CN110713295A - 一种电絮凝及气浮一体化设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电絮凝及气浮一体化设备,包括用于存放待处理废水的调节池、调节池通过管路连接多级处理装置,管路上设有水泵,水泵与多级处理装置之间的管路上设有气泡发生装置;多级处理装置包括依次设置的初步沉降区、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区及紫外消毒杀菌区,净化后的废水从多级处理装置排出。本发明实现在一台设备中将电絮凝工艺与气浮工艺结合为一体,有效的解决了现有技术中这两种工艺由两台不同设备分开处理,因此设备占用空间较大的问题。同时,本发明还提高了分离效率,且具有高度的自动化水平,便于人员的操作、运行维护与管理。
Description
技术领域
本发明属于污水处理领域,具体涉及一种电絮凝及气浮一体化设备。
背景技术
电絮凝是利用可溶性金属阳极在电解过程中产生的金属氢氧化物絮凝除去水中污染物质的水处理工艺。现实中,阳极材料通常采用铝、铁等易得而廉价的金属,以铁为例,基本反映如下:阳极反映:Fe+2e-→Fe2+,阴极反映:2H2O+2e→H2+2OH-,水解反映:Fe2++2OH-→Fe(OH)2,电解生成的氢氧化亚铁沉淀具有良好的絮凝、吸附性能,能有效地从废水中去除污染物质。同时电解时阴极析出的氢气能形成大量微小的气泡,具有良好的气浮分离效果,因此,电絮凝通常也称作电絮凝-气浮工艺。另外,电解过程中阳极表面会发生电氧化反应,而电解产生的亚铁粒子和阴极析出的新生态氢具有较强的还原性,因此电絮凝工艺还具有氧化还原功能。现有电絮凝-气浮一体化设备,设备仅利用电解产生的少量气泡与絮体结合实现絮体在水中的上浮,通过顶部刮渣机收集浮渣,该类设备沉降时间长,占地面积大,机械结构复杂,动件较多,不利于实现自动控制。电絮凝反应部分位于气浮内部,设备检修需停产,排空设备,操作难度较大。设备敞口运行,会有气体溢出,同时会增加水中的溶解氧含量,不能处理含天然气等可燃气体来液,不能应用于防爆要求较高的环境。
综上所述,为了推动电絮凝工艺在废水处理行业中的应用,必须对传统电絮凝处理反应器做进一步的改进,提高分离效率,并且降低处理能耗和简化运行维护操作。
发明内容
本发明的目的在于针对上述现有技术中设备自动化程度不足,运维成本高,适用范围受限,处理效率不高的问题,提供一种电絮凝及气浮一体化设备,能够减少设备总占地面积,提高分离效率,并且具有高度自动化的特点,便于人员操作以及运行维护与管理。
为了实现上述目的,本发明的电絮凝及气浮一体化设备,包括用于存放待处理废水的调节池、调节池通过管路连接多级处理装置,管路上设有水泵,水泵与多级处理装置之间的管路上设有气泡发生装置;多级处理装置包括依次设置的初步沉降区、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区及紫外消毒杀菌区,净化后的废水从多级处理装置排出。
优选的,所述的多级处理装置包括开设有进水口和出水口的封闭壳体,封闭壳体内部设置有若干个隔板,通过隔板将封闭壳体的内部空间分隔为初步沉降区、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区及紫外消毒杀菌区,在每个隔板上开设有连通口。所述的进水口和出水口均开设在封闭壳体的侧壁上部,初步沉降区与曝气及沉淀一次处理区之间隔板的连通口开设在隔板的下部,曝气及沉淀一次处理区与过滤二次处理区之间隔板的连通口开设在隔板的上部,二次处理区与紫外消毒杀菌区之间隔板的连通口开设在隔板的底部。
优选的,所述的曝气及沉淀一次处理区间隔设置有两个极板,两个极板之间设置有能够旋转的毛刷,两个极板的底部设置有曝气装置,曝气装置的底部连接沉淀装置。
优选的,所述的毛刷与电机连接,电机设置在封闭壳体的顶面外侧,曝气装置与沉淀装置固定在封闭壳体的底面外侧,两个极板沿竖直方向布置,所述的毛刷悬挂设置在两个极板之间,两个极板与曝气装置的连接处与封闭壳体的底面密封配合。
优选的,所述过滤二次处理区由上至下分三层放置滤料,一层为鹅卵石滤料,二层为石英砂滤料,三层为无烟煤滤料。所述的紫外消毒杀菌区设置有沿竖直方向布置的紫外线灯。
相较于现有技术,本发明有如下的有益效果:
实现在一台设备中将电絮凝工艺与气浮工艺结合为一体,有效的解决了现有技术中这两种工艺由两台不同设备分开处理,因此设备占用空间较大的问题。同时,本发明还提高了分离效率,且具有高度自动化,便于人员的操作、运行维护与管理。本发明设备具有投资费用低、运行费用低、维护维修费用低、无需添加任何化学药剂、占地面积小、操作简单,自动化程度高、设备处理时间短、处理效率高、适应废水范围广的特点,适用于各类废水的处理。
附图说明
图1本发明电絮凝及气浮一体化设备的结构示意图;
附图中:1-调节池;2-水泵;3-气泡发生装置;4-初步沉降区;5-极板;6-电机;7-毛刷;8-曝气装置;9-沉淀装置;10-滤料;11-紫外线灯。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的详细说明。
参见图1,本发明的一种电絮凝及气浮一体化设备,包括调节池1、调节池1通过管路连接多级处理装置,管路上设有水泵2,水泵2与多级处理装置之间的管路上设有气泡发生装置3,气泡发生装置3垂直设置在进水管线上。多级处理装置包括开设有进水口和出水口的封闭壳体,封闭壳体内部设置有若干个隔板,通过隔板将封闭壳体的内部空间分隔为初步沉降区4、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区及紫外消毒杀菌区,隔板上开设有连通口。
本发明多级处理装置进水口和出水口均开设在封闭壳体的侧壁上部,初步沉降区4与曝气及沉淀一次处理区之间隔板的连通口开设在隔板的下部,曝气及沉淀一次处理区与过滤二次处理区之间隔板的连通口开设在隔板的上部,二次处理区与紫外消毒杀菌区之间隔板的连通口开设在隔板的底部。待处理废水依次经过初步沉降区4、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区以及紫外消毒杀菌区,完成净化后的废水从多级处理装置排出。
本发明的曝气及沉淀一次处理区间隔设置有两个极板5,两个极板5之间设置有能够旋转的毛刷7,两个极板5的底部设置有曝气装置8,曝气装置8的底部连接沉淀装置9。
本发明的毛刷7与电机6连接,电机6设置在封闭壳体的顶面外侧,曝气装置8与沉淀装置9固定在封闭壳体的底面外侧,两个极板5沿竖直方向布置,毛刷7悬挂设置在两个极板5之间,两个极板5与曝气装置8的连接处与封闭壳体的底面密封配合。
过滤二次处理区由上至下分三层放置滤料10,一层为鹅卵石滤料,二层为石英砂滤料,三层为无烟煤滤料。紫外消毒杀菌区设置有沿竖直方向布置的紫外线灯11。
本发明在一台设备中将电絮凝工艺与气浮工艺结合为一体,有效的解决了现有技术中这两种工艺由两台不同设备分开处理,因此设备占用空间较大的问题,本发明能够减少设备总占地面积,提高分离效率,且具有高度自动化,便于人员操作、运行维护与管理。
以上所述仅仅是本发明的较佳实施例,并不用以对本发明的技术方案进行任何限制,本领域技术人员应当理解的是,在不脱离本发明精神和原则的前提下,该技术方案还可以进行若干简单的修改和替换,这些修改和替换也均属于权利要求划定的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:包括用于存放待处理废水的调节池(1)、调节池(1)通过管路连接多级处理装置,管路上设有水泵(2),水泵(2)与多级处理装置之间的管路上设有气泡发生装置(3);多级处理装置包括依次设置的初步沉降区(4)、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区及紫外消毒杀菌区,净化后的废水从多级处理装置排出。
2.根据权利要求1所述的电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:
所述的多级处理装置包括开设有进水口和出水口的封闭壳体,封闭壳体内部设置有若干个隔板,通过隔板将封闭壳体的内部空间分隔为初步沉降区(4)、曝气及沉淀一次处理区、过滤二次处理区及紫外消毒杀菌区,在每个隔板上开设有连通口。
3.根据权利要求2所述的电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:所述的进水口和出水口均开设在封闭壳体的侧壁上部,初步沉降区(4)与曝气及沉淀一次处理区之间隔板的连通口开设在隔板的下部,曝气及沉淀一次处理区与过滤二次处理区之间隔板的连通口开设在隔板的上部,二次处理区与紫外消毒杀菌区之间隔板的连通口开设在隔板的底部。
4.根据权利要求2所述的电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:所述的曝气及沉淀一次处理区间隔设置有两个极板(5),两个极板(5)之间设置有能够旋转的毛刷(7),两个极板(5)的底部设置有曝气装置(8),曝气装置(8)的底部连接沉淀装置(9)。
5.根据权利要求4所述的电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:所述的毛刷(7)与电机(6)连接,电机(6)设置在封闭壳体的顶面外侧,曝气装置(8)与沉淀装置(9)固定在封闭壳体的底面外侧,两个极板(5)沿竖直方向布置,所述的毛刷(7)悬挂设置在两个极板(5)之间,两个极板(5)与曝气装置(8)的连接处与封闭壳体的底面密封配合。
6.根据权利要求1所述的电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:过滤二次处理区由上至下分三层放置滤料(10),一层为鹅卵石滤料,二层为石英砂滤料,三层为无烟煤滤料。
7.根据权利要求1所述的电絮凝及气浮一体化设备,其特征在于:
所述的紫外消毒杀菌区设置有沿竖直方向布置的紫外线灯(11)。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200121 |
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