CN110850833B - 一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 97
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 66
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 title claims abstract description 38
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 252
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000003518 caustics Substances 0.000 claims description 139
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 93
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 92
- 230000029087 digestion Effects 0.000 claims description 91
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 238000003556 assay Methods 0.000 claims description 19
- 238000007726 management method Methods 0.000 claims description 19
- -1 silicon aluminum-silicon Chemical compound 0.000 claims description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 12
- 238000013500 data storage Methods 0.000 claims description 11
- 238000010828 elution Methods 0.000 claims description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 6
- 238000012797 qualification Methods 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 34
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- DRHKJLXJIQTDTD-OAHLLOKOSA-N Tamsulosine Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1OCCN[C@H](C)CC1=CC=C(OC)C(S(N)(=O)=O)=C1 DRHKJLXJIQTDTD-OAHLLOKOSA-N 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004131 Bayer process Methods 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007705 chemical test Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013499 data model Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
- G05B19/41875—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F7/00—Compounds of aluminium
- C01F7/02—Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
- C01F7/04—Preparation of alkali metal aluminates; Aluminium oxide or hydroxide therefrom
- C01F7/06—Preparation of alkali metal aluminates; Aluminium oxide or hydroxide therefrom by treating aluminous minerals or waste-like raw materials with alkali hydroxide, e.g. leaching of bauxite according to the Bayer process
- C01F7/0666—Process control or regulation
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/32—Operator till task planning
- G05B2219/32368—Quality control
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Geology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
本发明涉及工业自动化控制技术领域,尤其涉及一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法,一种氧化铝溶出过程智能化设定系统包括:数据获取层,用于获取基础数据;参数录入层,用于录入设定所需参数和边界条件约束;智能设定层,对溶出过程的二次加碱流量的初始值进行设定,得到二次加碱流量的智能设定值。本发明通过周期性的前馈校正和反馈校正对溶出过程的二次加碱流量的初始值进行设定,得到二次加碱流量的智能设定值,实现了氧化铝溶出系统的智能设定控制。该智能设定系统及方法减少了操作人员的工作量,避免了依靠经验生产的主观性和随意性,使产品质量及其它生产指标得到了有效可靠的保证。
Description
技术领域
本发明涉及工业自动化控制技术领域,尤其涉及一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法。
背景技术
高压溶出为拜耳法氧化铝生产过程中的重要工序,其主要流程是将原料单元磨制出来的合格原矿浆经预脱硅后,用隔膜泵送往溶出机组内,在高温、高压的条件下,溶出矿浆中的有用成分氧化铝,溶出后矿浆经一次洗液稀释后送往沉降槽进行赤泥分离。
高压溶出过程具有机理复杂、强非线性、耦合严重、时变、大滞后、大干扰等特点。目前主要通过人工给定二次加碱流量的设定值,以保证溶出液苛性比值处于工艺规定的目标范围。由于人工控制不及时,在整个调整的过程中存在较大的滞后现象,同时,溶出液苛性比值的影响因素过多,人工难以综合进行考虑,难以保证溶出过程处于最优运行状态,因此很难满足控制目标。
发明内容
要解决的技术问题
(一)本发明的目的是提供一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法,旨在解决氧化铝溶出过程二次加碱流量不能依据实际情况随时调整的问题。
(二)技术方案
为了达到上述的目的,本发明提供一种氧化铝溶出过程智能化设定系统,包括:
数据获取层,用于获取用于计算溶出过程中二次加碱流量的基础数据;
参数录入层,用于录入设定所需参数和边界条件约束;
智能设定层,用于根据所述基础数据结合所述设定所需参数和所述边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正对溶出过程的二次加碱流量的初始值进行设定,得到二次加碱流量的智能设定值。
优选地,所述智能设定层包括:数据通讯模块、变量管理模块、设定条件判断模块、智能设定模块及数据存储模块;
所述数据通讯模块与所述数据获取层信号连接,将采集到的所述基础数据传输到所述变量管理模块;
所述变量管理模块接收所述基础数据并更新所述基础数据的在不同时刻的值,所述变量管理模块还接收所述参数录入层传输的所述设定所需参数以及所述边界条件约束;
所述设定条件判断模块从所述变量管理模块中获取所述基础数据与所述边界条件约束,依据所述基础数据是否在所述边界条件约束的范围值内来判断是否进行智能设定操作,得到条件判断结果;
所述智能设定模块在所述设定条件判断模块的条件判断结果为可进行所述智能设定操作后,通过所述变量管理模块获取所述设定所需参数、边界条件约束以及所述基础数据,利用周期性的前馈校正和反馈校正对氧化铝溶出过程的所述二次加碱流量的初始值进行智能设定;
所述数据存储模块存储所述基础数据、所述设定所需参数以及所述边界条件约束。
优选地,所述设定所需参数包括溶出液苛性比值的目标值以及分别对所述溶出液苛性比值、硅前铝硅比、调配液苛性碱浓度、调配液苛性比值以及溶出赤泥铝硅比调节的第一设定周期、第二设定周期、第三设定周期、第四设定周期以及第五设定周期;
所述边界条件约束包括所述二次加碱流量的上限值、二次加碱流量的下限值,溶出液苛性比值的上限值、溶出液苛性比值的下限值、溶出赤泥铝硅比合格限;
所述基础数据包括运行过程数据和化验数据;所述运行过程数据包括所述二次加碱流量的初始值;所述化验数据包括溶出液苛性比值的化验值、硅前铝硅比的化验值、调配液苛性碱浓度的化验值、调配液苛性比值的化验值以及溶出赤泥铝硅比的化验值。
进一步地,本发明还提供一种采用的氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其包括:
S1、依据所述二次加碱流量的初始值是否在所述二次加碱流量的上限值和所述二次加碱流量的下限值之内,所述溶出液苛性比值的化验值是否在所述溶出液苛性比值的上限值和所述溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否进行所述智能设定操作;
S2、判断可进行所述智能设定操作之后,依据所述基础数据结合所述设定所需参数和所述边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正得到所述二次加碱流量的智能设定值;
S3、依据所述溶出液苛性比值的初始值是否在所述溶出液苛性比值的上限值和所述溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否需要再次进行所述智能设定操作,若判断为需要再次进行所述智能设定操作,则返回步骤S2,若判断不需要再次进行所述智能设定操作,则所述智能设定操作结束。
优选地,步骤S1之前,还包括:
F11、输入所述溶出液苛性比值的目标值、所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期、所述第五设定周期、所述二次加碱流量的上限值、所述二次加碱流量的下限值,所述溶出液苛性比值的上限值、所述溶出液苛性比值的下限值以及所述溶出赤泥铝硅比合格限;
F12、读取所述二次加碱流量的初始值、所述溶出液苛性比值的化验值、硅前铝硅比的化验值的当前时刻值、硅前铝硅比的化验值的上一时刻值、调配液苛性碱浓度的化验值的当前时刻值、调配液苛性碱浓度的化验值的上一时刻值、调配液苛性比值的化验值的当前时刻值、调配液苛性比值的化验值的上一时刻值以及所述溶出赤泥铝硅比的化验值。
优选地,步骤S2包括:
S21、判断可进行所述智能设定操作之后,依据所述溶出液苛性比值的化验值和所述溶出液苛性比值的目标值的比较结果对所述二次加碱流量值进行反馈调整,得出第一设定周期内的二次加碱流量的反馈补偿值;
S22、依据所述硅前铝硅比的化验值、所述调配液苛性碱浓度的化验值、所述调配液苛性比值的化验值的上一时刻值与当前时刻值的比较结果以及所述溶出赤泥铝硅比的化验值与所述溶出赤泥铝硅比合格限的比较结果对所述二次加碱流量进行前馈调整,得出所述第二设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第三设定周期内二次加碱流量的前馈补偿值、所述第四设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值以及所述第五设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值;
S23、将所述第一设定周期内的二次加碱流量的反馈补偿值、所述第二设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第三设定周期内二次加碱流量的前馈补偿值、所述第四设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第五设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值与所述二次加碱流量的初始值相加,得出经调整过的二次加碱流量;
S24、依据所述二次加碱流量的上限值以及所述二次加碱流量的下限值对所述经调整过的二次加碱流量进行限幅,得出所述二次加碱流量的智能设定值。
优选地,步骤S21包括:
S211、判断可进行所述智能设定操作之后,用所述溶出液苛性比值的目标值减去所述溶出液苛性比值的化验值,得出第一跟踪误差;
S212、判断所述第一跟踪误差的绝对值是否小于第一跟踪误差的第一分段值;所述第一跟踪误差的第一分段值为正数;
S213、在所述第一跟踪误差的绝对值小于第一跟踪误差的第一分段值时,保持当前所述二次加碱流量的初始值不变;
S214、在所述第一跟踪误差的绝对值不小于第一跟踪误差的第一分段值时,判断所述第一跟踪误差是否为正数;
S215、在所述第一跟踪误差是正数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述溶出液苛性比值的化验值的反馈补偿值,且随着所述第一跟踪误差越大,所述二次加碱流量的初始值上增加的所述溶出液苛性比值的化验值的反馈补偿值越大;
S216、当所述第一跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述溶出液苛性比值的反馈补偿值,且随着所述第一跟踪误差越小,所述二次加碱流量的初始值上减去的所述溶出液苛性比值的反馈补偿值越大。
优选地,步骤S22包括:
S221a、所述硅前铝硅比的化验值的当前时刻值减去所述硅前铝硅比的化验值的上一时刻值,得出第二跟踪误差;
S222a、判断所述第二跟踪误差的绝对值是否小第二跟踪误差的第一分段值;所述第二跟踪误差的第一分段值为正数;
S223a、在所述第二跟踪误差的绝对值小于所述第二跟踪误差的第一分段值时,保持所述二次加碱流量值的初始值不变;
S224a、在所述第二跟踪误差的绝对值不小于所述第二跟踪误差的第一分段值时,判断所述第二跟踪误差是否为正数;
S225a、在所述第二跟踪误差为正数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述硅前铝硅比的化验值的前馈补偿值;
S226a、在所述第二跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述硅前铝硅比的化验值的前馈补偿值;
S221b、所述调配液苛性碱浓度的化验值的当前时刻值减去所述调配液苛性碱浓度的化验值的上一时刻值,得出第三跟踪误差;
S222b、判断所述第三跟踪误差的绝对值是否小于第三跟踪误差的第一分段值;所述第三跟踪误差的第一分段值为正数;
S223b、在所述第三跟踪误差的绝对值小于所述第三跟踪误差的第一分段值时,保持当前所述二次加碱流量值的初始值不变;
S224b、在所述第三跟踪误差的绝对值不小于所述第三跟踪误差的第一分段值时,判断所述第三跟踪误差是否为正数;
S225b、在所述第三跟踪误差为正数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述调配液苛性碱浓度的化验值的前馈补偿值;
S226b、在所述第三跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述调配液苛性碱浓度的化验值的前馈补偿值;
S221c、所述调配液苛性比值的化验值的当前时刻值减去所述调配液苛性比值的化验值的上一时刻值,得出第四跟踪误差;
S222c、判断所述第四跟踪误差的绝对值是否小于第四跟踪误差的第一分段值;所述第四跟踪误差的第一分段值为正数;
S223c、在所述第四跟踪误差的绝对值小于所述第四跟踪误差的第一分段值时,保持当前所述二次加碱流量值的初始值不变;
S224c、在所述第四跟踪误差的绝对值不小于所述第四跟踪误差的第一分段值时,判断所述第四跟踪误差是否为正数;
S225c、在所述第四跟踪误差为正数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述调配液苛性比值的化验值的前馈补偿值;
S226c、在所述第四跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述调配液苛性比值的化验值的前馈补偿值;
S221d、判断所述溶出赤泥铝硅比的化验值是否大于所述溶出赤泥铝硅比合格限;
S222d、在所述溶出赤泥铝硅比的化验值大于所述溶出赤泥铝硅比合格限时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述溶出赤泥铝硅比的化验值的前馈补偿值;
S223d、在所述溶出赤泥铝硅比的化验值不大于所述溶出赤泥铝硅比合格限时,保持当前所述二次加碱流量值的初始值不变。
优选地,所述设定所需参数中的所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期以及所述第五设定周期同时开始,且所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期以及所述第五设定周期完成后自动进入到所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期以及所述第五设定周期各自对应的下一个设定周期。
优选地,步骤S24包括:
S241、判断所述二次加碱流量的智能设定值是否在所述二次加碱流量的上下限值的范围之内;
S242、在所述二次加碱流量的智能设定值在所述二次加碱流量的上下限值的范围之内,保持所述二次加碱流量的智能设定值不变;
S243、在所述二次加碱流量的智能设定值不在所述二次加碱流量的上下限值的范围之内,在所述二次加碱流量的智能设定值大于所述二次加碱流量的上限值时,将所述二次加碱流量的上限值设为所述二次加碱流量的智能设定值;
S244、在所述二次加碱流量的智能设定值小于所述二次加碱流量的下限值时,将所述二次加碱流量下限值设为所述二次加碱流量的智能设定。
(三)有益效果
本发明的有益效果为:本发明提供了一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,能通过周期性的前馈校正和反馈校正对溶出过程的二次加碱流量的初始值进行设定,得到二次加碱流量的智能设定值,实现了氧化铝溶出系统的智能设定控制。该智能设定系统及方法减少了操作人员的工作量,避免了依靠经验生产的主观性和随意性,使产品质量及其它生产指标得到了有效可靠的保证。
附图说明
图1为本发明一种氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能化设定时的功能示意图;
图2为图1的一种氧化铝溶出过程智能化设定系统的结构示意图;
图3为本发明实施例中一种氧化铝溶出过程的流程示意图;
图4为本发明采用氧化铝溶出过程系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的逻辑流程图;
图5为本发明采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法流程图;
图6为图5的采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法的步骤S21的具体流程示意图;
图7为图5的采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法的步骤S22的具体流程的部分示意图;
图8为图5的采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法的步骤S22的具体流程的部分示意图;
图9为图5的采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法的步骤S22的具体流程的部分示意图;
图10为图5的采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法的步骤S22的具体流程的部分示意图;
图11为用来实现本发明实施例的电子设备的计算机系统的结构示意图;
其中,图7、图8、图9、图10组成步骤S22的完整流程;FT——流量传感器,ak为溶出液苛性比值测点;实线箭头表示物流或信号流;虚线表示传感器与变送器的连接。
【附图标记说明】
100:氧化铝溶出过程智能化设定系统;110:数据获取层;120:参数录入层;130:智能设定层;
200:计算机系统;201:中央处理单元;202:只读存储器;203:随机访问存储器;204:总线;205:I/O接口;206:输入部分;207:输出部分:208:存储部分;209:通信部分;210:驱动器;211:可拆卸介质。
具体实施方式
为了更好的解释本发明,以便于理解,下面结合附图,通过具体实施方式,对本发明作进一步详细描述。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“连接”、“固定”等应做广义理解,例如,“固定”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
图1为本发明一种氧化铝溶出过程智能化设定系统100进行智能化设定时的功能示意图,如图1所示,本发明的一实施例提供了一种氧化铝溶出过程智能化设定系统100,本实施例是控制计算机以Foxview软件等来实现监控人机界面。如图2所示,氧化铝溶出过程智能化设定系统100包括:数据获取层110,用于获取用于计算溶出过程中二次加碱流量的基础数据;参数录入层120,用于获取设定所需参数和边界条件约束;智能设定层130,用于根据基础数据结合设定所需参数和边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正对溶出过程的二次加碱流量的初始值进行设定,得到二次加碱流量的智能设定值。
在上述技术方案中,数据获取层110包括:依次连接的二次碱液变频泵、流量传感器、入料隔膜泵、套管预热器、套管加热器、闪蒸罐、稀释槽以及基础控制回路;二次碱液变频泵安装在入料隔膜泵前,用于控制和调节二次加碱流量;流量传感器安装在二次碱液变频泵之后,用于实时监测二次加碱流量;基本控制回路接收到数据监视与智能设定层130传输的设定值,通过控制二次碱液变频泵进而控制二次加碱流量。
如图3所示,本实施例的数据获取层110为一大型氧化铝厂的一段溶出系统,溶出过程的基本流程为:经过预脱硅后的脱硅矿浆与二次加碱液混合构成合格的原矿浆,由隔膜泵进入一级预热套管,经过乏汽预热,新蒸汽加热以及停留管保温进入11级自蒸发器进行闪蒸。闪蒸过程产生的乏汽用于预热套管加热,冷凝水进入11级冷凝水罐。新蒸汽加热套管所用的新蒸汽来自电厂。溶出后矿浆经一次洗液稀释后送往沉降槽进行赤泥分离。计算机通过DCS读取二次加碱流量及溶出液苛性比值化验值,并将计算出的二次加碱流量通过DCS传输到二次碱液变频泵,从而实现对二次加碱流量的智能设定。本发明的氧化铝溶出过程智能化设定系统100既可以运行在有计算机控制系统的监控计算机上,也可以运行于独立的设定计算机上,该软件通过与控制计算机(分布式计算机控制系统(DCS)、或可编程逻辑控制器(PLC)、或工业控制计算机(IPC))进行通讯,获得相关数据,并给出基本控制回路的二次加碱流量的智能设定值。
智能设定层130主要包括:数据通讯模块、变量管理模块、设定条件判断模块、智能设定模块、数据存储模块、数据监视模块、指标监视模块、生产操作指导模块;数据通讯模块与数据获取层110信号连接,将采集到的基础数据传输到变量管理模块,进而为智能设定层130提供所需的基础数据;变量管理模块接收基础数据并更新基础数据的在不同时刻的值,并将数据保存到数据存储模块。变量管理模块还接收参数录入层120传输的设定所需参数与边界条件约束以及智能设定模块对二次加碱流量进行智能设定后得到的二次加碱流量的智能设定值;设定条件判断模块从变量管理模块中获取基础数据与边界条件约束,依据基础数据是否在边界条件约束的范围值内来判断是否进行智能设定操作,得到条件判断结果;在设定条件判断模块的条件判断结果为可进行智能设定操作后,通过变量管理模块获取设定所需参数、边界条件约束以及基础数据,利用周期性的前馈校正和反馈校正对氧化铝溶出过程的二次加碱流量的初始值进行智能设定;数据存储模块存储变量管理模块传输过来的基础数据、设定所需参数、边界条件约束以及二次加碱流量的智能设定值;数据监视模块获取数据存储模块中的新蒸汽压力、进料流量、反应温度等数据的实时采样值并进行显示,还可以读取基础数据的历史值并绘制数据的变化趋势图,以对溶出过程的运行情况进行监视;指标监视模块获取数据存储模块中的基础数据,在后台软件(python)通过计算公式计算出溶出液苛性比值合格率并将结果进行显示;生产操作指导模块从变量管理模块获取二次加碱流量的上一时刻智能设定值、二次加碱流量的当前时刻智能设定值以及智能设定所需的时间并将这些数据显示出来,当工况异常或控制效果不佳时,可通过该模块进行一定的干预调节,通过调整二次加碱流量从而将溶出液苛性比值控制在边界条件约束的范围值内。
在更具体的实施方式中,设定所需参数包括溶出液苛性比值的目标值r1*=1.39以及分别对溶出液苛性比值、硅前铝硅比、调配液苛性碱浓度、调配液苛性比值以及溶出赤泥铝硅比调节的第一设定周期T1=120min、第二设定周期T2=500min、第三设定周期T3=120min、第四设定周期T4=120min以及第五设定周期T5=500min。
边界条件约束包括二次加碱流量的下限值ymin为20m3/h,二次加碱流量的上限值ymax为260m3/h,溶出液苛性比值的上限值1.36,溶出液苛性比值下限值为1.41以及溶出赤泥铝硅比合格限,这些边界条件约束保证了智能化设定系统运行在正常工作范围内。
基础数据包括运行过程数据和化验数据;运行过程数据包括二次加碱流量的初始值y;化验数据包括溶出液苛性比值的化验值r1、硅前铝硅比的化验值r2、调配液苛性碱浓度的化验值r3、调配液苛性比值的化验值r4以及溶出赤泥铝硅比的化验值r5。
另外的,如图4所示,本发明采用氧化铝溶出过程系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的逻辑流程如下:
F11:在参数录入层120输入溶出液苛性比值的目标值r1*=1.39、第一设定周期T1=120min、第二设定周期T2=500min、第三设定周期T3=120min、第四设定周期T4=120min、第五设定周期T5=500min、二次加碱流量的下限值ymin=20m3/h、二次加碱流量的上限值ymax=260m3/h,溶出液苛性比值的上限值1.36、溶出液苛性比值的下限值1.41以及溶出赤泥铝硅比合格限1.19。
F12:数据通讯模块读取二次加碱流量的初始值、溶出液苛性比值的化验值r1、硅前铝硅比的化验值r2的当前时刻值与上一时刻值、调配液苛性碱浓度的化验值r3的当前时刻值与上一时刻值、调配液苛性比值的化验值r4的当前时刻值与上一时刻值、溶出赤泥铝硅比的化验值r5,然后将这些数据传输到变量管理模块,并保存到数据存储模块中。
如图5所示,采用氧化铝溶出系统智能化设定系统进行溶出过程智能设定的方法如下:
S1、依据二次加碱流量的初始值是否在二次加碱流量的上限值ymax和二次加碱流量的下限值ymin之内,溶出液苛性比值的化验值是否在溶出液苛性比值的上限值和溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否进行智能设定操作。
在步骤S2之前还包括:基础控制回路进行二次加碱流量的预设定。具体步骤为基础控制回路依据当前工况,根据之前的数据储存模块中数据模型给出合适的二次加碱流量的预设定值。
S2、判断可进行智能设定操作之后,依据基础数据结合设定所需参数和边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正得到二次加碱流量的智能设定值。在步骤S2之前还包括:判断是否需要进行周期性的前馈校正和反馈校正,若是不需要进行周期性的前馈校正和反馈校正,则直接进入步骤S24进行工况限幅,以使得系统运行在正常的工作状态下。
S21、判断可进行智能设定操作之后,依据溶出液苛性比值的化验值r1和溶出液苛性比值的目标值r1 *的比较结果对二次加碱流量进行反馈调整,得出第一设定周期T1内的二次加碱流量的反馈补偿值。如图6所示,步骤S21包括:
S211、判断可进行智能设定操作之后,用溶出液苛性比值的目标值r1 *减去溶出液苛性比值的化验值r1,得出第一跟踪误差e1。将第一跟踪误差按大小分为6段,分别得出第一跟踪误差的第一分段值m1、第一跟踪误差的第二分段值m2、第一跟踪误差的第三分段值m3、第一跟踪误差的第四分段值m4以及第一跟踪误差的第五分段值m5,其中0<m1<m2<m3<m4<m5。ysp1(T1)为在第一设定周期内的二次加碱流量的当前时刻值,ysp1(T1-1)为在第一设定周期内的二次加碱流量的上一时刻值。Δ1、Δ2、Δ3、Δ4、Δ5分别是溶出液苛性比值的第一反馈补偿值、第二反馈补偿值、第三反馈补偿值、第四反馈补偿值、第五反馈补偿值,其中0<Δ1<Δ2<Δ3<Δ4<Δ5;当第一设定周期T1完成时,自动进入下一个第一设定周期T1。
S212、判断第一跟踪误差的绝对值|e1|是否小于第一误差分段值m1,其中m1>0。;
S213、在第一跟踪误差的绝对值|e1|小于第一跟踪误差的第一分段值m1时,保持二次加碱流量不变,具体规则如下:
Rule 1:if |e1|<m1,ysp1(T1)=ysp1(T1-1)。
S214、在第一跟踪误差的绝对值|e1|不小于第一跟踪误差的第一分段值m1时,判断第一跟踪误差e1是否为正数。
S215、在第一跟踪误差e1是正数时,在二次加碱流量的初始值上增加溶出液苛性比值的化验值r1的反馈补偿值,且随着第一跟踪误差e1越大,二次加碱流量的初始值上增加的溶出液苛性比值的化验值r1的反馈补偿值越大,具体规则如下:
Rule 2:if m1≤e1<m2,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)+Δ1;
Rule 3:if m2≤e1<m3,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)+Δ2;
Rule 4:if m3≤e1<m4,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)+Δ3;
Rule 5:if m4≤e1<m5,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)+Δ4;
Rule 6:if e1≥m5,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)+Δ5。
S216、当第一跟踪误差e1为负数时,在二次加碱流量的初始值上减去溶出液苛性比值的反馈补偿值,且随着第一跟踪误差e1越小,二次加碱流量的初始值上减去的溶出液苛性比值的化验值r1的反馈补偿值越大,具体规则如下:
Rule 7:if -m2<e1≤-m1,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)-Δ1;
Rule 8:if -m3<e1≤-m2,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)-Δ2;
Rule 9:if -m4<e1≤-m3,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)-Δ3;
Rule 10:if -m5<e1≤-m4,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)-Δ4;
Rule 11:if e1≤-m5,then ysp1(T1)=ysp1(T1-1)-Δ5。
S22、依据硅前铝硅比的化验值r2、调配液苛性碱浓度的化验值r3、调配液苛性比值的化验值r4的上一时刻值与当前时刻值的比较结果以及溶出赤泥铝硅比的化验值r5与溶出赤泥铝硅比合格限(例如可以设定为1.19)的比较结果对二次加碱流量进行前馈调整,得出所述第二设定周期T2内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第三设定周期T3内二次加碱流量的前馈补偿值、所述第四设定周期T4内的二次加碱流量的前馈补偿值以及所述第五设定周期T5内的二次加碱流量的前馈补偿值。其步骤包括:
如图7所示,S221a、硅前铝硅比的化验值r2的当前时刻值减去硅前铝硅比的化验值r2的上一时刻值,得出第二跟踪误差e2。将第二跟踪误差e2分为两段,得出第二跟踪误差的第一分段值n1。ysp2(T2)为在第二设定周期T2内的二次加碱流量的上一时刻值,ysp2(T2-1)为在第二设定周期T2内的二次加碱流量的上一时刻值。Δ6是硅前铝硅比的化验值r2的前馈补偿值,Δ6>0;当一个第二设定周期T2完成后,自动进入下一个第二设定周期T2。
S222a、判断第二跟踪误差的绝对值|e2|是否小第二跟踪误差的第一分段值n1;其中n1>0。
S223a、在第二跟踪误差的绝对值|e2|小于第二跟踪误差的第一分段值n1时,保持二次加碱流量值的初始值不变,具体规则如下:
Rule 12:if |e2|<n1,then ysp2(T2)=ysp2(T2-1)。
S224a、在第二跟踪误差的绝对值|e2|不小于第二跟踪误差的第一分段值n1时,判断第二跟踪误差e2是否为正数。
S225a、在第二跟踪误差e2为正数时,在二次加碱流量的初始值上增加硅前铝硅比的化验值r2的前馈补偿值Δ6,具体规则如下:
Rule 13:if e2≥m6,then ysp2(T2)=ysp2(T2-1)+Δ6。
S226a、在第二跟踪误差e2为负数时,在二次加碱流量的初始值上减去的硅前铝硅比的化验值r2的前馈补偿值Δ6,具体规则如下:
Rule 14:if e2≤-m6,then ysp2(T2)=ysp2(T2-1)-Δ6。
如图8所示,S221b、调配液苛性碱浓度的化验值r3的当前时刻值减去调配液苛性碱浓度的化验值r3的上一时刻值,得出第三跟踪误差e3。将e3分为两段,得出第三跟踪误差的第一分段值o1。ysp3(T3)为在第三设定周期内的二次加碱流量的当前时刻值,ysp3(T3-1)为在第三设定周期内的二次加碱流量的上一时刻值。Δ7是调配液苛性碱浓度的化验值r3的前馈补偿值,Δ7>0;当一个第三设定周期T3完成时,自动进入下一个第三设定周期T3。
S222b、判断第三跟踪误差的绝对值|e3|是否小于第三跟踪误差的第一分段值o1;其中o1>0。
S223b、在第三跟踪误差的绝对值|e3|小于第三跟踪误差的第一分段值o1时,保持当前二次加碱流量值的初始值不变,规则如下:
Rule 15:if |e3|<O1,then ysp3(T3)=ysp3(T3-1)。
S224b、在第三跟踪误差的绝对值|e3|不小于第三跟踪误差的第一分段值o1时,判断第三跟踪误差e3是否为正数。
S225b、在第三跟踪误差e3为正数时,在二次加碱流量的初始值上减去调配液苛性碱浓度的化验值r3的前馈补偿值Δ7,具体规则如下:
Rule 16:if e3≥O1,then ysp3(T3)=ysp3(T3-1)-Δ7。
S226b、在第三跟踪误差e3为负数时,在二次加碱流量的初始值上增加调配液苛性碱浓度的化验值r3的前馈补偿值Δ7,具体规则如下:
Rule 17:if e3≤-O1,then ysp3(T3)=ysp3(T3-1)+Δ7。
如图9所示,S221c、调配液苛性比值的化验值r4的当前时刻值减去调配液苛性比值的化验值r4的上一时刻值,得出第四跟踪误差e4,将第四跟踪误差e4分为两段,得出第四跟踪误差的第一分段值p1。ysp4(T4)为在第四设定周期内的二次加碱流量的当前时刻值,ysp4(T4-1)为在第四设定周期内的二次加碱流量的上一时刻值。Δ8是调配液苛性比值的化验值r4的前馈补偿值,Δ8>0;当第四设定周期T4完成后,自动进入下一个第四设定周期T4。
S222c、判断第四跟踪误差e4的绝对值是否小于第四跟踪误差的第一分段值;其中p1>0。
S223c、在第四跟踪误差的绝对值|e4|小于第四跟踪误差的第一分段值p1时,保持当前二次加碱流量值的初始值不变。其规则如下:
Rule 18:if |e4|<p1,then ysp4(T4)=ysp4(T4-1)。
S224c、在第四跟踪误差的绝对值|e4|不小于第四跟踪误差的第一分段值p1时,判断第四跟踪误差是否为正数;
S225c、在第四跟踪误差e4为正数时,在二次加碱流量的初始值上减去调配液苛性比值的化验值r4的前馈补偿值Δ8。其规则如下;
Rule 19:if e4≥p1,then ysp4(T4)=ysp4(T4-1)-Δ8。
S226c、在第四跟踪误差e4为负数时,在二次加碱流量的初始值上增加调配液苛性比值的化验值r4的前馈补偿值Δ8;其规则如下;
Rule 20:if e4≤-p1,then ysp4(T4)=ysp4(T4-1)+Δ8。
如图10所示,S221d、判断溶出赤泥铝硅比的化验值r5是否大于溶出赤泥铝硅比合格限;ysp5(T5)为在第五设定周期内的二次加碱流量的当前时刻值,ysp5(T5-1)为在第五设定周期内的二次加碱流量的上一时刻值。Δ9是溶出赤泥铝硅比的化验值的前馈补偿值,Δ9>0;当一个第五设定周期T5完成后,自动进入下一个第五设定周期T5。
S222d、在溶出赤泥铝硅比的化验值r5大于溶出赤泥铝硅比合格限时,在二次加碱流量的初始值上增加溶出赤泥铝硅比的化验值r5的前馈补偿值Δ9。其规则如下:
Rule 21:if r5>1.19,then ysp5(T5)=ysp5(T5-1)+Δ9。
S223d、在溶出赤泥铝硅比的化验值r5不大于溶出赤泥铝硅比合格限时,保持二次加碱流量的初始值不变。
Rule 22:if r5≤1.19,then ysp5(T5)=ysp5(T5-1)。
S23、将第一设定周期T1内的二次加碱流量的反馈补偿值、第二设定周期T2内的二次加碱流量的前馈补偿值、第三设定周期T3内的二次加碱流量的前馈补偿值、第四设定周期T4内的二次加碱流量的前馈补偿值、第五设定周期T5内的二次加碱流量的前馈补偿值与二次加碱流量的初始值相加,得出经调整过的二次加碱流量为;
ysp(T)=ysp(T-1)+ysp(T1)-ysp(T1-1)+ysp(T2)-ysp(T2-1)+ysp(T3)-ysp(T3-1)+ysp(T4)-ysp(T4-1)+ysp(T5)-ysp(T5-1)
其中,ysp(T)为经调整过的二次加碱流量,ysp(T-1)为二次加碱流量的初始值,T为对二次加碱流量进行一次智能设定所需的设定周期;
ysp(T1)-ysp(T1-1)为第一设定周期T1内的二次加碱流量的反馈补偿值;
ysp(T2)-ysp(T2-1)为第二设定周期T2内的二次加碱流量的前馈补偿值;
ysp(T3)-ysp(T3-1)为第三设定周期T3内的二次加碱流量的前馈补偿值;
ysp(T4)-ysp(T4-1)为第四设定周期T4内的二次加碱流量的前馈补偿值;
ysp(T5)-ysp(T5-1)为第五设定周期T5内的二次加碱流量的前馈补偿值。
进一步地,设定所需参数中的第一设定周期T1、第二设定周期T2、第三设定周期T3、第四设定周期T4以及第五设定周期T5同时开始,且第一设定周期T1、第二设定周期T2、第三设定周期T3、第四设定周期T4以及第五设定周期T5完成后自动进入到第一设定周期T1、第二设定周期T2、第三设定周期T3、第四设定周期T4以及第五设定周期T5各自对应的下一个设定周期。
S24、依据二次加碱流量的上限值ymax以及二次加碱流量的下限值ymin对经调整过的二次加碱流量进行限幅,得出二次加碱流量的智能设定值。此步骤的意义在于,为了保证氧化铝溶出过程智能化设定系统100在正常范围内运行,所以必须对经调整过的二次加碱流量进行限幅处理。
步骤S24包括:
S241、判断二次加碱流量的智能设定值是否在二次加碱流量的上下限值的范围之内。
S242、在二次加碱流量的智能设定值在二次加碱流量的上下限值的范围之内,保持二次加碱流量的智能设定值不变。
S243、在二次加碱流量的智能设定值不在二次加碱流量的上下限值的范围之内,在二次加碱流量的智能设定值大于二次加碱流量的上限值ymax时,将二次加碱流量的上限值ymax设为二次加碱流量的智能设定值。
具体规则如下:
Rule 23:if ysp(T)>ymax,then ysp(T)=ymax。
S244、在二次加碱流量的智能设定值小于二次加碱流量的下限值ymin时,将二次加碱流量下限值ymin设为二次加碱流量的智能设定值。具体规则如下:
Rule 24:if ysp(T)<ymin,then ysp(T)=ymin。
S3、依据溶出液苛性比值的初始值是否在溶出液苛性比值的上限值和溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否需要再次进行智能设定操作,若判断为需要再次进行智能设定操作,则返回步骤S2,若判断不需要再次进行智能设定操作,则智能设定操作结束。
在步骤S3之前,基本控制回路接收智能设定层130传输过来二次加碱流量的智能设定值,通过控制二次碱液变频泵频率进而控制二次加碱流量的初始值最终等于二次加碱流量的智能设定值。
下面参考图2,其表示出了适于用来实现本发明实施例的氧化铝溶出过程智能化设定系统100的结构示意图。图11示出的控制计算机仅是一个示例,不应对本发明实施例的功能和使用范围带来任何限制。
如图11所示,其表示出适于用来实现本发明实施例的电子设备的计算机系统200的结构示意图,计算机系统200包括中央处理单元(CPU)201,其可以根据存储在只读存储器(ROM)202中的程序或者从存储部分208加载到随机访问存储器(RAM)203中的程序而执行各种适当的动作和处理。在RAM 203中,还存储有系统操作所需的各种程序和数据。CPU 201、ROM 202以及RAM 203通过总线204彼此相连。输入/输出(I/O)接口205也连接至总线204。
以下部件连接至I/O接口205:包括键盘、鼠标等的输入部分206;包括诸如阴极射线管(CRT)、液晶显示器(LCD)等以及扬声器等的输出部分207;包括硬盘等的存储部分208;以及包括诸如LAN卡、调制解调器等的网络接口卡的通信部分209。通信部分209经由诸如因特网的网络执行通信处理。驱动器210也根据需要连接至I/O接口205。可拆卸介质211,诸如磁盘、光盘、磁光盘、半导体存储器等等,根据需要安装在驱动器210上,以便于从其上读出的计算机程序根据需要被安装入存储部分208。
特别地,根据本发明的实施例,上文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如,本发明的实施例包括一种计算机程序产品,其包括承载在计算机可读介质上的计算机程序,该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中,该计算机程序可以通过通信部分209从网络上被下载和安装,和/或从可拆卸介质211被安装。在该计算机程序被中央处理单元(CPU)201执行时,执行本申请的系统中限定的上述功能。
需要说明的是,本发明所示的计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质或者是上述两者的任意组合。计算机可读存储介质例如可以是——但不限于——电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件,或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子可以包括但不限于:具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦式可编程只读存储器(EPROM或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(CD-ROM)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本发明中,计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质,该程序可以被指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用。而在本发明中,计算机可读的信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号,其中承载了计算机可读的程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式,包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。计算机可读的信号介质还可以是计算机可读存储介质以外的任何计算机可读介质,该计算机可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用的程序。计算机可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输,包括但不限于:无线、电线、光缆、RF等等,或者上述的任意合适的组合。
附图中的流程图和框图,图示了按照本发明各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上,流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分,上述模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意,在有些作为替换的实现中,方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如,两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行,它们有时也可以按相反的顺序执行,这依所涉及的功能而定。也要注意的是,框图或流程图中的每个方框、以及框图或流程图中的方框的组合,可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现,或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
描述于本发明实施例中所涉及到的单元可以通过软件的方式实现,也可以通过硬件的方式来实现,所描述的单元也可以设置在处理器中。其中,这些单元的名称在某种情况下并不构成对该单元本身的限定。
Claims (8)
1.一种氧化铝溶出过程智能化设定系统,其特征在于,包括:
数据获取层,用于获取用于计算溶出过程中二次加碱流量的基础数据;
参数录入层,用于录入设定所需参数和边界条件约束;
智能设定层,用于根据所述基础数据结合所述设定所需参数和所述边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正对溶出过程的二次加碱流量的初始值进行设定,得到二次加碱流量的智能设定值;
所述智能设定层包括:数据通讯模块、变量管理模块、设定条件判断模块、智能设定模块及数据存储模块;
所述数据通讯模块与所述数据获取层信号连接,将采集到的所述基础数据传输到所述变量管理模块;
所述变量管理模块接收所述基础数据并更新所述基础数据的在不同时刻的值,所述变量管理模块还接收所述参数录入层传输的所述设定所需参数以及所述边界条件约束;
所述设定条件判断模块从所述变量管理模块中获取所述基础数据与所述边界条件约束,依据所述基础数据是否在所述边界条件约束的范围值内来判断是否进行智能设定操作,得到条件判断结果;
所述智能设定模块在所述设定条件判断模块的条件判断结果为可进行所述智能设定操作后,通过所述变量管理模块获取所述设定所需参数、边界条件约束以及所述基础数据,利用周期性的前馈校正和反馈校正对氧化铝溶出过程的所述二次加碱流量的初始值进行智能设定;
所述数据存储模块存储所述基础数据、所述设定所需参数以及所述边界条件约束;
所述设定所需参数包括溶出液苛性比值的目标值以及分别对溶出液苛性比值、硅前铝硅比、调配液苛性碱浓度、调配液苛性比值以及溶出赤泥铝硅比调节的第一设定周期、第二设定周期、第三设定周期、第四设定周期以及第五设定周期;
所述边界条件约束包括二次加碱流量的上限值、二次加碱流量的下限值,溶出液苛性比值的上限值、溶出液苛性比值的下限值、溶出赤泥铝硅比合格限;
所述基础数据包括运行过程数据和化验数据;所述运行过程数据包括二次加碱流量的初始值;所述化验数据包括溶出液苛性比值的化验值、硅前铝硅比的化验值、调配液苛性碱浓度的化验值、调配液苛性比值的化验值以及溶出赤泥铝硅比的化验值。
2.一种采用权利要求1所述的氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,包括:
S1、依据所述二次加碱流量的初始值是否在所述二次加碱流量的上限值和所述二次加碱流量的下限值之内,所述溶出液苛性比值的化验值是否在所述溶出液苛性比值的上限值和所述溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否进行所述智能设定操作;
S2、判断可进行所述智能设定操作之后,依据所述基础数据结合所述设定所需参数和所述边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正得到所述二次加碱流量的智能设定值;
S3、依据所述溶出液苛性比值的初始值是否在所述溶出液苛性比值的上限值和所述溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否需要再次进行所述智能设定操作,若判断为需要再次进行智能设定操作,则返回步骤S2,若判断不需要再次进行智能设定操作,则所述智能设定操作结束。
3.根据权利要求2所述的采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,在依据所述二次加碱流量的初始值是否在所述二次加碱流量的上限值和所述二次加碱流量的下限值之内,所述溶出液苛性比值的初始值是否在所述溶出液苛性比值的上限值和所述溶出液苛性比值的下限值之内,来判断是否进行所述智能设定操作之前,还包括:
F11、输入所述溶出液苛性比值的目标值、所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期、所述第五设定周期、所述二次加碱流量的上限值、所述二次加碱流量的下限值,所述溶出液苛性比值的上限值、所述溶出液苛性比值的下限值以及所述溶出赤泥铝硅比合格限;
F12、读取所述二次加碱流量的初始值、所述溶出液苛性比值的化验值、硅前铝硅比的化验值的当前时刻值、硅前铝硅比的化验值的上一时刻值、调配液苛性碱浓度的化验值的当前时刻值、调配液苛性碱浓度的化验值的上一时刻值、调配液苛性比值的化验值的当前时刻值、调配液苛性比值的化验值的上一时刻值以及所述溶出赤泥铝硅比的化验值。
4.根据权利要求2所述的采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,判断可进行所述智能设定操作之后,依据所述基础数据结合所述设定所需参数和所述边界条件约束,通过周期性的前馈校正和反馈校正得到所述二次加碱流量的智能设定值包括:
S21、判断可进行所述智能设定操作之后,依据所述溶出液苛性比值的化验值和所述溶出液苛性比值的目标值的比较结果对所述二次加碱流量值进行反馈调整,得出第一设定周期内的二次加碱流量的反馈补偿值;
S22、依据所述硅前铝硅比的化验值、所述调配液苛性碱浓度的化验值、所述调配液苛性比值的化验值的上一时刻值与当前时刻值的比较结果以及所述溶出赤泥铝硅比的化验值与所述溶出赤泥铝硅比合格限的比较结果对所述二次加碱流量进行前馈调整,得出所述第二设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第三设定周期内二次加碱流量的前馈补偿值、所述第四设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值以及所述第五设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值;
S23、将所述第一设定周期内的二次加碱流量的反馈补偿值、所述第二设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第三设定周期内二次加碱流量的前馈补偿值、所述第四设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第五设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值与所述二次加碱流量的初始值相加,得出经调整过的二次加碱流量;
S24、依据所述二次加碱流量的上限值以及所述二次加碱流量的下限值对所述经调整过的二次加碱流量进行限幅,得出所述二次加碱流量的智能设定值。
5.根据权利要求4所述的采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,判断可进行所述智能设定操作之后,依据所述溶出液苛性比值的化验值和所述溶出液苛性比值的目标值的比较结果对所述二次加碱流量值进行反馈调整,得出第一设定周期内的二次加碱流量的反馈补偿值包括:
S211、判断可进行所述智能设定操作之后,用所述溶出液苛性比值的目标值减去所述溶出液苛性比值的化验值,得出第一跟踪误差;
S212、判断所述第一跟踪误差的绝对值是否小于第一跟踪误差的第一分段值;所述第一跟踪误差的第一分段值为正数;
S213、在所述第一跟踪误差的绝对值小于第一跟踪误差的第一分段值时,保持所述二次加碱流量的初始值不变;
S214、在所述第一跟踪误差的绝对值不小于第一跟踪误差的第一分段值时,判断所述第一跟踪误差是否为正数;
S215、在所述第一跟踪误差是正数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述溶出液苛性比值化验值的反馈补偿值,且随着所述第一跟踪误差越大,所述二次加碱流量的初始值上增加的所述溶出液苛性比值化验值的反馈补偿值越大;
S216、当所述第一跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述溶出液苛性比值的反馈补偿值,且随着所述第一跟踪误差越小,所述二次加碱流量的初始值上减去的所述溶出液苛性比值的反馈补偿值越大。
6.根据权利要求4所述的采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,依据所述硅前铝硅比的化验值、所述调配液苛性碱浓度的化验值、所述调配液苛性比值的化验值的上一时刻值与当前时刻值的比较结果以及所述溶出赤泥铝硅比的化验值与所述溶出赤泥铝硅比合格限的比较结果对所述二次加碱流量进行前馈调整,得出所述第二设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值、所述第三设定周期内二次加碱流量的前馈补偿值、所述第四设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值以及所述第五设定周期内的二次加碱流量的前馈补偿值包括:
S221a、所述硅前铝硅比的化验值的当前时刻值减去所述硅前铝硅比的化验值的上一时刻值,得出第二跟踪误差;
S222a、判断所述第二跟踪误差的绝对值是否小第二跟踪误差的第一分段值;所述第二跟踪误差的第一分段值为正数;
S223a、在所述第二跟踪误差的绝对值小于所述第二跟踪误差的第一分段值时,保持所述二次加碱流量值的初始值不变;
S224a、在所述第二跟踪误差的绝对值不小于所述第二跟踪误差的第一分段值时,判断所述第二跟踪误差是否为正数;
S225a、在所述第二跟踪误差为正数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述硅前铝硅比的化验值的前馈补偿值;
S226a、在所述第二跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述硅前铝硅比的化验值的前馈补偿值;
S221b、所述调配液苛性碱浓度的化验值的当前时刻值减去所述调配液苛性碱浓度的化验值的上一时刻值,得出第三跟踪误差;
S222b、判断所述第三跟踪误差的绝对值是否小于第三跟踪误差的第一分段值;所述第三跟踪误差的第一分段值为正数;
S223b、在所述第三跟踪误差的绝对值小于所述第三跟踪误差的第一分段值时,保持当前所述二次加碱流量值的初始值不变;
S224b、在所述第三跟踪误差的绝对值不小于所述第三跟踪误差的第一分段值时,判断所述第三跟踪误差是否为正数;
S225b、在所述第三跟踪误差为正数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述调配液苛性碱浓度的化验值的前馈补偿值;
S226b、在所述第三跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述调配液苛性碱浓度的化验值的前馈补偿值;
S221c、所述调配液苛性比值的化验值的当前时刻值减去所述调配液苛性比值的化验值的上一时刻值,得出第四跟踪误差;
S222c、判断所述第四跟踪误差的绝对值是否小于第四跟踪误差的第一分段值;所述第四跟踪误差的第一分段值为正数;
S223c、在所述第四跟踪误差的绝对值小于所述第四跟踪误差的第一分段值时,保持当前所述二次加碱流量值的初始值不变;
S224c、在所述第四跟踪误差的绝对值不小于所述第四跟踪误差的第一分段值时,判断所述第四跟踪误差是否为正数;
S225c、在所述第四跟踪误差为正数时,在所述二次加碱流量的初始值上减去所述调配液苛性比值的化验值的前馈补偿值;
S226c、在所述第四跟踪误差为负数时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述调配液苛性比值的化验值的前馈补偿值;
S221d、判断所述溶出赤泥铝硅比的化验值是否大于所述溶出赤泥铝硅比合格限;
S222d、在所述溶出赤泥铝硅比的化验值大于所述溶出赤泥铝硅比合格限时,在所述二次加碱流量的初始值上增加所述溶出赤泥铝硅比的化验值的前馈补偿值;
S223d、在所述溶出赤泥铝硅比的化验值不大于所述溶出赤泥铝硅比合格限时,保持当前所述二次加碱流量值的初始值不变。
7.根据权利要求2所述的采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,所述设定所需参数中的所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期以及所述第五设定周期同时开始,且所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期以及所述第五设定周期完成后自动进入到所述第一设定周期、所述第二设定周期、所述第三设定周期、所述第四设定周期以及所述第五设定周期各自对应的下一个设定周期。
8.根据权利要求4所述的采用氧化铝溶出过程智能化设定系统进行智能设定的方法,其特征在于,依据二次加碱流量的上限值以及二次加碱流量的下限值对所述经调整过的二次加碱流量进行限幅,得出所述二次加碱流量的智能设定值包括:
S241、判断所述二次加碱流量的智能设定值是否在所述二次加碱流量的上下限值的范围之内;
S242、在所述二次加碱流量的智能设定值在所述二次加碱流量的上下限值的范围之内,保持所述二次加碱流量的智能设定值不变;
S243、在所述二次加碱流量的智能设定值不在所述二次加碱流量的上下限值的范围之内,在所述二次加碱流量的智能设定值大于所述二次加碱流量的上限值时,将所述二次加碱流量的上限值设为所述二次加碱流量的智能设定值;
S244、在所述二次加碱流量的智能设定值小于所述二次加碱流量的下限值时,将所述二次加碱流量下限值设为所述二次加碱流量的智能设定值。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911196467.7A CN110850833B (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201911196467.7A CN110850833B (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110850833A CN110850833A (zh) | 2020-02-28 |
CN110850833B true CN110850833B (zh) | 2022-08-23 |
Family
ID=69606053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201911196467.7A Active CN110850833B (zh) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | 一种氧化铝溶出过程智能化设定系统及方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110850833B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113608560B (zh) * | 2021-06-18 | 2023-08-25 | 东北大学 | 一种氧化铝碱液调配过程的控制系统 |
CN113467295B (zh) * | 2021-06-18 | 2022-10-25 | 东北大学 | 一种氧化铝溶出过程的自动控制方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9458388B2 (en) * | 2008-11-03 | 2016-10-04 | Nalco Company | Development and implementation of analyzer based on control system and algorithm |
-
2019
- 2019-11-29 CN CN201911196467.7A patent/CN110850833B/zh active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN110850833A (zh) | 2020-02-28 |
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PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |