CN110657886A - 一种辐射计校准用光源系统 - Google Patents
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Abstract
一种辐射计校准用光源系统，用于辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等在高色温高辐照度条件下的标定和校准，包括：辐射光源、辐射光源连接件、反射内壳、结构外壳、后法兰、前法兰、辐射调节器、导光内臂、导光外臂、开关挡板和冷却管路。辐射光源发出光辐射，通过反射内壁收集辐射光源发出的光辐射，向前会聚辐出；通过导光内臂将光辐射导出并使辐射光场空间均匀化，通过辐照调节器调节辐照度和辐照光谱；在反射内壳、反射外壳之间留有间隙，通过冷媒冷却。本发明可提供高色温下50kW/m2以上的均匀辐照场，具有辐射照度高、辐照场均匀性好、高能效和无背景辐射干扰等优点，可拓展辐射计校准量限并提高准确度。
Description
技术领域
本发明涉及光辐射计量技术领域，尤其涉及一种辐射计校准用光源系统，用于辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等辐射计的标定校准。
背景技术
辐射计是用来测量辐射度的测量仪器，包括辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等。在劳动卫生、高温作业、采暖通风、太阳发电、采矿冶金、航空航天、气象观测、地球辐射平衡监测等领域应用广泛。为保障辐射计的量值准确可靠，需对辐射计进行计量校准。
辐射计校准用光源的光谱、辐照度、辐照场空间均匀性和背景辐射，是影响计量校准结果的重要因素。为使计量校准结果准确可靠，校准用光源应当具有以下特性：1.接近辐射计实际使用场景的光谱；2.达到或超越辐射计实际使用场景的辐照度；3.良好的空间均匀性；4.尽量小的背景辐射干扰。从而避免由辐射计自身的光谱吸收带宽、线性、空间复位精度和背景辐射干扰引起的校准误差。
传统的辐射计校准用光源，主要包括激光、黑体炉、标准灯、太阳模拟器、石墨、电热丝等。各辐射计校准用光源在光谱、辐照度、空间均匀性、背景辐射干扰方面的特性如图1所示，图1为传统辐射计校准用光源特性比较的示意图。激光辐照度大，准直性好，但是波段窄、辐射面积较小且辐射光场不均匀；黑体辐射源波段宽，但色温偏低，主要用于红外测温等方面；光强标准灯色温一般在2000K左右，光辐射场向四周空间发散，均匀性一般，辐照度较小；太阳模拟器具有良好的准直性与均匀性，但辐照度约1kW/m2，且难以提升，谱线在红外区与黑体辐射曲线相差大，一般只适用于校准响应光谱小于3000nm的太阳辐射表或标准太阳电池；石墨与电热丝辐照度大，但在空气中使用时易氧化，一般在低色温下工作，且使用时易产生强烈的背景辐射干扰，影响校准结果的准确度。
近年在航空、航天、冶金和消防等领域，高色温条件下的高辐照度辐射计计量需求日益增长。然而，目前传统的辐射计校准用光源普遍采用光强标准灯校准，光谱辐照度低，光场均匀性一般，难以同时满足高辐照度和高空间均匀性的要求，限制了辐射计的校准量程上限和校准结果的不确定度，对辐射计在高色温高辐照场景使用时的量值准确造成阻碍。
发明内容
(一)要解决的技术问题
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种辐射计校准用光源系统，以满足高辐照度和高空间均匀性的要求，使被校辐射计能够准确应用于高色温高辐照场景，提高校准准确度。
(二)技术方案
为达到上述目的，本发明提供了一种辐射计校准用光源系统，包括：
一辐射光源110，用于产生光辐射和热辐射；
一辐射光源连接件120，连接于所述辐射光源110，用于为所述辐射光源110提供机械支撑，并提供热隔绝或冷却；
一电源130，连接于所述辐射光源110，用于给所述辐射光源110供电；
一反射内壳210，具有前开口、后开口和内壁，所述前开口作为光辐射出口，所述后开口用于放置所述辐射光源110，所述内壁为抛光反射面，用于将所述辐射光源110产生的辐射向前端会聚辐出；
一结构外壳220，设置于所述反射内壳210外部，并与所述反射内壳210留有一定间隙，为冷却气体或冷却液体提供流通空间；
一后法兰230，设置于所述反射内壳210与所述结构外壳220的后端，用于所述反射内壳210与所述结构外壳220后端的机械固定与密封；
一前法兰240，设置于所述反射内壳210与所述结构外壳220的前端，用于所述反射内壳210与所述结构外壳220前端的机械固定与密封；以及
一冷却管路600，连通于需要冷却的部件，所述需要冷却的部件至少包括所述辐射光源链接件120、所述反射内壳210和所述结构外壳220。
在本发明的一个实施例中，所述辐射光源110为金属卤素灯、白炽灯、气体放电灯、荧光灯、LED、黑体或电热丝；所述电源130为稳压源、恒流源、稳定的交流源、或电池。
在本发明的一个实施例中，所述反射内壳210与所述结构外壳220的形状为椭球形、半椭球形、球形、半球形、桶形、锥形或截面为抛物线的旋转体形；所述反射内壳210与所述结构外壳220的出光口还连接于具有窗口的反射壁，用于约束出光口尺寸；所述反射内壳210与所述结构外壳220采用的材料为铝、铜、钢或合金，或者为表面镀高反射材料的塑料、聚四氟或聚酯材料。
在本发明的一个实施例中，所述辐射光源链接件120的内部以及所述反射内壳210与所述结构外壳220之间均具有冷却夹层，所述冷却夹层采用的密封方式为密封槽密封，或者为焊接密封、粘接密封或连接件密封。
在本发明的一个实施例中，该辐射计校准用光源系统还包括：一辐射照度调节器310，置于所述反射内壳210前方，用于调节所述辐射光源110的辐照度，实现不同辐照度下辐射计的校准。
在本发明的一个实施例中，该辐射计校准用光源系统还包括：一辐射光谱调节器320，置于所述辐射照度调节器310前方或后方，用于调节所述辐射光源110的光谱，使其与目标辐射光谱相匹配。
在本发明的一个实施例中，该辐射计校准用光源系统还包括：一导光内臂410，置于所述反射内壳210的辐射出口处，用于将辐射光场向前辐出并均匀化。
在本发明的一个实施例中，由所述导光内臂410围成的多边形导光通道，其横截面形状为三角形、四边形、五边形、六边形、七边形和八边形，所述导光内臂410采用材料为铁、铝、铜或合金，或者为表面镀高反射材料的塑料、聚四氟或聚酯材料。
在本发明的一个实施例中，该辐射计校准用光源系统还包括：一导光外臂420，置于所述导光内臂410外部，与所述导光内臂410形成夹层，为冷却气体或冷却液体提供流通空间。
在本发明的一个实施例中，该辐射计校准用光源系统还包括：一开关挡板500，置于所述导光内臂410的辐射出口处，用于开启或关闭辐照光场。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出，本发明提出的这种辐射计校准用光源系统，具有以下优点：
1、高光谱匹配度：本发明提供的辐射计校准用光源系统，可实现色温3000K以上的高色温黑体辐射光谱，相比传统辐射计校准光源，更接近航空、航天、冶金和消防等高温应用场景中的辐射光谱曲线，减少因为辐射计光谱响应不平坦引起的额外校准误差。另外，本发明提供的辐射计校准用光源系统，还可通过辐射光谱调节器进一步调节光谱匹配度。
2、高辐照度：本发明提供的辐射计校准用光源系统，采用焦点共轭光路设计，将原本向空间发散的辐射光场向前高效会聚至一点，再向前辐出，提高了辐射源在目标辐照面上的辐射功率密度，使得3000K以上色温点处辐射度由1kW/m2提升至50kW/m2以上。同时，反射式的光学结构设计无色(像)差，保证了宽光谱范围下的高反射率，避免了额外的光谱失配或几何色散等问题。
3、高均匀性：本发明提供的辐射计校准用光源系统，会聚的辐照场经过反射式多边形导光臂达到辐照场的均匀化，均匀性好的辐照场可以消除校准过程中由辐射计面积不同及复位不重复引入的不确定度。
4、无背景辐射：本发明提供的辐射计校准用光源系统，采用空间封闭的水冷结构设计，使系统可以提供室温背景的辐射环境，从而准确扣除辐射计自身的本底信号，提高校准的准确度。
5、稳定紧凑：本发明提供的辐射计校准用光源系统，可以采用低纹波线性直流源替代市电，将光辐射稳定度提高至0.1％以下，避免校准过程中由光源不稳定引起的额外误差。光源系统具有结构紧凑的特点，光源系统的内部光学器件固定，工作更稳定。
6、光热安全：本发明提供的辐射计校准用光源系统，辐射利用率高，辐射全部在出口处汇集辐出，无背景辐射危害，且设计有水冷结构，使操作人员避免了高强度外泄辐射以及高温危害。
附图说明
所包括的附图用来提供对本发明实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本发明的实施例，并与文字描述一起来阐释本发明的原理。显而易见地，上述附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，根据这些附图获得其他的附图也在本发明的保护范围内。
图1为传统辐射计校准用光源特性比较的示意图。
图2为依照本发明实施例的辐射计校准用光源系统的结构示意图。
图3为依照本发明实施例的辐射计校准用光源系统中，辐射光场反射会聚部分的一种正视结构图，展示了一种结构组成及其水冷、连接及密封方式。
图4为依照本发明实施例的辐射计校准用光源系统中，辐射光场均匀部分(垂直于通光路径)的截面结构图，展示了一种结构组成其水冷、连接及密封方式。
图5为依照本发明实施例的辐射计校准用光源系统中，“原始辐照场”与“经过一椭球反射内壳及一矩形导光臂后的辐照场”的仿真结果对比，展示了依照本发明实施例的辐射计校准用光源系统对辐照场均匀性及辐照度的提升效果。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。
本发明公开一种辐射计校准用光源系统，该光源系统具有集光、导光、匀光以及水冷等结构部件，可将常规辐射灯产生的1kW/m2的光源辐照度提升至50kW/m2以上，同时提升辐照场的空间均匀性，具有高辐照输出、高黑体辐射色温、高能效、高辐照场均匀性及无背景辐射干扰等优点。
图2为依照本发明实施例的辐射计校准用光源系统的结构示意图，该辐射计校准用光源系统包括：辐射光源110、辐射光源连接件120、辐射光源电源130、反射内壳210、结构外壳220、后法兰230、前法兰240和冷却管路600。
其中，辐射光源110用于产生光辐射和热辐射。该辐射光源110可以采用2500W溴钨灯，用于产生3200K色温光辐射(主要指可见波段)和热辐射(主要指红外波段)，根据目标辐射计的使用场景，辐射光源110也可以采用金属卤素灯、白炽灯、气体放电灯、荧光灯、LED、黑体或电热丝等。
辐射光源110通过陶瓷座与外围辐射光源连接件120连接，辐射光源连接件120用于为所述辐射光源110提供机械支撑，并提供热隔绝或冷却；辐射光源连接件120通过与结构外壳220相配合的卡口连接至结构外壳220，也可以通过其他金属转接件连接，目的是方便调节辐射源相对于反射内壳210的位置。辐射源连接件120通过水冷或双层隔热设计屏蔽辐射源110的高温，使测试环境无背景辐射，且保证操作安全。
电源130连接于所述辐射光源110，用于给所述辐射光源110供电。本实施例中，辐射光源电源130为低纹波线性直流稳压源，配合溴钨灯，辐射度稳定性优于0.1％，避免了校准过程中由辐照度的波动额外引入的不确定度。根据其他辐射源特性，匹配的辐射光源电源130还可以是恒流源、稳定的交流源、或电池。
光辐射由辐射光源110发出后，首先经反射会聚，具体结构如图3所示。反射内壳210置于辐射光源110后，部分或全部包围辐射源110。反射内壳210具有前开口、后开口和内壁，所述前开口作为光辐射出口，所述后开口用于放置所述辐射光源110，所述内壁为抛光反射面，用于将所述辐射光源110产生的辐射向前端会聚辐出。反射内壳210的内壁为抛光反射面，表面加工粗糙度优于Ra0.1或达到光学级，内壁将辐射源100产生的辐射向前端高度会聚后辐出。当反射内壳210为椭球时，如本实施例所示，辐射光源110的位置通过辐射光源连接件120调节至反射内壳210的一个焦点处，根据椭球焦点的共轭成像性质，全部辐射将仅通过内壁的单次反射，完全会聚于椭球出口处的第二焦点，从而达到光辐射光场的最大利用效率。
结构外壳220设置于所述反射内壳210外部，包围反射内壳210并与所述反射内壳210留有一定间隙，形成双层结构，为冷却气体或冷却液体提供流通空间。结构外壳220对侧各分布一水冷孔250，如图3所示，一个为进水口，另一个为出水口，一般进水口置于空间下端，出水口置于空间上端，使冷却水逆重力方向循环，路径覆盖反射内壳210的绝大部分，以提高冷却效果。
后法兰230设置于所述反射内壳210与所述结构外壳220的后端，用于所述反射内壳210与所述结构外壳220后端的机械固定与密封。前法兰240设置于所述反射内壳210与所述结构外壳220的前端，用于所述反射内壳210与所述结构外壳220前端的机械固定与密封。
冷却管路600连通于需要冷却的部件，所述需要冷却的部件至少包括所述辐射光源链接件120、所述反射内壳210和所述结构外壳220。
所述辐射光源链接件120的内部以及所述反射内壳210与所述结构外壳220之间均具有冷却夹层，所述冷却夹层采用的密封方式可以为密封槽密封，或者为焊接密封、粘接密封或连接件密封。
如图3所示，反射内壳210与结构外壳220通过其顶端口及底端口处的外壳后法兰232、外壳前法兰242、内壳后法兰231、内壳前法兰241以及分布在法兰上的法兰螺孔270机械锁紧，并通过填入底密封槽212与顶密封槽211的橡胶圈形成对冷却水的密封，其中橡胶圈采用疏水硅橡胶或丁晴橡胶、氟化橡胶。本实施例中，辐射光源连接件120、反射内壳210、结构外壳220的冷却夹层密封方式为橡胶圈加密封槽密封，但在实际应用中冷却夹层的密封方式也可以是焊接密封、粘接密封或连接件密封。
反射内壳210与结构外壳220的形状为椭球形、半椭球形、球形、半球形、桶形、锥形或截面为抛物线的旋转体形等，可以根据实际需求指标与加工成本等因素选择，不同方案集光效果有所不同。内外壳体材料可以是铝，这样纯铝或氧化铝对宽光谱光皆具有高反射率，保证光辐射不因反射引起光谱改变，不存在光学系统色(像)差，且对常见冷却媒介——冷却水具有化学稳定。根据实际需求，球壳材料也可选取铜、钢、其他合金或表面镀高反射材料的塑料、聚四氟、聚酯材料。所述反射内壳210与所述结构外壳220的出光口还连接于具有窗口的反射壁，用于约束出光口尺寸。
请参照图2所示，本发明提供的辐射计校准用光源系统还包括辐射照度调节器310、辐射光谱调节器320、导光内臂410、导光外臂420和开关挡板500所组成的群组的任意一个或多个的组合。
其中：辐射照度调节器310，置于所述反射内壳210前方，通过中性玻璃、部分遮挡或斩波方式，调节所述辐射光源110的辐照度，实现不同辐照度下辐射计的校准。辐射光谱调节器320，置于所述辐射照度调节器310前方或后方，用于调节所述辐射光源110的光谱，辐射光谱调节器320可以通过替换不同波段滤光片，滤除指定波段光谱，使其具备与目标辐射谱更高的匹配度。在本实施例中，辐射照度调节器310和辐射光谱调节器320位置可互换，也可置于导光内臂410前方的其他位置或其内部，辐射照度调节器310和辐射光谱调节器320可单独使用或不使用。
匀光结构置于集光结构之后，用于将辐射光场均匀化，其细节如图4所示。导光内臂410，置于所述反射内壳210的辐射出口处，用于将辐射光场向前辐出并均匀化。导光外臂420，置于所述导光内臂410外部，与所述导光内臂410形成夹层，为冷却气体或冷却液体提供流通空间。
在本实施例中，如图4所示，导光内臂410由4片矩形内反射板430组成。导光外臂420即外板由4组矩形结构外板组成，置于对应的导光内臂410外侧，与导光内臂410即内板形成夹层412，为冷却气体或冷却液体提供流通空间。导光内臂410及导光外臂420由连接螺孔460中的螺钉及L型角件450连接锁紧，通过密封槽411形成密封，两侧共8个水冷孔440分别进出冷却水，完成整体冷却。
导光内臂410也可由3组、5组、6组、8组矩形反射板构成，经模拟分析，正三角形和正方形的匀光效果最好，而导光截面为圆形时则没有匀光效果。根据实际校准例的不同指标需求，导光臂材料也可为钢、铝、铜、其他合金或表面镀高反射材料的塑料、聚四氟、聚酯材料等。光辐射由导光内臂410多次反射后辐出，形成良好的匀光效果，从而减小校准过程中由空间复位引入的测量重复性误差。本实施例中，辐射光场经矩形匀光器，按计算模拟结果，匀光器长度大于截面对角线长度3倍，出射截面的辐射均匀性优于99％。图5展示了“原始辐照场”与“经过一椭球反射内壳及一矩形导光臂后的辐照场”的仿真结果对比，可以看出本实施例的光辐射光场的均匀性和辐照度获得了极大提升。本实施例中，导光结构采用反射式而非透射式方向，不存在额外色(像)差，具有不影响光谱分布的优点。
开关挡板500，设置于所述导光内臂410的辐射出口处，用于开启或关闭辐照光场。开关挡板500具有水冷夹层，关断光源辐射时，整体保持室温，不引入额外背景辐射。
在具体实施时，本发明提供的辐射计校准用光源系统中，也可无光辐射照度调节器310，不调节辐射照度；也可无辐射光谱调节器320，不调节辐射光源的光谱；也可无导光外臂420，导光内壁410自然冷却或空气冷却；也可无导光内臂410，不对辐射场均匀化；也可无开关挡板500，不控制辐照光场开启或关闭。
冷却管路600，用于连接系统内：辐射源连接件120、反射内壳210、结构外壳220、辐射照度调节器310、辐射光谱调节器320、导光臂内壁410、导光外壁420、开关挡板500等结构的水冷孔，以提供冷却媒介。本实施例中，所述水冷管路一部分嵌入光源结构，采用PU管和快速插拔接头，为装置整体提供水冷却。水冷管路600的另一端配合循环水冷机使用，不具备水冷机或水冷机功率条件不满足的情况下，循环另一端也可直接配合自来水管，采用一次性冷却水冷却。水冷口的连接可以采用串联、并联或串并联方式，对并联管路增加节流阀，以调整各部分结构的水冷却效果，使光源系统的整体温度一致并接近室温。水冷液流经的结构，对辐射光场形成了完整的封闭，当开关挡板500不打开时，辐射源(100)的辐射被完全限制在光源系统的内部，对外不产生背景辐射，因此为辐射计的校准提供了良好的零背景校准条件，提高了校准的准确度，保障了人员的操作安全。
请参照图2、图3和图4所示，本实施例采用的冷却方式包括液体冷却、风冷却，或自然冷却；冷却管路600可连接辐射光源链接件120、反射内壳210、结构外壳220、辐射照度调节器310、辐射光谱调节器320、导光内壁410、导光外壁420、开关挡板500等冷却部件的一个或多个。
从上述实施例可以看出，本发明提供的辐射计校准用光源系统，可以满足各类辐射计在可见、近红外、至中远红外波段0.1kW/m2至50kW/m2以上辐照度的标定和校准，是一种满足高辐照度辐射计校准用的高色温和低色温水冷光源系统，可将常规辐射灯产生的辐射光场辐照度由1kW/m2提高至50kW/m2以上，辐射光场保持良好均匀性，同时光源系统整体温度保持室温，消除光源系统背景辐射干扰，实现光源系统在高辐照状态下稳定长期工作，使光源系统应用于校准辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等各类辐射计，拓展辐射计的校准量程上限与校准条件，提高校准准确度。
以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种辐射计校准用光源系统，包括：
一辐射光源(110)，用于产生光辐射和热辐射；
一辐射光源连接件(120)，连接于所述辐射光源(110)，用于为所述辐射光源(110)提供机械支撑，并提供热隔绝或冷却；
一电源(130)，连接于所述辐射光源(110)，用于给所述辐射光源(110)供电；
一反射内壳(210)，具有前开口、后开口和内壁，所述前开口作为光辐射出口，所述后开口用于放置所述辐射光源(110)，所述内壁为抛光反射面，用于将所述辐射光源(110)产生的辐射向前端会聚辐出；
一结构外壳(220)，设置于所述反射内壳(210)外部，并与所述反射内壳(210)留有一定间隙，为冷却气体或冷却液体提供流通空间；
一后法兰(230)，设置于所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)的后端，用于所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)后端的机械固定与密封；
一前法兰(240)，设置于所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)的前端，用于所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)前端的机械固定与密封；以及
一冷却管路(600)，连通于需要冷却的部件，所述需要冷却的部件至少包括所述辐射光源链接件(120)、所述反射内壳(210)和所述结构外壳(220)。
2.根据权利要求1所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，
所述辐射光源(110)为金属卤素灯、白炽灯、气体放电灯、荧光灯、LED、黑体或电热丝；
所述电源(130)为稳压源、恒流源、稳定的交流源、或电池。
3.根据权利要求1所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)的形状为椭球形、半椭球形、球形、半球形、桶形、锥形或截面为抛物线的旋转体形；
所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)的出光口还连接于具有窗口的反射壁，用于约束出光口尺寸；
所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)采用的材料为铝、铜、钢或合金，或者为表面镀高反射材料的塑料、聚四氟或聚酯材料。
4.根据权利要求1所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，所述辐射光源链接件(120)的内部以及所述反射内壳(210)与所述结构外壳(220)之间均具有冷却夹层，所述冷却夹层采用的密封方式为密封槽密封，或者为焊接密封、粘接密封或连接件密封。
5.根据权利要求1所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，该辐射计校准用光源系统还包括：
一辐射照度调节器(310)，置于所述反射内壳(210)前方，用于调节所述辐射光源(110)的辐照度，实现不同辐照度下辐射计的校准。
6.根据权利要求1或5所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，该辐射计校准用光源系统还包括：
一辐射光谱调节器(320)，置于所述辐射照度调节器(310)前方或后方，用于调节所述辐射光源(110)的光谱，使其与目标辐射光谱相匹配。
7.根据权利要求1或6所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，该辐射计校准用光源系统还包括：
一导光内臂(410)，置于所述反射内壳(210)的辐射出口处，用于将辐射光场向前辐出并均匀化。
8.根据权利要求7所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，由所述导光内臂(410)围成的多边形导光通道，其横截面形状为三角形、四边形、五边形、六边形、七边形和八边形，所述导光内臂(410)采用材料为铁、铝、铜或合金，或者为表面镀高反射材料的塑料、聚四氟或聚酯材料。
9.根据权利要求7所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，该辐射计校准用光源系统还包括：
一导光外臂(420)，置于所述导光内臂(410)外部，与所述导光内臂(410)形成夹层，为冷却气体或冷却液体提供流通空间。
10.根据权利要求7所述的辐射计校准用光源系统，其特征在于，该辐射计校准用光源系统还包括：
-开关挡板(500)，置于所述导光内臂(410)的辐射出口处，用于开启或关闭辐照光场。
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