930)，即将样本和目标试剂通过混匀装置700混匀之后再进行孵育，以提高孵育效果。在测量步骤之前，反应器经过加入信号试剂步骤处理(S960)，并对盛装有信号试剂的反应器20加热设定时间，即对盛装有信号试剂和磁粒结合物21的反应器20进行信号孵育处理步骤(S970)，在信号孵育处理过程中，孵育装置300将对该反应器20进行加热处理，以提高分析性能。在采样步骤中，通过采样钢针同时吸取样本和目标试剂，可以简化清洗装置400结构和降低成本。

在孵育步骤中，孵育时间大致为5-60分钟左右。在一些实施例中，孵育步骤还可也包括如下子步骤：

第一孵育，盛装有样本和第一种类目标试剂的反应器20进行加热设定时间。

第二孵育，将经过第一孵育后的反应器20中再加入第二种类目标试剂后进行加热设定时间。

当孵育步骤包括第一孵育和第二孵育两个子步骤时，即在供给步骤和采样步骤后，并在清洗步骤之前，将两种目标试剂分两次加入反应器20中，每加入一种目标试剂后通过孵育装置300对反应器20进行加热以孵育。

在一些实施例中，样本分析方法还包括如下步骤：

将经过第一孵育后的反应器20进行首次清洗方法中的步骤处理。

将经过首次清洗方法中的步骤处理后的反应器20进行第二孵育。

将经过第二孵育的反应器20进行再次清洗方法中的步骤处理。

具体而言，当反应器20经过供给步骤和采样步骤后，首先通过孵育装置300将反应器20进行第一孵育，接着将第一孵育后的反应器20通过清洗装置400进行首次清洗，首次清洗后再加入第二种类目标试剂，然后将首次清洗后并加入第二种类目标试剂的反应器20转移至孵育装置300进行第二孵育，然后又将第二孵育后的反应器20通过清洗装置400进行再次清洗，最后可将再次清洗后的反应器20加入信号试剂后送入测量装置500进行测量。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (19)

1.一种清洗装置，用于清洗反应器中的磁粒结合物和去除反应器中未结合的成分、并具有第一工位和第二工位，其特征在于，所述清洗装置包括支架和设置在所述支架上的承载组件、磁吸组件、注液组件和吸液组件，其中：

承载组件，设置在所述支架上并能够在第一、第二工位之间往复运动，所述承载组件上设置至少一个清洗位，所述清洗位用于放置所述反应器；

磁吸组件，靠近所述第二工位设置并用于吸附所述磁粒结合物；

注液组件，包括注液件，所述注液件用于向处于第一工作位的反应器中注入清洗液；

吸液组件，包括能够与所述清洗位一一对应的吸液件，所述吸液件能够相对所述支架运动以伸入或伸出所述反应器中，所述吸液件用于从处于第二工作位的反应器中吸取废液；

当所述反应器跟随承载组件在第一、第二工位之间往复运动若干次时，同一反应器通过相同的吸液件吸取废液。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述磁吸组件包括至少一个永磁铁单元，当所述承载组件处于第二工位时，全部所述永磁铁单元在所述承载组件上具有正投影，在所述清洗位的排列方向上，所述正投影覆盖全部所述清洗位。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，在所述清洗位的排列方向上，至少一个永磁铁单元在承载组件上的正投影覆盖至少两个清洗位。

4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述永磁铁单元包括一个永磁铁，所述永磁铁的其中一个磁极朝向所述承载组件设置。

5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述永磁铁单元包括相互叠置的两个永磁铁，两个所述永磁铁朝向所述承载组件设置的磁极的极性相反。

6.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述磁吸组件还包括安装框，所述安装框设置有容置腔，所述永磁铁单元收容在所述容置腔内。

7.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述吸液组件还包括滑板和第一横梁，所述滑板与所述支架滑动配合，所述第一横梁与所述滑板连接，所述注液件和所述吸液件均设置在所述第一横梁上。

8.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述吸液组件还包括滑板和第一横梁，所述滑板与所述支架滑动配合，所述第一横梁与所述滑板连接，所述吸液件设置在所述第一横梁上；所述注液组件还包括固定在所述支架上的第二横梁，所述注液件设置在所述第二横梁上。

9.根据权利要求7或8所述的清洗装置，其特征在于，所述吸液组件还包括设置在所述支架上的带传动单元，所述带传动单元包括同步带，所述滑板固定在所述同步带上。

10.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括混匀器，所述混匀器用于使所述反应器中的液体产生振荡，所述混匀器安装在所述支架上并与所述第一工位对应；或者，所述混匀器安装在所述承载组件上。

11.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述承载组件上还设置有加注位，所述加注位用于放置磁粒结合物已被清洗的反应器；所述注液组件还包括注射件，当所述承载组件处于第一工位时，所述注射件能够向位于加注位的反应器中注入信号试剂。

12.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述承载组件包括一体成型的承载块，所述承载块与所述支架滑动配合，所述清洗位为设置在所述承载块上的容置孔。

13.根据权利要求12所述的清洗装置，其特征在于，所述承载组件还包括设置在所述支架上的带传动单元，所述带传动单元包括同步带，所述承载块固定在所述同步带上。

14.根据权利要求12所述的清洗装置，其特征在于，所述容置孔排列在其延伸方向与所述承载块滑动方向垂直的同一直线上，所述注液件和所述吸液件均排列在不同的直线上，所述容置孔、注液件和吸液件三者各自所排列的直线相互平行。

15.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还具有初始工位，所述承载组件能够在所述初始工位、第一工位和第二工位之间滑动；当所述承载组件处于初始工位时，所述反应器能够被移入或移出所述承载组件。

16.根据权利要求15所述的清洗装置，其特征在于，所述承载组件在所述初始工位、第一工位和第二工位之间的运动轨迹为直线。

17.一种清洗装置，用于清洗反应器中的磁粒结合物和去除反应器中未结合的成分，其特征在于，所述清洗装置包括支架和设置在所述支架上的承载组件、磁吸组件、注液组件和吸液组件，其中：

承载组件，所述承载组件上设置至少一个清洗位，所述清洗位用于放置所述反应器；

磁吸组件，用于吸附所述反应器中的磁粒结合物；

注液组件，包括注液件，所述注液件用于向反应器中注入清洗液；

吸液组件，包括能够与所述清洗位一一对应的吸液件，所述吸液件能够相对所述支架运动以伸入或伸出所述反应器中，所述吸液件用于从反应器中吸取废液，同一反应器通过相同的吸液件吸取废液。

所述磁吸组件包括至少一个永磁铁单元，全部所述永磁铁单元在所述承载组件上具有正投影，在所述清洗位的排列方向上，所述正投影覆盖全部所述清洗位。

18.根据权利要求17所述的清洗装置，其特征在于，在所述清洗位的排列方向上，至少一个永磁铁单元在承载组件上的正投影覆盖至少两个清洗位。

19.一种免疫分析仪，其特征在于，所述免疫分析仪包括权利要求1至18中任一项所述的清洗装置。

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