CN110565138A - 一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制 - Google Patents

一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制 Download PDF

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Abstract

本发明涉及电解铜箔表面防氧化处理工艺技术领域,且公开了一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,包括液槽和导辊a、导辊b,导辊a与导辊b内均设置有滚动轴承a,滚动轴承a内环固定安装有连接杆,导辊a和导辊b设置于液槽上方,导辊a内的连接杆下方固定安装有支撑杆,液槽内中点处设置有四个滚动轴承b,滚动轴承b于液槽前后内壁两两对称设置,四个滚动轴承b靠近液槽内壁的一侧外环均与液槽内壁固定连接,左侧两个前后相对的滚动轴承b内环套接有转动轴,且转动轴上套接有液下辊a,该新型铜箔防氧化槽液下辊机制,在液槽中原有的液下辊a一侧额外添加了一个液下辊b来进行使用,本装置设置的两个液下辊能够将液槽的空间利用率最大化。

Description

一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制
技术领域
本发明涉及电解铜箔表面防氧化处理工艺技术领域,具体为一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制。
背景技术
在铜箔的生产过程中,铜箔表面防氧化处理工艺是在铜箔表面电镀一种性能优良的防氧化保护层,以避免铜箔在存储、运输过程中因表面氧化而达不到使用要求的一种不可或缺的工艺。其工作原理是将电沉积所得的铜箔引入防氧化槽内,然后经防氧化液下辊下压将其引入防氧化液内使铜箔与槽内的防氧化液充分接触,并在此过程中用电化学法使其表面形成一层性能优良的防氧化保护层以提高铜箔的抗氧化能力。
防氧化槽液下辊是在铜箔表面防氧化处理工艺中,将经过生箔机导辊引导至防氧化槽中的铜箔下压引导至防氧化槽内的防氧化液中,使铜箔与防氧化液充分接触的一种设备机制。目前生产工艺使用的防氧化液下辊机制,由于铜箔与防氧化液的接触面积、接触时间有限,导致所生产的铜箔抗氧化能力有限,无法满足长期储存或长途运输的需求。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,具备能够更好的对铜箔进行防氧化处理等优点,解决了上述的问题。
(二)技术方案
为实现上述所述目的,本发明提供如下技术方案:一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,包括液槽和导辊a、导辊b,液槽内装有防氧化液,导辊a和导辊b为相同形状的辊体,导辊a与导辊b内均设置有滚动轴承a,且导辊a与导辊b安装有相同的装置,同时导辊a与导辊b内装置的安装方法均相同,滚动轴承a设置于导辊a最前端与最后端,滚动轴承a外环与导辊a固定连接,滚动轴承a内环固定安装有连接杆,导辊a和导辊b设置于液槽上方,且导辊a和导辊b分别位于液槽左右两端上方位置,导辊a内的连接杆下方固定安装有支撑杆,支撑杆位于连接杆前后两端末端,且支撑杆另一端与液槽固定连接,导辊b上的连接杆也通过与导辊a相同的方式与液槽进行连接,液槽内中点处设置有四个滚动轴承b,滚动轴承b直径与滚动轴承a直径相同,滚动轴承b于液槽前后内壁两两对称设置,四个滚动轴承b靠近液槽内壁的一侧外环均与液槽内壁固定连接,左侧两个前后相对的滚动轴承b内环套接有转动轴,且转动轴上套接有液下辊a,右侧的两个滚动轴承b内则套接有相同的转动轴,且右侧的转动轴上套接有液下辊b,液下辊a和液下辊b之间连线与液槽底面相平行,液下辊a、液下辊b与导辊a、导辊b为相同结构的辊体,即液下辊a与液下辊b内也设置有与导辊a、导辊b内相同的滚动轴承a,且液下辊a、液下辊b、导辊a和导辊b为形状大小均相同的辊体,同时液下辊a和液下辊b内的滚动轴承a安装方法与导辊a内的滚动轴承a的安装方法相同,液槽上方还设置有干箔辊,干箔辊位于导辊a与导辊b之间中点处,且干箔辊为与导辊a相同的辊体,即干箔辊内活动安装有滚动轴承a,干箔辊的滚动轴承a内环固定连接有固定杆,固定杆长度与连接杆长度相等,且固定杆前后两端均设置有滚动轴承b,固定杆前后两端的滚动轴承b左右均固定连接有连接板,连接板与固定杆前后的滚动轴承b外环固定连接,且两段连接板呈直线设置,同时连接板另一端与接近的连接杆固定连接,上述所描述的所有辊体外壁均包裹有聚四氟乙烯,箔辊辊体上开设有四条吸附槽,四条吸附槽沿干箔辊侧表面等距开设,吸附槽为上窄下宽的三角形槽,且吸附槽于干箔辊中点位置处为吸附槽最高点,吸附槽前后则沿干箔辊形状向固定杆前后方向倾斜,干箔辊内套接有卡套,卡套为空心圆环柱体,且卡套为三段式结构,卡套每段之间固定安装有细杆,细杆位于卡套外环上,细杆与卡套合计总长为干箔辊长度的三分之二,卡套内环与固定杆固定连接,卡套内设置有气囊,气囊为环形气囊,且气囊套接于卡套内环上,卡套中间段下方固定安装有负重块,干箔辊上设置有压片,且压片位于两个相邻的吸附槽之间中点的位置,压片一端与干箔辊铰接,压片中点处固定安装有弹簧,弹簧另一端与干箔辊外壁固定连接,压片另一端固定安装有顶块,干箔辊外壁上与顶块相对应的位置开设有槽,且该槽贯穿干箔辊开设,顶块插入于槽内并与气囊相接触,且压片、弹簧和顶块沿干箔辊外壁固定安装有四个,同时四个压片、弹簧和顶块设置角度与吸附槽相同但与吸附槽相错开,压片与右侧的吸附槽之间开设有两条通孔,且气囊于通孔的位置设置有出气口。
优选的,所述液槽为梯形溶液槽。
优选的,所述滚动轴承a直径为导辊a直径的一半。
优选的,所述液槽内防氧化液的高度低于液下辊a和液下辊b内的滚动轴承a最下端。
优选的,所述连接板厚度与滚动轴承b厚度相同,且连接板宽度与连接杆直径长度相同。
优选的,所述连接杆长度与液槽宽度相同。
(三)有益效果
与现有技术相比,本发明提供了一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,具备以下有益效果:
1、该新型铜箔防氧化槽液下辊机制,现有技术中铜箔的防氧化槽内通常仅设置有一个液下辊来让铜箔去进行防氧化处理,本装置在液槽中原有的液下辊a一侧额外添加了一个液下辊b来进行使用,因为液槽本身体积大小较大,因此原来的使用方法中,将液槽本身体积大小的优势完全舍弃了,本装置设置的两个液下辊能够将液槽的空间利用率最大化,同时因为液下辊b的设置,让铜箔与防氧化液的接触面积变得更大,同时也有效延长了铜箔与防氧化液的接触时间,从而让铜箔的防氧化性能由原来的140℃10分钟,提高到150℃15分钟,并且将铜箔的存储时间延长至三个月,同时所产铜箔在存储和长途运输过程中氧化变性的问题得到有效改善,效果显著。
2、该新型铜箔防氧化槽液下辊机制,全部辊体外壁均包裹有聚四氟乙烯材料,同时在两个液下辊的两端均安装了滚动轴承b,聚四氟乙烯材料具有耐高温,耐腐蚀、不粘、自润滑、优良的介电性能、很低的摩擦系数等性能,聚四氟乙烯材料让辊体在拉动铜箔时,铜箔能够更加柔顺的在辊体上被拉动,同时也不会对铜箔造成损坏,而滚动轴承b则能够最大限度的减小摩擦阻力,提高装置的工作效率。
3、该新型铜箔防氧化槽液下辊机制,在干箔辊内设置了压板等装置来进行运作,在干箔辊转动运作时,铜箔会将压片进行下压,同时将气囊内的风从通孔内吹出,从而将铜箔上的液体进行吹落,减少铜箔上沾有的防氧化液,同时也能将铜箔沾有的防氧化液吹回液槽内,减少防氧化液的消耗。
4、该新型铜箔防氧化槽液下辊机制,将铜箔按照固定的路径进行环绕,在铜箔进行防氧化处理后,导辊b能够将铜箔一侧表面所沾有的防氧化液挤落回液槽中,减少了防氧化液的损耗,同时在干箔辊的配合下,则能够将铜箔两面的防氧化液挤落回液槽中。
5、该新型铜箔防氧化槽液下辊机制,将吸附槽设计为外窄内宽的形状,使得干箔辊本身对液滴等流体具有一定吸附性,在铜箔经过干箔辊时,干箔辊会先将大部分防氧化液挤落,然后由于吸附槽内部空间大于槽口,铜箔上沾着的多余的液体上的张力则会向吸附槽内部散发,从而让多余的防氧化液被吸入吸附槽中,同时因为吸附槽为中间高前后低的设计,在防氧化液被吸入吸附槽内后,在吸附槽内的防氧化液液滴形成足够的重量后能够从吸附槽前后流出,从而让铜箔能够尽快的被进行收卷,同时也能够减少防氧化液的浪费。
附图说明
图1为本发明主体结构示意图;
图2为本发明主体结构剖视图;
图3为本发明主体结构俯视图;
图4为本发明干箔辊结构左视图;
图5为本发明干箔辊结构示意图;
图6为本发明干箔辊结构剖视图;
图7为本发明干箔辊结构左视剖视图;
图8为本发明图7中A处结构放大示意图。
图中:1液槽、2导辊a、3导辊b、4滚动轴承a、5连接杆、6支撑杆、7滚动轴承b、8转动轴、9液下辊a、10液下辊b、11干箔辊、12固定杆、13连接板、14吸附槽、15卡套、16细杆、17气囊、18负重块、19压片、20弹簧、21顶块、22通孔。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-8,一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,包括液槽1和导辊a2、导辊b3,液槽1为梯形溶液槽,且液槽1内装有防氧化液,导辊a2和导辊b3为相同形状的辊体,导辊a2与导辊b3内均设置有滚动轴承a4,且导辊a2与导辊b3安装有相同的装置,同时导辊a2与导辊b3内装置的安装方法均相同,滚动轴承a4设置于导辊a2最前端与最后端,且滚动轴承a4直径为导辊a2直径的一半,滚动轴承a4外环与导辊a2固定连接,滚动轴承a4内环固定安装有连接杆5,连接杆5长度与液槽1宽度相同,导辊a2和导辊b3设置于液槽1上方,且导辊a2和导辊b3分别位于液槽1左右两端上方位置,导辊a2内的连接杆5下方固定安装有支撑杆6,支撑杆6位于连接杆5前后两端末端,且支撑杆6另一端与液槽1固定连接,导辊b3上的连接杆5也通过与导辊a2相同的方式与液槽1进行连接,液槽1内中点处设置有四个滚动轴承b7,滚动轴承b7直径与滚动轴承a4直径相同,滚动轴承b7于液槽1前后内壁两两对称设置,四个滚动轴承b7靠近液槽1内壁的一侧外环均与液槽1内壁固定连接,左侧两个前后相对的滚动轴承b7内环套接有转动轴8,且转动轴8上套接有液下辊a9,右侧的两个滚动轴承b7内则套接有相同的转动轴8,且右侧的转动轴8上套接有液下辊b10,液下辊a9和液下辊b10之间连线与液槽1底面相平行,液下辊a9、液下辊b10与导辊a2、导辊b3为相同结构的辊体,即液下辊a9与液下辊b10内也设置有与导辊a2、导辊b3内相同的滚动轴承a4,且液下辊a9、液下辊b10、导辊a2和导辊b3为形状大小均相同的辊体,同时液下辊a9和液下辊b10内的滚动轴承a4安装方法与导辊a2内的滚动轴承a4的安装方法相同,液槽1内防氧化液的高度低于液下辊a9和液下辊b10内的滚动轴承a4最下端,铜箔从导辊a2上方放入液槽1内,并经过液下辊a9和液下辊b10后从液槽1右侧伸出,在液槽1内额外设置一个液下辊b10能够在不影响铜箔与防氧化液接触的情况下,增加铜箔在防氧化液中的接触面积,同时还有效延长了铜箔与防氧化液的接触时间,从而增加了铜箔的存储时间,让铜箔在存储和长途运输过程中氧化变性的问题得到有效改善,同时两个液下辊也让铜箔在防氧化液中进行处理时,液下辊a9和液下辊b10能够让铜箔在防氧化液中始终保持完全伸展的状态,而不会有地方被折叠导致铜箔表面的防氧化处理不完全,从而影响铜箔的使用。
液槽1上方还设置有干箔辊11,干箔辊11位于导辊a2与导辊b3之间中点处,且干箔辊11为与导辊a2相同的辊体,即干箔辊11内活动安装有滚动轴承a4,干箔辊11的滚动轴承a4内环固定连接有固定杆12,固定杆12长度与连接杆5长度相等,且固定杆12前后两端均设置有滚动轴承b7,固定杆12前后两端的滚动轴承b7左右均固定连接有连接板13,连接板13厚度与滚动轴承b7厚度相同,且连接板13宽度与连接杆5直径长度相同,连接板13与固定杆12前后的滚动轴承b7外环固定连接,且两段连接板13呈直线设置,同时连接板13另一端与接近的连接杆5固定连接,上述所描述的所有辊体外壁均包裹有聚四氟乙烯,在铜箔由液下辊b10右侧伸出后,从导辊b3右侧环绕半圈后,从干箔辊11下方绕至干箔辊11上方后对铜箔进行收卷,导辊b3能够将处理后的铜箔向外收卷,同时导辊b3能够将铜箔一侧面上沾有的防氧化液挤落,同时让防氧化液沿铜箔流回液槽1中,减少防氧化液的损耗,而干箔辊11则将铜箔另一面的防氧化液挤落流回液槽1中,同时也能将处理后的铜箔上沾有的多余的防氧化液进行回收再利用,干箔辊11辊体上开设有四条吸附槽14,四条吸附槽14沿干箔辊11侧表面等距开设,吸附槽14为上窄下宽的三角形槽,且吸附槽14于干箔辊11中点位置处为吸附槽14最高点,吸附槽14前后则沿干箔辊11形状向固定杆12前后方向倾斜,吸附槽14由于外窄内宽的形状设计,使得干箔辊11本身对液滴等流体具有一定吸附性,在铜箔经过干箔辊11时,干箔辊11会先将大部分防氧化液挤落,然后吸附槽14则会将铜箔上沾着的多余的液体进行吸附,从而让多余的防氧化液被吸入吸附槽14中,同时因为吸附槽14为中间高前后低的设计,在防氧化液被吸入吸附槽14内后,在吸附槽14内的防氧化液液滴形成足够的重量后能够从吸附槽14前后流出,从而让铜箔能够尽快的被进行收卷,同时也能够减少防氧化液的浪费,干箔辊11内套接有卡套15,卡套15为空心圆环柱体,且卡套15为三段式结构,卡套15每段之间固定安装有细杆16,细杆16位于卡套15外环上,细杆16与卡套15合计总长为干箔辊11长度的三分之二,卡套15内环与固定杆12固定连接,卡套15内设置有气囊17,气囊17为环形气囊,且气囊17套接于卡套15内环上,同时气囊17内设置有多个弹簧辅助气囊17进行弹性伸缩,卡套15中间段下方固定安装有负重块18,负重块18能够保证卡套15不会跟随固定杆12进行转动,干箔辊11上设置有压片19,且压片19位于两个相邻的吸附槽14之间中点的位置,压片19一端与干箔辊11铰接,压片19中点处固定安装有弹簧20,弹簧20另一端与干箔辊11外壁固定连接,压片19另一端固定安装有顶块21,干箔辊11外壁上与顶块21相对应的位置开设有槽,且该槽贯穿干箔辊11开设,顶块21插入于槽内并与气囊17相接触,且压片19、弹簧20和顶块21沿干箔辊11外壁固定安装有四个,同时四个压片19、弹簧20和顶块21设置角度与吸附槽14相同但与吸附槽14相错开,压片19与右侧的吸附槽14之间开设有两条通孔22,且气囊17于通孔22的位置设置有出气口,在干箔辊11转动运作时,铜箔会将压片19进行下压,同时将气囊17内的风从通孔22内吹出,从而将铜箔上的液体进行吹落,减少铜箔上沾有的防氧化液,同时也能将铜箔沾有的防氧化液吹回液槽1内,减少防氧化液的消耗,同时在转过一个压片19后,也会有一个新的压片19被转出铜箔与干箔辊11之间,同时气囊17内的弹簧能够辅助气囊17重新进行吸气,达到预想的循环效果。
在使用时,
第一步,将铜箔放置于导辊a2上方,然后将铜箔从液下辊a9和液下辊b10下方穿过,接着从导辊b3右侧穿过后,从干箔辊11下方绕过,然后将铜箔该端与收卷装置相连接。
第二步,启动收卷装置,接着铜箔会跟随第一步所描述的路径进行运转,然后因为导辊a2和导辊b3的设定,让铜箔与防氧化液的接触面积变得更大,同时也延长了铜箔与防氧化液的接触时间,同时两个液下辊也让铜箔在防氧化液中进行处理时,液下辊a9和液下辊b10能够让铜箔在防氧化液中始终保持完全伸展的状态,而不会有地方被折叠导致铜箔表面的防氧化处理不完全,从而影响铜箔的使用。
第三步,在铜箔由液下辊b10右侧伸出后,从导辊b3右侧环绕半圈后,从干箔辊11下方绕至干箔辊11上方后对铜箔进行收卷,导辊b3能够将处理后的铜箔向外收卷,同时导辊b3能够将铜箔一侧面上沾有的防氧化液挤落,同时让防氧化液沿铜箔流回液槽1中,减少防氧化液的损耗,而干箔辊11则将铜箔另一面的防氧化液挤落流回液槽1中,同时也能将处理后的铜箔上沾有的多余的防氧化液进行回收再利用,同时铜箔会将压片19进行下压,从而将气囊17内的风从通孔22内吹出,进而将铜箔上的液体进行吹落,减少铜箔上沾有的防氧化液,同时也能将铜箔沾有的防氧化液吹回液槽1内,减少防氧化液的消耗。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,包括液槽(1)和导辊a(2)、导辊b(3),其特征在于:所述液槽(1)为梯形溶液槽,导辊a(2)和导辊b(3)为相同形状的辊体,导辊a(2)与导辊b(3)内均设置有滚动轴承a(4),且导辊a(2)与导辊b(3)安装有相同的装置,同时导辊a(2)与导辊b(3)内装置的安装方法均相同,滚动轴承a(4)内环固定安装有连接杆(5),导辊a(2)和导辊b(3)设置于液槽(1)上方,导辊a(2)内的连接杆(5)下方固定安装有支撑杆(6),支撑杆(6)位于连接杆(5)前后两端末端,且支撑杆(6)另一端与液槽(1)固定连接,液槽(1)内中点处设置有四个滚动轴承b(7),滚动轴承b(7)于液槽(1)前后内壁两两对称设置,四个滚动轴承b(7)靠近液槽(1)内壁的一侧外环均与液槽(1)内壁固定连接,左侧两个前后相对的滚动轴承b(7)内环套接有转动轴(8),且转动轴(8)上套接有液下辊a(9),右侧的两个滚动轴承b(7)内则套接有相同的转动轴(8),且右侧的转动轴(8)上套接有液下辊b(10),液槽(1)上方还设置有干箔辊(11),干箔辊(11)内活动安装有滚动轴承a(4),干箔辊(11)的滚动轴承a(4)内环固定连接有固定杆(12),固定杆(12)前后两端均设置有滚动轴承b(7),固定杆(12)前后两端的滚动轴承b(7)左右均固定连接有连接板(13),连接板(13)另一端与接近的连接杆(5)固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述滚动轴承a(4)设置于导辊a(2)最前端与最后端,滚动轴承a(4)外环与导辊a(2)固定连接,干箔辊(11)内套接有卡套(15),卡套(15)为空心圆环柱体,且卡套(15)为三段式结构,卡套(15)每段之间固定安装有细杆(16),细杆(16)位于卡套(15)外环上,卡套(15)内环与固定杆(12)固定连接,卡套(15)内设置有气囊(17),卡套(15)中间段下方固定安装有负重块(18),干箔辊(11)上还设置有压片(19),且压片(19)位于两个相邻的吸附槽(14)之间中点的位置,压片(19)一端与干箔辊(11)铰接,压片(19)中点处固定安装有弹簧(20),弹簧(20)另一端与干箔辊(11)外壁固定连接,压片(19)另一端固定安装有顶块(21),干箔辊(11)外壁上与顶块(21)相对应的位置开设有槽,且该槽贯穿干箔辊(11)开设,顶块(21)插入于槽内并与气囊(17)相接触,压片(19)与右侧的吸附槽(14)之间的位置开设有两条通孔(22),且气囊(17)于通孔(22)的位置设置有出气口。
3.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述导辊b(3)上的连接杆(5)也通过与导辊a(2)相同的方式与液槽(1)进行连接。
4.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述压片(19)、弹簧(20)和顶块(21)沿干箔辊(11)外壁固定安装有四个,同时四个压片(19)、弹簧(20)和顶块(21)设置角度与吸附槽(14)相同但与吸附槽(14)相错开。
5.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述液下辊a(9)和液下辊b(10)之间连线与液槽(1)底面相平行,液下辊a(9)、液下辊b(10)与导辊a(2)、导辊b(3)为相同结构的辊体,即液下辊a(9)与液下辊b(10)内也设置有与导辊a(2)、导辊b(3)内相同的滚动轴承a(4),且液下辊a(9)、液下辊b(10)、导辊a(2)和导辊b(3)为形状大小均相同的辊体,同时液下辊a(9)和液下辊b(10)内的滚动轴承a(4)安装方法与导辊a(2)内的滚动轴承a(4)的安装方法相同。
6.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述干箔辊(11)位于导辊a(2)与导辊b(3)之间中点处,且干箔辊(11)为与导辊a(2)相同的辊体。
7.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述气囊(17)为环形气囊,且气囊(17)套接于卡套(15)内环上。
8.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述连接板(13)厚度与滚动轴承b(7)厚度相同,且连接板(13)宽度与连接杆(5)直径长度相同,连接板(13)与固定杆(12)前后的滚动轴承b(7)外环固定连接,且两段连接板(13)呈直线设置。
9.根据权利要求1所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述箔辊(11)辊体上开设有四条吸附槽(14),四条吸附槽(14)沿干箔辊(11)侧表面等距开设。
10.根据权利要求9所述的一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制,其特征在于:所述吸附槽(14)为上窄下宽的三角形槽,且吸附槽(14)于干箔辊(11)中点位置处为吸附槽(14)最高点,吸附槽(14)前后则沿干箔辊(11)形状向固定杆(12)前后方向倾斜。
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0504939A2 (en) * 1991-03-21 1992-09-23 Eltech Systems Corporation Electrolytic cell anode
CN1791703A (zh) * 2003-05-15 2006-06-21 吉布尔.施密德有限责任公司 用于物体处理、尤其是印刷电路板电蚀刻的装置
CN201793786U (zh) * 2010-09-30 2011-04-13 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置
KR101616332B1 (ko) * 2015-01-23 2016-05-13 (주)디엠텍코리아 도금용 캐소드 지지 모듈 및 이를 포함하는 도금 장치
CN108866612A (zh) * 2018-07-16 2018-11-23 张志能 封闭式电镀线
CN208748221U (zh) * 2018-06-26 2019-04-16 宝兴县剑锋制箔电子有限公司 新型防结晶的检电电压稳定装置
CN209144290U (zh) * 2018-11-21 2019-07-23 天津迪沃德机电设备有限公司 一种镀锌钢板生产用涂镀装置
CN209243210U (zh) * 2018-11-30 2019-08-13 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 一种双光电解铜箔防氧化处理装置
CN210945821U (zh) * 2019-09-06 2020-07-07 陕西汉和新材料科技有限公司 一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0504939A2 (en) * 1991-03-21 1992-09-23 Eltech Systems Corporation Electrolytic cell anode
CN1791703A (zh) * 2003-05-15 2006-06-21 吉布尔.施密德有限责任公司 用于物体处理、尤其是印刷电路板电蚀刻的装置
CN201793786U (zh) * 2010-09-30 2011-04-13 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 铜箔的表面处理系统中的溶液槽装置
KR101616332B1 (ko) * 2015-01-23 2016-05-13 (주)디엠텍코리아 도금용 캐소드 지지 모듈 및 이를 포함하는 도금 장치
CN208748221U (zh) * 2018-06-26 2019-04-16 宝兴县剑锋制箔电子有限公司 新型防结晶的检电电压稳定装置
CN108866612A (zh) * 2018-07-16 2018-11-23 张志能 封闭式电镀线
CN209144290U (zh) * 2018-11-21 2019-07-23 天津迪沃德机电设备有限公司 一种镀锌钢板生产用涂镀装置
CN209243210U (zh) * 2018-11-30 2019-08-13 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 一种双光电解铜箔防氧化处理装置
CN210945821U (zh) * 2019-09-06 2020-07-07 陕西汉和新材料科技有限公司 一种新型铜箔防氧化槽液下辊机制

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