CN110563224A - 一种深度氧化污水处理系统 - Google Patents
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Abstract
本发明属于污水处理技术领域,具体公开了一种深度氧化污水处理系统包括:U形管、进水口、第一出水口、沉淀槽、排污口、第一管道、第二管道、储气室、第一反应室、臭氧破坏器、第二出水口、第二反应室、折流板、光源板、催化剂板和第三微涡流水力混合器。本发明的技术方案对污水和臭氧O3进行充分混合,臭氧O3利用率较高。人员操作简单、反应条件温和、二次污染小。
Description
技术领域
本发明属于污水处理技术领域,尤其涉及一种深度氧化污水处理系统。
背景技术
水在生命演化中起到了重要的作用。但是随着工农业生产的发展,水环境污染变得越来越严重,严重的影响到了人类正常生活的问题,像含有大量的有机物、病菌、细菌的等物质的污水如果不经过处理直接排放会对环境产生较大的污染。而传统的技术采用加漂白消毒、成本低廉、但存在残余氯气残留,有致癌作用,而一般加入臭氧O3对污水进行氧化同样存在反应不充分效果不明显,不能很好的利用臭氧O3,即利用率低下。
现有中国专利申请号为:201811149684.6公开了一种污水高级氧化处理装置包括处理箱、加气搅拌模块和扰流模块,处理箱的侧壁内布置有多块电磁铁一,储气室内存储有氧气和臭氧的混合气体,且储气室内壁以及储气室下端外壁上布置有多个紫外线灯;加气搅拌模块位于储气室下端,加气搅拌模块与储气室连通,加气搅拌模块用于对处理箱内的污水进行搅拌以及对污水内通入混合气体而将污水氧化处理;扰流模块位于处理箱底端,扰流模块用于推动处理箱底端的污水,使处理箱底端的污水向上流动;该发明通过在污水中通入氧气与臭氧的混合气体,并通过磁性球在污水中来回运动而促进混合气体与污水的反应,有效提高了污水氧化处理的效果,但是没有提出一种深度氧化污水处理系统。
又如中国专利申请号为:201711232864.6公开了污水处理设备包括:沉淀池、挡板、溢水口、污水进水口、出水口、出渣口、一号过滤板、二号过滤板、过水管、氧化池、净化池和清水池;在沉淀池的底端中心竖直设置挡板,且挡板与顶壁之间设有溢水口;在沉淀池的左右两端的上部分别设置有污水进水口和出水口;在沉淀池的左右两端的底部分别设置一出渣口;在溢水口和出水口的前侧分别设置一号过滤板和二号过滤板;在沉淀池的右端设置氧化池;在出水口上设置过水管,且过水管的另一端设置在氧化池上;在氧化池的右端设置净化池;在所述净化池的右端设置清水池,该装置结构简单,设计合理,成本低,处理效率高,便于推广,但是同样没有提出一种深度氧化污水处理系统。
发明内容
为了解决现有技术中存在的上述问题和缺陷,本发明提出一种深度氧化污水处理系统。
所述污水处理系统包括:U形管、进水口、第一出水口、沉淀槽、排污口、第一管道、第二管道、储气室、第一反应室、臭氧破坏器、第二出水口、第二反应室、折流板、光源板、催化剂板和第三微涡流水力混合器;U形管两端分别设有进水口和第一出水口,U形管下部设置有沉淀槽,沉淀槽下部设有排污口;第一出水口通过第一管道与第一反应室相连,第一管道下部设有第二管道,储气室设于第一管道和第二管道之间,第一反应室与第二反应室连通,第二反应室上部设有臭氧破坏器,第二反应室侧壁底部设有第二出水口,第二反应室内部设有的折流板将第二反应室分为多级反应室,多级反应室内部设置第三微涡流混合器,第三微涡流混合器上部设置有光源板和催化剂板。
进一步的,第一出水口上设有第一阀门。
进一步的,沉淀槽通过翻板阀与排污口相连。
进一步的,储气室侧壁底部设有进气口,储气室内部设有紫外线灯。
进一步的,第二管道内设置有第一微涡流水力混合器。
进一步的,第一反应室设置的多级导管相互连通,多级导管中的第一导管与第一管道连接,第二导管与第二反应室连接,多级导管内设置有第二微涡流水力混合器。
进一步的,第三微涡流水力混合器为间隔平行设置多个,第三微涡流水力混合器内部间隔平行设置多个管道。
进一步的,折流板在第二反应室设置方式为折流板与第二反应室内壁底部垂直固定,折流板与第二反应室内壁上部固定,重复设置方式相互平行设置于第二反应室内部。
进一步的,催化剂板和光源板平行且间隔排列。
进一步的,催化剂板上镶嵌有催化剂颗粒,催化剂颗粒为二氧化锰和氧化铜的混合物。
相对于现有技术,本发明具如下的有益效果:
1.所述污水处理系统对污水和臭氧O3进行充分混合,臭氧O3利用率较高,人员操作简单、反应条件温和、二次污染小。
2.所述污水处理系统通过设置U形管以及沉淀槽,将大于污水密度的杂质进行沉淀处理,通过设置在第二管道、第一反应室以及第二反应室的微涡流水力混合器将臭氧O3和污水进行充分反应;通过设置在第二反应室中的催化剂板和光源板充分保障了光照和催化强度;通过设置的臭氧破环器保证排放空气中的臭氧O3含量达到排放标准;通过设置的储气室控制臭氧O3的产生。
附图说明
图1是本发明的所述污水处理系统。
附图标记:1-U型管,2-进水口,3-第一出水口,4-第一阀门,5-沉淀槽,6-排污口,7-翻板阀,8-第一管道,9-第二管道、9.1-第一微涡流混合水力器,10-储气室,11-紫外线灯,12-第一反应室、12.1-第一导管、12.2-第二导管、12.3-第二微涡流混合水力器,13-臭氧破坏器,14-第二出水口,15-第二反应室,16-折流板,17-光源板,18-催化剂板,19-第三微涡流水力混合器,20-进气口。
具体实施方式
下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
如图1所示,所述污水系统包括:U形管1、进水口2、第一出水口3、沉淀槽5、排污口6、第一管道8、第二管道9、储气室10、第一反应室12、臭氧破坏器13、第二出水口14、第二反应室15、折流板16、光源板17、催化剂板18和第三微涡流水力混合器19;U形管1两端分别设有进水口2和第一出水口3,U形管1下部设置有沉淀槽5,沉淀槽5下部设有排污口6;第一出水口3通过第一管道8与第一反应室12相连,第一管道8下部设有第二管道9,储气室10设于第一管道8和第二管道9之间,第一反应室12与第二反应室15连通,第二反应室15上部设有臭氧破坏器13,第二反应室15侧壁底部设有第二出水口14,第二反应室15内部设有的折流板16将第二反应室15分为多级反应室,多级反应室内部设置第三微涡流混合器19,第三微涡流混合器19上部设置有光源板17和催化剂板18。
进一步的,第一出水口3上设有第一阀门4。
进一步的,沉淀槽5通过翻板阀7与排污口6相连。
进一步的,储气室10侧壁底部设有进气口20,储气室10内部设有紫外线灯11。
进一步的,第二管道9内设置有第一微涡流水力混合器9.1。
进一步的,第一反应室12设置的多级导管相互连通,多级导管中的第一导管12.1与第一管道8连接,第二导管12.2与第二反应室15连接,多级导管内设置有第二微涡流水力混合器12.3。
进一步的,第三微涡流水力混合器19为间隔平行设置多个,第三微涡流水力混合器19内部间隔平行设置多个管道。
进一步的,折流板16在第二反应室15设置方式为折流板16与第二反应室15内壁底部垂直固定,折流板16与第二反应室15内壁上部固定,重复设置方式相互平行设置于第二反应室15内部。
进一步的,催化剂板18和光源板17平行且间隔排列。
进一步的,催化剂18板上镶嵌有催化剂颗粒,催化剂颗粒为二氧化锰和氧化铜的混合物。
工作原理:
污水从U型管1的进水口2流入,污水中含有密度比水密度重的物质或者淤泥、杂质通过设置的沉淀槽5进行沉淀处理,当杂质、淤泥达到一定重量后打开翻板阀7通过排污口6排出,其余污水通过第一出水口3进入第一管道8,然后泵送至第二管道9,第一管道8与第二管道9之间设置储气室10,储气室10通过进气口20进入氧气O2和臭氧O3的混合气体,通过内部设置的紫外线灯11将氧气O2转换为臭氧O3,泵送至第二管道9,第二管道9内部设置的第一微涡流水力混合器9.1将臭氧O3与污水充分反应,进而送至第一管道8,第一管道8将污水通过第一导管12.1输送至第一反应室12,第一反应室12为多级设置的第二微涡流水力混合器12.1的管道继续对污水与臭氧O3充分混合;第二导管12.2继续将混合后的污水输送至第二反应室15,第二反应室15中的折流板16以及第三微涡流水力混合器19的设置对污水与臭氧O3充分混合,第三微涡流水力混合器19上设置的光源板17和催化剂板18,具体的排列顺序为:光源板17、催化剂板18、光源板17、催化剂板18;催化剂板18表面镶嵌有催化剂颗粒,催化剂板18与污水水流动方向呈40°~65°角度,延长污水停留时间,使污水与催化剂充分接触,对臭氧流动起到了扰流作用,使催化剂和臭氧充分反应,生成高氧化电势的自由基,促使污水中有机物分解,而光源板17同样与污水流动方向呈40°~65°角,光源固定在污水流动区域内,保证各个区域内污水的光照强度,保障催化效率;最后从第二出水口14排出净化后的水,为了保证排出的空气中臭氧O3的含量,在第二反应室15上设置了臭氧破坏器13。
以上的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种深度氧化处理污水系统,其特征在于,包括:U形管、进水口、第一出水口、沉淀槽、排污口、第一管道、第二管道、储气室、第一反应室、臭氧破坏器、第二出水口、第二反应室、折流板、光源板、催化剂板和第三微涡流水力混合器;U形管两端分别设有进水口和第一出水口,U形管下部设置有沉淀槽,沉淀槽下部设有排污口;第一出水口通过第一管道与第一反应室相连,第一管道下部设有第二管道,储气室设于第一管道和第二管道之间,第一反应室与第二反应室连通,第二反应室上部设有臭氧破坏器,第二反应室侧壁底部设有第二出水口,第二反应室内部设有的折流板将第二反应室分为多级反应室,多级反应室内部设置第三微涡流混合器,第三微涡流混合器上部设置有光源板和催化剂板。
2.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述第一出水口上设有第一阀门。
3.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述沉淀槽通过翻板阀与所述排污口相连。
4.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述储气室侧壁底部设有进气口,所述储气室内部设有紫外线灯。
5.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述第二管道内设置第一微涡流水力混合器。
6.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述第一反应室设置的多级导管相互连通,所述多级导管中的第一导管与所述第一管道连接,第二导管与所述第二反应室连接,所述多级导管内设置有第二微涡流水力混合器。
7.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述第三微涡流水力混合器为间隔平行设置多个,所述第三微涡流水力混合器内部间隔平行设置多个管道。
8.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述折流板在所述第二反应室设置方式为所述折流板与所述第二反应室内壁底部垂直固定,所述折流板与所述第二反应室内壁上部固定,重复设置方式相互平行设置于所述第二反应室内部。
9.根据权利要求1所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述催化剂板和所述光源板平行且间隔排列。
10.根据权利要求9所述的深度氧化处理污水系统,其特征在于,所述催化剂板上镶嵌有催化剂颗粒,所述催化剂颗粒为二氧化锰和氧化铜的混合物。
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