CN110500984B - 一种调心调平精密转台 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种调心调平精密转台，自上而下包括承载平台、调心调平平台、保持架及基座，所述调心调平平台容纳在所述保持架上方的容纳空间内，所述保持架上方容纳空间的内径大于所述调心调平平台的外径，所述基座嵌入在所述保持架下方的容纳空间内；所述调心调平平台设置有调心模块和调平模块。
Description
技术领域
本发明涉及机械结构设计领域，尤其涉及一种调心调平精密转台。
背景技术
精密调平调心转台用于对航天产品的圆度检测，要求可在旋转条件下使用千分表对精密加工工件的平面度和圆周度进行测量，因此对转台所能实现的调平、调心精度均有较高要求。
发明内容
本发明提供了一种调心调平精密转台，其技术方案为：
一种调心调平精密转台自上而下包括承载平台、调心调平平台、保持架及基座，所述调心调平平台容纳在所述保持架上方的容纳空间内，所述保持架上方容纳空间的内径大于所述调心调平平台的外径，所述基座嵌入在所述保持架下方的容纳空间内；所述调心调平平台设置有调心模块和调平模块。
进一步地，所述调心模块包括在所述保持架上部沿圆周方向均匀分布的四个调心螺钉；所述保持架沿正交坐标系方向设置若干个容纳孔，所述容纳孔用于容纳滚珠；所述调心调平平台的底部对应所述保持架上正交坐标系设置有与所述保持架上的滚珠相切的倒V型凹槽。
进一步地，所述调平模块包括三个以间隔120˚方式均匀分布在圆周上的调平组件，所述调平组件包括上滑块、下滑块、调平螺钉、弹性组件以及设置在所述调心调平平台上的导向槽，所述上滑块固定在所述调心调平平台上，所述下滑块及弹性组件设置于导向槽内，所述调平螺钉与所述下滑块连接并使所述下滑块在所述导向槽内移动，所述下滑块与所述上滑块接触的表面为斜面。
进一步地，所述滚珠直径大于所述保持架的截面厚度。
进一步地，所述倒V型凹槽为90˚倒V型凹槽。
本发明的有益效果为：本调心调平精密转台的调心实现方式通过调心螺钉驱动平台运动来实现；在调平方式上通过“螺钉—楔块”组合方式将调平螺钉的平动转化为下滑块带动下平台在垂直平面上的精密微调。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1示出了一种调心调平精密转台的结构示意图；
图2示出了一种调心调平精密转台的另一结构示意图；
图3示出了保持架的结构示意图；
图4示出了调心调平平台的结构示意图；
图5示出了基座结构示意图；
图中：1、承载平台；2、调心调平平台；3、保持架；4、基座；6、调平螺钉；5、调心螺钉；7、滚珠；8、容纳孔；9、下滑块；10、上滑块；11、弹性组件；12、倒V型凹槽；13、同心环槽。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
一种调心调平精密转台自上而下包括承载平台1、调心调平平台2、保持架3及基座4，调心调平平台2容纳在保持架3上方的容纳空间内，保持架3截面呈工字形。为保持调心距离冗余量，保持架3上方容纳空间的内径大于调心调平平台2的外径，两者的直径之差则为调心行程。基座4嵌入在保持架3下方的容纳空间内；所述调心调平平台2设置有调心模块和调平模块。
具体地，调心模块包括在保持架3上部沿圆周方向均匀分布的四个调心螺钉5；保持架3沿正交坐标系方向设置若干个容纳孔8，容纳孔8用于容纳滚珠7；容纳孔8直径等于滚珠7直径，滚珠7直径大于保持架3截面厚度，通过滚珠实现调心调平平台和基座之间的接触，将滑动摩擦转变为滚动摩擦，用以实现旋转和调心过程中的减摩功能。基座4上对应安装滚珠的位置设置同心环槽13（如图5所示），约束滚珠运动轨迹并用以实现转台的旋转。
调心调平平台2的底部对应保持架3上正交坐标系设置有与保持架3上的滚珠7相切的倒V型凹槽12。更具体地，该倒V型凹槽12为90˚倒V型凹槽。保持架3上部沿圆周方向均匀分布四个调心螺钉5，对应调心调平平台底部制作的正交坐标系端点的倒V形凹槽12的四个端点。采用两点调心法，通过调整正交分布的调心螺钉5，两个相对分布的螺钉5之间互相配合调整、锁紧，推动调心圆盘的在一个方向的微位移；通过两个正交方向的微调，实现转台的调心功能。
调平模块包括三个以间隔120˚方式均匀分布在圆周上的调平组件，调平组件包括上滑块10、下滑块9、调平螺钉6、弹性组件11以及设置在调心调平平台上的导向槽，上滑块10固定在调心调平平台2上，下滑块9及弹性组件11设置于导向槽内，调平螺钉6与下滑块9连接并使下滑块9在导向槽内移动，下滑块9与上滑块10接触的表面为斜面。当旋转调平螺钉6时，调平螺钉6推动下滑块9在导向槽内移动，由于下滑块9与上滑块10的接触表面为斜面，从而推动上滑块对承载平台1有向上或向下的力，并使承载平台1在竖直方向上有微量移动，从而实现调平运动。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种调心调平精密转台，其特征在于，自上而下包括承载平台、调心调平平台、保持架及基座，所述调心调平平台容纳在所述保持架上方的容纳空间内，所述保持架上方容纳空间的内径大于所述调心调平平台的外径，所述基座嵌入在所述保持架下方的容纳空间内；所述调心调平平台设置有调心模块和调平模块;所述调平模块包括三个以间隔120˚方式均匀分布在圆周上的调平组件，所述调平组件包括上滑块、下滑块、调平螺钉、弹性组件以及设置在所述调心调平平台上的导向槽，所述上滑块固定在所述调心调平平台上，所述下滑块及弹性组件设置于导向槽内，所述调平螺钉与所述下滑块连接并使所述下滑块在所述导向槽内移动，所述下滑块与所述上滑块接触的表面为斜面；
所述调心模块包括在所述保持架上部沿圆周方向均匀分布的四个调心螺钉；所述保持架沿正交坐标系方向设置若干个容纳孔，所述容纳孔用于容纳滚珠；所述调心调平平台的底部对应所述保持架上正交坐标系设置有与所述保持架上的滚珠相切的倒V型凹槽。
2.如权利要求1所述的调心调平精密转台，其特征在于，所述滚珠直径大于所述保持架的截面厚度。
3.如权利要求2所述的调心调平精密转台，其特征在于，所述倒V型凹槽为90˚倒V型凹槽。
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