CN110571253A - 一种显示面板及掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示面板及掩膜板,该显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层,这样在对显示面板的透明区进行切割形成通孔之后,公共电极层仍旧被其他膜层保护,不会直接暴露在空气中,避免了水氧入侵;同时,本发明提供的掩膜板包括遮蔽构件,所述遮蔽构件对应透明区,能够制备得到本发明提供的显示面板中的公共电极层。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及掩膜板。
背景技术
随着全面屏技术的发展,摄像头等电子元件放置在显示屏下的技术是发展趋势;现有技术为了保证电子元件(如摄像头)的采光效果,需要将电子元件上方的显示面板挖空。
在OLED显示面板中,发光功能层中的某些膜层,例如公共电极层,是整层蒸镀的,在挖空之后,这些膜层直接暴露在空气中,导致水氧沿着发光功能层入侵到显示区。
所以,现有全面屏技术存在水氧沿着公共电极层入侵到显示区问题,需要改进。
发明内容
本发明提供一种显示面板及掩膜板,以缓解现有全面屏技术存在的水氧沿着公共电极层入侵到显示区的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明实施例提供一种显示面板,包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层。
在本发明实施例提供的显示面板中,所述非显示区包括相交的第一边框和第二边框,所述透明区通过所述通道区,同时连接所述第一边框和第二边框。
在本发明实施例提供的显示面板中,所述通道区包括相互间隔的至少一个第一通道区、至少一个第二通道区以及至少一个第三通道区,所述透明区通过所述第一通道区连接所述第一边框,通过所述第二通道区连接所述第二边框,通过所述第三通道区连接所述第一边框和第二边框的顶角。
在本发明实施例提供的显示面板中,所述显示面板包括:
衬底;
驱动电路层;
发光功能层,包括像素定义层、像素电极层、发光材料层以及所述公共电极层;
封装层;
其中,在所述透明区内,未形成所述驱动电路层和所述发光功能层。
在本发明实施例提供的显示面板中,在所述透明区内,所述封装层形成于所述衬底之上。
同时,本发明供一种掩膜板,用于制备本发明提供的显示面板中的公共电极层,所述显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;所述掩膜板包括掩膜板:
掩膜边框,与所述非显示区对应;
镂空区,位于所述掩膜边框内,与所述显示区对应;
遮蔽构件,位于所述镂空区以及所述掩膜边框内,与所述透明区对应;
连接桥,连接所述掩膜边框和所述遮蔽构件,与所述通道区相对应掩膜板。
在本发明实施例提供的掩膜板中,所述掩膜边框包括相交的第一掩膜边框和第二掩膜边框,所述遮蔽构件通过所述连接桥同时连接所述第一掩膜边框和第二掩膜边框。
在本发明实施例提供的掩膜板中,所述连接桥包括相互间隔的至少一个第一连接桥、至少一个第二连接桥以及至少一个第三连接桥;所述遮蔽构件通过所述至少一个第一连接桥连接至所述第一掩膜边框,通过所述至少一个第二连接桥连接至所述第二掩膜边框,通过所述至少一个第三连接桥连接至所述第一掩膜边框与所述第二掩膜边框的顶角。
在本发明实施例提供的掩膜板中,所述第一连接桥、第二连接桥以及第三连接桥的宽度范围为0.2毫米至0.6毫米。
在本发明实施例提供的掩膜板中,所述第一连接桥、第二连接桥以及第三连接桥的长度范围为3毫米至6毫米。
本发明的有益效果为:本发明提供一种显示面板以及掩膜板,所述显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层;由于在所述透明区以及通道区区内未形成所述公共电极层,这样在对显示面板的透明区进行切割形成通孔之后,公共电极层能被其它膜层保护,不会直接暴露,避免了水氧通过通孔沿着公共电极层入侵到显示区,缓解了现有全面屏技术存在的水氧沿着公共电极层入侵到显示区的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的显示面板中公共电极层的俯视图。
图2为本发明实施例提供的显示面板的俯视图。
图3为本发明实施例提供的显示面板的第一种剖面示意图。
图4为本发明实施例提供的显示面板的第二种剖面示意图。
图5为本发明实施例提供的显示面板的第三种剖面示意图。
图6为本发明实施例提供的掩膜板的第一种俯视图。
图7为本发明实施例提供的掩膜板的第二种俯视图。
图8为本发明实施例提供的显示装置的示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。
针对现有全面屏技术存在的公共电极层在挖空时所产生的切割边缘断面位置容易引起的水汽侵入的技术问题,本发明实施例可以缓解。
在一种实施例中,如图1所示,本发明实施例提供的显示面板10包括非显示区A3、显示区A1、透明区A2(也即挖孔区)以及通道区A4(即包括图1中的A41、A42和A43);所述非显示区A3包围所述显示区A1,所述透明区A2以及通道区A4位于所述显示区A1内,所述通道区A4连接所述非显示区A3和所述透明区A2;其中,所述显示面板10包括公共电极层11,在所述透明区A2以及所述通道区A4内,未形成所述公共电极层11。
在一种实施例中,透明区A2对应于挖孔区,即电子元件设置区。
在一种实施例中,如图1所示,非显示区A3包括相交的第一边框L1和第二边框L2,所述透明区A3通过所述通道区A4,同时连接所述第一边框L1和第二边框L2。
在一种实施例中,如图1所示,所述通道区A4包括相互间隔的至少一个第一通道区A41、至少一个第二通道区A42以及至少一个第三通道区A43,所述透明区A3通过所述第一通道区A41连接所述第一边框L1,通过所述第二通道区A42连接所述第二边框L2,通过所述第三通道区A43连接所述第一边框L1和第二边框L2的顶角。
本实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层;由于在所述透明区以及通道区区内未形成所述公共电极层,这样在对显示面板的透明区进行切割形成通孔之后,公共电极层能被其它膜层保护,不会直接暴露,避免了水氧通过通孔沿着公共电极层入侵到显示区,缓解了现有全面屏技术存在的水氧沿着公共电极层入侵到显示区的技术问题。
为了进一步增强防水氧性能,在透明区A2不形成驱动电路层和所述发光功能层。
即在一种实施例中,显示面板10包括:
衬底;
驱动电路层;
发光功能层,包括像素定义层、像素电极层、发光材料层以及所述公共电极层;
封装层;
其中,在所述透明区内,未形成所述驱动电路层和所述发光功能层。
在一种实施例中,在所述透明区内,所述封装层形成于所述衬底之上。
现结合具体的附图对本实施例进行说明。
图2至图5所示的显示面板10尚未对透明区A2挖孔。
在一种实施例中,如图2至图5所示,本发明实施例提供的显示面板10包括显示区A1、对应电子元件设置位置的透明区A2、非显示区A3以及通道区A4,显示面板10包括:
衬底M1;
设置在衬底M1上的驱动电路层M2,驱动电路层M2包括形成TFT电路的所有膜层;
设置在驱动电路功能层M2上的平坦层M3;
设置在平坦层M3上的发光功能层12,发光功能层12包括像素定义层M4、像素电极层M5、发光材料层M6及公共电极层11;
封装层13,包括第一无机层M7、有机层M8和第二无机层M9;
其中,在所述透明区A2内,未形成所述驱动电路层和发光功能层。
在本发明实施例中,电子元件可以是一种电子元件,也可以是多种电子元件的集合体,如摄像头、光线传感器、基于红外线的指纹识别装置等。
本实施例提供一种显示面板,该显示面板包括显示区和电子元件设置区,在电子元件设置区内,未形成驱动电路和发光功能层,这样在对电子元件设置区进行切割形成通孔之后,发光功能层仍旧被其他膜层保护,不会直接暴露在空气中,避免了水氧入侵。
在一种实施例中,衬底包括柔性衬底、缓冲阻隔层和无机缓冲层等。驱动电路层包括低温多晶硅、第一栅极绝缘层、第一栅极、第二栅极绝缘层、第二栅极、绝缘层、漏极/漏极等。像素定义层用于定义发光区域,像素定义层在发光区域内形成凹槽,在非发光区域内形成凸起。
在一种实施例中,如图3或图4所示,在所述透明区A2内,所述封装层13形成于所述衬底M1之上。
在一种实施例中,如图3所示,在所述透明区A2内,所述第一无机层M7沉积在所述衬底M1上,所述第二无机层M9沉积在所述第一无机层M7上。
在一种实施例中,如图4所示,在所述透明区A2内,第一无机层M7沉积在所述衬底M1上、且形成凹槽,所述有机层M8填充所述凹槽,所述第二无机层M9沉积在所述有机层M8上。
在一种实施例中,如图5所示,在所述透明区A2内,显示面板还包括填充层M10,所述填充层M10形成于所述衬底M1之上,所述封装层13形成于所述填充层M10之上。在一种实施例中,所述填充层M10的材料与有机层M8的材料相同,具备良好的光线透过率。
为了制备上述显示面板的公共电极层,本发明实施例提供了对应的掩膜板,该掩膜板用于采用热蒸镀的方式,制备发光功能层内的公共电极层,例如透明的阴极层等。
如图6至图7所示,本发明实施例提供的掩膜板60包括:
掩膜边框61,与所述非显示区A3对应;
镂空区62,位于所述掩膜边框61内,与所述显示区A1对应;
遮蔽构件63,位于所述镂空区62以及所述掩膜边框61内,与所述透明区A2对应;
连接桥64(包括图6或图7中的641、642以及643),连接所述掩膜边框61和所述遮蔽构件63,与所述通道区A4相对应。
本实施例提供一种掩膜板,用于对发光功能层的公共电极层,例如阴极层进行热蒸镀,其包括遮蔽构件,与所述透明区相对应,这样在蒸镀时,透明区内不会形成公共电极层,防止切割形成通孔后水氧沿着公共电极层入侵到显示区A1。
在一种实施例中,如图6或图7所示,掩膜边框61包括相交的第一掩膜边框611和第二掩膜边框612,所述遮蔽构件63通过所述连接桥64同时连接所述第一掩膜边框611和第二掩膜边框612。
在一种实施例中,掩膜边框包括第一掩膜边框、第二掩膜边框以及第三掩膜边框,所述遮蔽构件通过所述连接桥同时连接所述第一掩膜边框、第二掩膜边框以及第三掩膜边框。
在一种实施例中,掩膜边框包括第一掩膜边框、第二掩膜边框、第三掩膜边框以及第四掩膜边框,所述遮蔽构件通过所述连接桥同时连接所述第一掩膜边框、第二掩膜边框、第三掩膜边框以及第四掩膜边框。
在一种实施例中,如图6或图7所示,所述连接桥64包括相互间隔的至少一个第一连接桥641、至少一个第二连接桥642以及至少一个第三连接桥643;所述遮蔽构件63通过所述至少一个第一连接桥641连接至所述第一掩膜边框611,通过所述至少一个第二连接桥642连接至所述第二掩膜边框612,通过所述至少一个第三连接桥643连接至所述第一掩膜边框611与所述第二掩膜边框612的顶角。
在一种实施例中,所述第一连接桥641、第二连接桥642、第三连接桥643长度在3毫米至6毫米。
在一种实施例中,所述第一连接桥641、第二连接桥642、第三连接桥643的宽度在0.2毫米至0.6毫米。
在一种实施例中,所述第一连接桥641、第二连接桥642、第三连接桥643的宽度大于掩膜板其余区域的厚度,以便利用连接桥的阴影,在连接桥下方制备上电极材料,使屏幕正常显示。
在一种实施例中,所述遮蔽构件63的形状可以为圆形、矩形等各种规则或者不规则形状。
在一种实施例中,所述遮蔽构件63直径为3至6毫米。
在一种实施例中,所述掩膜板的材料为不锈钢或铟合金合金。掩膜板表面有耐腐蚀度保护膜,耐腐蚀度保护膜的材料为氧化铝聚四氟乙烯涂层。
在一种实施例中,所述掩膜板的厚度为0.01毫米到0.3毫米。
在一种实施例中,所述遮蔽构件63到第一掩膜边框611的距离为100微米至500微米。
在一种实施例中,所述遮蔽构件63到第二掩膜边框612的距离为100微米至500微米。
在一种实施例中,所述遮蔽构件63的厚度大于掩膜边框61的厚度,方便进行蒸镀。
在一种实施例中,如图6所示,遮蔽构件63的形状为圆形,连接桥64的数量为3个,此时,掩膜板60包括:
掩膜边框61,与所述非显示区A3对应,包括相交的第一掩膜边框611和第二掩膜边框612;
镂空区62,位于所述掩膜边框61内,与所述显示区A1对应;
遮蔽构件63,形状为圆形,位于所述镂空区62以及所述掩膜边框61内,与所述透明区A2对应;
连接桥64,连接所述掩膜边框61和所述遮蔽构件63,与所述通道区A4相对应,包括一个第一连接桥641、一个第二连接桥642以及一个第三连接桥643;
其中,遮蔽构件63通过所述一个第一连接桥641连接至所述第一掩膜边框611,通过所述一个第二连接桥642连接至所述第二掩膜边框612,通过所述一个第三连接桥643连接至所述第一掩膜边框611与所述第二掩膜边框612的顶角。
连接桥64的宽度越宽,其越不易发生形变,但下方越难蒸镀电极材料,所以可以增加金属桥的数量,这样就可以减小单个连接桥64的宽度,如图7所示,连接桥64的个数为5时,连接桥64宽度可以减小,这样其下方就可以尽可能多的蒸镀上电极材料。
在一种实施例中,如图7所示,遮蔽构件63的形状为圆形,连接桥64的数量为5个,此时,掩膜板60包括:
掩膜边框61,与所述非显示区A3对应,包括相交的第一掩膜边框611和第二掩膜边框612;
镂空区62,位于所述掩膜边框61内,与所述显示区A1对应;
遮蔽构件63,形状为圆形,位于所述镂空区62以及所述掩膜边框61内,与所述透明区A2对应;
连接桥64,连接所述掩膜边框61和所述遮蔽构件63,与所述通道区A4相对应,包括2个第一连接桥641、2个第二连接桥642以及一个第三连接桥643;
其中,遮蔽构件63通过所述2个第一连接桥641连接至所述第一掩膜边框611,通过所述2个第二连接桥642连接至所述第二掩膜边框612,通过所述一个第三连接桥643连接至所述第一掩膜边框611与所述第二掩膜边框612的顶角。
在一种实施例中,如图8所示,本发明实施例还提供了一种显示装置,本发明实施例提供的显示装置包括显示面板和电子元件3,显示面板包括非显示区A3、显示区A1、透明区A2(也即挖孔区)以及通道区A4;所述非显示区A3包围所述显示区A1,所述透明区A2以及通道区A4位于所述显示区A1内,所述通道区A4连接所述非显示区A3和所述透明区A2;其中,所述显示面板10包括公共电极层11,在所述透明区A2以及所述通道区A4内,未形成所述公共电极层11。
如图8所示,透明区A2形成通孔OP,电子元件3位于通孔OP下方。
本实施例提供一种显示装置,其显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层;由于在所述透明区以及通道区区内未形成所述公共电极层,这样在对显示面板的透明区进行切割形成通孔之后,公共电极层能被其它膜层保护,不会直接暴露,避免了水氧通过通孔沿着公共电极层入侵到显示区,缓解了现有全面屏技术存在的水氧沿着公共电极层入侵到显示区的技术问题。
在一种实施例中,所述显示面板还包括缓冲区,所述缓冲区围绕所述透明区,在所述缓冲区形成有微纳结构,在所述微纳结构上形成有公共电极层。
在一种实施例中,所述微纳结构包括形成在所述像素定义层上的微纳凹槽。
在一种实施例中,微纳凹槽形成在所述有机层上。
在一种实施例中,所述微纳凹槽为围绕所述透明区的封闭环形。
在一种实施例中,所述封闭环形的形状包括圆形或者多边形中的至少一种。
在一种实施例中,所述微纳结构包括至少两个所述微纳凹槽。
在一种实施例中,所述微纳凹槽的截面形状包括半圆形、半椭圆形、水滴形、矩形、三角形中的至少一种。
根据上述实施例可知:
本发明实施例提供一种显示面板及掩膜板,该显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层;由于在所述透明区以及通道区区内未形成所述公共电极层,这样在对显示面板的透明区进行切割形成通孔之后,公共电极层能被其它膜层保护,不会直接暴露,避免了水氧通过通孔沿着公共电极层入侵到显示区,缓解了现有全面屏技术存在的水氧沿着公共电极层入侵到显示区的技术问题。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;其中,所述显示面板包括公共电极层,在所述透明区以及所述通道区内,未形成所述公共电极层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述非显示区包括相交的第一边框和第二边框,所述透明区通过所述通道区,同时连接所述第一边框和第二边框。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述通道区包括相互间隔的至少一个第一通道区、至少一个第二通道区以及至少一个第三通道区,所述透明区通过所述第一通道区连接所述第一边框,通过所述第二通道区连接所述第二边框,通过所述第三通道区连接所述第一边框和第二边框的顶角。
4.根据权利要求1至3任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
衬底;
驱动电路层;
发光功能层,包括像素定义层、像素电极层、发光材料层以及所述公共电极层;
封装层;
其中,在所述透明区内,未形成所述驱动电路层和所述发光功能层。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,在所述透明区内,所述封装层形成于所述衬底之上。
6.一种掩膜板,其特征在于,用于制备如权利要求1至5任一所述的显示面板中的公共电极层,所述显示面板包括非显示区、显示区、透明区以及通道区;所述非显示区包围所述显示区,所述透明区以及通道区位于所述显示区内,所述通道区连接所述非显示区和所述透明区;所述掩膜板包括:
掩膜边框,与所述非显示区对应;
镂空区,位于所述掩膜边框内,与所述显示区对应;
遮蔽构件,位于所述镂空区以及所述掩膜边框内,与所述透明区对应;
连接桥,连接所述掩膜边框和所述遮蔽构件,与所述通道区相对应。
7.据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜边框包括相交的第一掩膜边框和第二掩膜边框,所述遮蔽构件通过所述连接桥同时连接所述第一掩膜边框和第二掩膜边框。
8.根据权利要求7所述的掩膜板,其特征在于,所述连接桥包括相互间隔的至少一个第一连接桥、至少一个第二连接桥以及至少一个第三连接桥;所述遮蔽构件通过所述至少一个第一连接桥连接至所述第一掩膜边框,通过所述至少一个第二连接桥连接至所述第二掩膜边框,通过所述至少一个第三连接桥连接至所述第一掩膜边框与所述第二掩膜边框的顶角。
9.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,所述第一连接桥、第二连接桥以及第三连接桥的宽度范围为0.2毫米至0.6毫米。
10.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,所述第一连接桥、第二连接桥以及第三连接桥的长度范围为3毫米至6毫米。
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