CN110495256B - 连接等离子弧割炬及相关的系统和方法 - Google Patents

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Abstract

在一些方面,用于将等离子割炬引线连接到等离子切割系统的接触部件可包括:基部;基部内的成组的端口,包括:冷却剂供应端口,用于将液体冷却剂从切割系统输送到通过割炬引线连接到接触部件的等离子弧割炬,冷却剂回流端口:i)将回流液体冷却剂从割炬输送到切割系统,并且ii)将操作电流从切割系统输送到割炬,将处理气体输送到割炬的至少一个气体供应端口,以及欧姆触点连接器;以及连接器,其将基部连接到切割系统,并在联接到切割系统时将端口和电连接器中的每个连接到切割系统的相应互补连接。

Description

连接等离子弧割炬及相关的系统和方法
相关申请
本申请请求享有2016年12月19日提交的题为"Lead Connection for a PlasmaArc System"的美国临时专利申请序列号62/436203的权益,其内容通过引用整体并入本文。
技术领域
本公开总体涉及等离子弧割炬,并且更具体地涉及将等离子弧割炬连接到电源以及相关的系统和方法。
背景技术
一些传统的割炬系统(例如,等离子弧割炬系统)可包括一个或多个电气和气体输送引线,其具有割炬引线连接器以传递电流、密封液体/气体连接,并/或提供割炬和电源之间的固定方法。电源处的传统引线连接通常需要用于气体、冷却剂等中的每个的成组的离散连接,这些连接一次一个地连接,每个连接独立地拧紧和/或紧固在一起。一些常规的割炬连接利用螺纹连接器来实现这些连接。在一些情况下,一些等离子割炬电源具有多个螺纹连接,以将割炬流体地且电气地连接到割炬。具有诸如此类的成组的离散连接可能使安装和维护变得困难且耗时,甚至将割炬引线断开或重新连接到系统都需要经验丰富且知识渊博的技术人员。
发明内容
在一些方面,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统的液冷等离子切割系统接触部件可包括构造成联接到等离子割炬引线的基部;设置在基部内的成组的端口,该组端口包括:冷却剂供应端口,以将液体冷却剂从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到接触部件的等离子弧割炬;冷却剂回流端口:i)限定通路以将回流液体冷却剂从等离子弧割炬输送到液冷等离子切割系统,以及ii)配置成将操作电流从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到基部的等离子弧割炬;至少一个等离子体处理气体供应端口,以将等离子体处理气体从液冷等离子切割系统输送到等离子弧割炬,以及欧姆触点连接器;以及连接器,其设置在基部周围,以将基部联接到液冷等离子切割系统,并在联接到液冷等离子切割系统时,将冷却剂供应、冷却剂回流、气体供应和欧姆触点连接器中的每一个可操作地连接到液冷等离子切割系统的割炬引线插座的相应互补连接处。
实施例可包括以下特征中的一个或多个。
导引弧触点和第一气体供应端口每个可位于冷却剂供应端口附近。冷却剂回流端口和冷却剂供应端口可相对于中心区域设置在基部的相对侧。在一些情况下,至少一个等离子体处理气体供应端口可周向地设置在冷却剂回流端口和冷却剂供应端口之间。在一些情况下,欧姆触点连接器可设置在基部的与相对于中心区域的至少一个等离子体处理气体供应端口相对的一侧。
基部可限定前面,成组的端口从该前面延伸。前面可包括用于等离子弧割炬引线的电接地表面。冷却剂供应端口或冷却剂回流端口中的至少一个可比该组端口中的其它端口从前面轴向地延伸更远。
冷却剂回流端口的宽度可大于冷却剂供应端口的宽度。冷却剂回流端口可包括载流多触点带。冷却剂供应端口、气体供应端口和冷却剂回流端口可包括O形环密封部件。在一些情况下,连接器的螺纹可相对于基部轴向定位,以在O形环密封部件与其互补端口接合之前与割炬引线插座接合。
接触部件还可包括阀驱动器线缆,该阀驱动器线缆设置在基部的外部,并且构造成将液冷等离子切割系统通信地连接到割炬中的阀。
在一些方面,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统的等离子割炬引线插头可包括:底板,其构造成联接到等离子割炬引线;设置在底板中的成组的端口,该组端口包括:冷却剂供应端口,其沿底板的垂直轴线的上部区域设置,以将液体冷却剂从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到接触部件的等离子弧割炬;沿垂直轴线基本上位于冷却剂供应端口对面的冷却剂回流端口,冷却剂回流端口:i)限定通路以将回流液体冷却剂从等离子弧割炬输送到等离子割炬引线,并且ii)构造成将来自液冷等离子切割系统的操作电流输送到通过等离子割炬引线连接到基部的等离子弧割炬;第一气体供应端口,其位于垂直轴线的第一侧以将第一等离子处理气体从液冷等离子切割系统输送到等离子弧割炬;保护气体供应端口,其位于垂直轴线的第一侧,用于将保护气体从液冷等离子切割系统输送到等离子弧割炬;导引弧触点,其位于基本上与第一侧相对的垂直轴线的第二侧上;以及位于第二侧的欧姆触点;以及连接器,其设置在该组端口和底板周围,该连接器构造成将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统。
实施例可包括以下特征中的一个或多个。
欧姆触点和保护气体供应端口可位于冷却剂回流端口附近。底板可包括用于等离子弧割炬引线的电接地触点。
引线插头可包括阀驱动器线缆,该阀驱动器线缆设置在本体外部,并且构造成将液冷等离子切割系统通信地连接到割炬中的阀。
引线插头可包括设置在第一气体供应端口和保护气体供应端口之间的第二气体供应端口,第二气体供应端口将第二等离子体处理气体从液冷等离子体切割系统输送到等离子弧割炬。
在一些方面,将等离子弧割炬引线插头对准并连接到液冷等离子切割系统的连接器的方法可包括:通过将从引线插头的基部延伸的冷却剂回流端口插入连接器的冷却剂回流开口来将引线插头与连接器对准,冷却剂回流端口构造成提供从液冷等离子切割系统到连接到引线插头的等离子弧割炬的操作电流;通过相对于冷却剂回流端口的中心轴旋转引线插头来调节引线插头,以使设置在基部周围的连接器与液冷等离子切割系统的连接器的互补接收机构对准;使引线插头朝向连接器前进:进一步将冷却剂回流端口插入冷却剂回流开口,以在冷却剂回流端口和冷却剂回流开口之间建立电连接,以向等离子弧割炬提供操作电流;将冷却剂供应端口插入连接器的相应冷却剂供应开口;以及将连接器与互补接收机构接合,以:在所述引线插头的导引弧连接器与连接器的互补导引弧触点之间建立电连接;在引线插头的欧姆触点和连接器的互补欧姆触点之间建立电连接;并且建立一个或多个流体连接以向等离子弧割炬提供处理气体。
实施例可包括以下特征中的一个或多个。
在冷却剂回流端口和冷却剂回流开口之间建立电连接可包括使设置在冷却剂回流开口内的载流多触点带与冷却剂回流端口接触。在一些情况下,使连接器与互补接收机构接合可包括相对于带螺纹的互补接收机构旋转螺纹连接器。
本文描述的实施例可具有以下优点中的一个或多个。
这里描述的系统和方法可提供优于一些常规装置的一个或多个优点,如试图通过具有多个连接/工具来连接各种流体和电触点或限制其中端口数量来简化连接点的那些装置。然而,本文描述的系统和方法可能优于常规解决方案,常规解决方案可能具有显著电噪声问题,在安装期间依靠"D"形特征用于构件对准,通过切割电流传输预热其气体/冷却剂流,和/或要求割炬引线直接连接在电源上。例如,通过提供通过冷却剂回流端口而不是冷却剂供应端口的电流,提供给割炬的电流在其到达割炬之前不会显著预热冷却剂以冷却消耗物。
附图说明
图1是用于将等离子弧割炬连接到等离子弧处理系统的示例割炬引线插头的前视图,其中引线插头具有连接接口,以更容易地将引线插头对准并连接到等离子弧处理系统的插座。
图2是具有连接接口的示例等离子弧处理系统插座的前视图,该连接接口与图1的引线插头互补。
图3A-3E是连接到示例处理系统插座的示例性割炬引线插头的顺序截面视图,描绘了多步对准和连接顺序。
具体实施方式
在一些方面,等离子弧处理系统可包括割炬引线,该割炬引线在引线的系统端(即,在割炬相对端)具有系统侧连接接口(例如,快速连接引线接口(例如,接触部件、引线插头)),其通过简单地将引线插头插入互补插座并拧紧一个紧固件,允许用户将引线插头连接到电源系统。在一些实施例中,引线插头可包括所有冷却剂入口和出口、导引弧和欧姆感测接触点、气源、电源等,使得割炬(例如,经由引线插头和引线)可快速且轻松地与互补插座联接和分离。
参看图1,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统的液冷等离子切割系统引线插头100可包括基部102,基部102构造成联接到等离子割炬引线。基部102包括或限定成组的端口,以将一种或多种流体、气体或电流或信号从电源系统传送到割炬。例如,该组端口可包括一个或多个冷却剂端口,如冷却剂供应端口104和冷却剂回流端口106,一个或多个电连接,如欧姆触点连接器108和导引弧触点连接器110,以及一个或多个气体端口,如第一等离子气体端口112、第二等离子气体端口114和保护气体端口116。在一些实施例中,如下所述,端口中的一个或多个可构造为向割炬提供服务组合以支持等离子弧产生,如传递冷却剂和电流的组合。在一些实施例中,基部102限定前面103,该组端口从该前面延伸。如下所述,前面103可包括用于等离子弧割炬引线的电接地表面105。在一些实例中,电接地表面105可包括前面103的外缘或沿前面103的外缘形成。
冷却剂供应端口104可构造成将液体冷却剂从液冷等离子切割系统输送到通过等离子割炬引线连接到引线插头的等离子弧割炬。
冷却剂回流端口106可限定通路,以将回流液体冷却剂从等离子弧割炬输送到等离子割炬引线。例如,冷却剂回流端口106可限定包围流体通路的基本上圆柱形的侧壁。冷却剂回流端口106还可构造成从液冷等离子切割系统向等离子弧割炬输送(例如,递送、传导)操作电流,如等离子切割电流。例如,在一些情况下,冷却剂回流端口106的侧壁可为导电的以传导电流。
冷却剂供应和回流端口可为与基部102的前面103不同的轴向长度。在一些实施例中,相比成组的端口中的其它端口,冷却剂供应或冷却剂回流端口中的至少一个从前面103沿轴向延伸更远。例如,相比该组端口中的其它端口,冷却剂回流端口106可从前面103沿轴向延伸更远。
冷却剂端口也可具有不同的宽度(例如,直径(例如,内径))以控制液体冷却剂流。例如,在一些实施例中,冷却剂回流端口106的宽度大于冷却剂供应端口104的宽度,在一些情况下,这可用于减小压降。在一些实施例中,冷却剂回流端口106更大(例如,更宽),因为它可用作到割炬的电力电缆,因此使用更大的软管来补偿物理空间。在一些情况下,考虑到围绕它们的其它端口的间隔约束,冷却剂端口可构造为尽可能大。
在一些实施例中,功率(例如,用于切割的电流)经由冷却剂回流端口106输送到割炬。除了减少所需的电触点数量之外,利用冷却剂回流端口106而不是其它端口(如冷却剂供应端口104)可特别有用,以便减少或防止提供给割炬的冷却剂的预热,否则会不利地影响割炬内的冷却。在一些情况下,下面详细讨论的引线插头100可连接以供使用的互补连接器(例如,插座)200的冷却剂回流部206可包括载流多触点带(例如,LouvertacTM带) 207,其有助于冷却剂回流端口106和冷却剂回流部206之间的电连接。备选地或另外地,引线插头100还可包括围绕一个或多个端口的载流多触点带(例如,LouvertacTM带)。
在一些实施例中,冷却剂入口和回流管线(并且因此冷却剂供应端口104和冷却剂回流端口106)通常在割炬和割炬引线内彼此电分离(例如,绝缘),但在系统中连接以减少通过传导的加热。然后,这些构件可在引线插头到插座接口处电分离。在一些实施例中,冷却剂入口具有横跨接口的电不连续区段和从该点向前的基本上不导电的导管(例如,以进一步抑制经由冷却剂流体跳过不连续区段的任何电流)。例如,下面讨论的图3E的截面视图描绘了示例性空间/不连续区段,其用于防止穿过入口中的底部构件的弧放电,并且将电流驱动到仅中心回流路径。
引线插头100可包括至少一个等离子体处理气体供应端口,以将等离子体处理气体从液冷等离子体切割系统输送到等离子弧割炬,如第一等离子体气体端口112、第二等离子体气体端口114和保护气体端口116。在一些实施例中,气体供应端口可包括一个或多个子弹插头,用于将不同的气体/气源连接到割炬。
冷却剂或气体连接可包括引线插头或插座内的一个或多个密封件。例如,在一些实施例中,冷却剂供应端口104、气体供应端口112,114,116和冷却剂回流端口106包括O形环密封部件。在一些情况下,连接器120的螺纹(下面讨论)构造成在O形环密封部件与其互补端口接合之前与割炬引线插座接合。如本文所讨论的,各种端口的构造和位置通常被设计成减少干扰,增加流速,帮助对准构件,增加爬电距离和间隙距离,热隔离通道,以及实现各种其它目的。在一些实施例中,一旦安装,则O形环密封部件可为基本上静态的连接,与一些常规系统不同。在一些实施例中,主电流载体上的O形环密封部件可设计成在具有电短路之前产生泄漏,并且可用作限制穿过该表面(例如,在300A)的弧的故障点,这可能损坏构件。
诸如欧姆触点连接器108和导引弧触点连接器110的电触点布置和配置成将电流传送到割炬和从割炬输送电流。在一些实施例中,欧姆触点连接器108集成到割炬引线中并通过引线插头到插座连接与电源连接。在一些常规系统中,欧姆感测线和连接点已经在引线本身的外部并且没有穿过割炬引线连接点,这在设置和安装其间通常需要进行额外的连接以及配合成组的线。在此常规系统中,欧姆感测线可沿其长度某处(例如,距离电源大约3英尺)从引线突出并且到达系统的某个部分(例如,割炬高度控制器(THC)或电源中的电压功率分配器等)。这种配置通常需要额外的技术人员和/或最终用户与欧姆感测电路的交互。然而,在一些实施例中,本文描述的系统和方法的欧姆感测电路(例如,具有欧姆触点连接器108)可直接穿过引线插头到插座接口。在这种连接中,欧姆感测电路穿过割炬连接控制台并以干净、简单和容纳的方式到达该系统中的板。在一些实施例中,割炬内连接到欧姆触点连接器108的欧姆感测线可基本上在割炬引线包层外部延伸引线的长度,以减少(例如,最小化)噪声干扰。
本文描述的各种其它电连接中的一个或多个可包括增加引线插头和插座之间的导电性的构件。例如,如上所述,可在引线插头和插座之间的界面处使用多个载流多触点带。在一些情况下,载流多触点带的电流可用在低电流高电压接触点处,如用于欧姆触点连接器108或导引弧触点连接器110。
在一些实施例中,引线插头100还可构造为通过设置在基部102内或联接到基部102的通信连接器118将数据传输到割炬和从割炬传输数据。例如,在一些实施例中,引线插头还包括通信连接器(例如,阀驱动器线缆)118,其布置在基部102的外部并且构造为将液冷等离子切割系统通信地连接到割炬中的阀。在一些实施例中,通信连接器118可集成在基部102内。
在一些实施例中,引线插头100连接点,如冷却剂端口104,106、电连接108,110和气体端口112,114,116,布置在围绕引线插头到插座接口的各种偏心(例如,非对称)位置处。在一些实施例中,冷却剂端口104,106可设置在基部102的中心轴线区域附近或沿中心轴线区域设置。例如,冷却剂供应端口104可设置在中心垂直轴线109的上部区域处或附近,并且冷却剂回流端口106可设置在中心垂直轴线109的下部区域处或附近。也就是说,冷却剂供应和冷却剂回流端口可设置在基部102的中心垂直轴线109的基本相对的区域处。
在一些实施例中,该定向允许具有较大直径的冷却剂端口以避免冷却剂流径中的流体压降。在一些实施例中,引线插头基本上没有连接。
在一些实施例中,导引弧触点110和第一等离子气体端口112均位于冷却剂供应端口104附近。在一些实施例中,冷却剂回流端口106和冷却剂供应端口104相对于基部102的中心区域107设置在基部102的相对侧。这样的构造可帮助增加基于控制台布局约束的电隔离。
在一些实施例中,处理气体供应端口112,114,116沿周向(沿基本上弧形的路径)设置在冷却剂回流端口106和冷却剂供应端口104之间。这样的构造可帮助增加基于控制台布局约束的电隔离。
在一些情况下,一个或多个气体供应端口可设置成从一个或多个电触点穿过。例如,在一些实施例中,欧姆触点连接器108相对于中心区域107设置在基部102的与等离子体处理气体供应端口112,114,116相对的一侧。
引线插头100还可包括围绕基部102设置的连接器(例如,紧固件)120。连接器120构造成将基部102联接(例如,固定、附接,或以其它方式连接)到液冷等离子切割系统并且在联接到液冷等离子切割系统时,将各种端口(包括冷却剂供应104、冷却剂回流106、气体供应端口112,114,116和电连接108,110中的每一个)可操作地连接到液冷等离子切割系统的割炬引线插座200的相应互补连接。在一些实施例中,连接器120可包括螺纹部件(例如,螺母),该螺纹部件构造成螺纹连接到插座的螺纹部分上。在一些实施例中,螺母可包括或限定单个起始短梯形螺纹。
参看图2,等离子弧处理系统(例如,液冷等离子弧电源)可包括插座200,引线插头100可连接到插座200以将割炬和割炬引线连接到电源。如图2所示,插座200可包括成组的互补的端口,其在引线插头100连接到插座200时与割炬引线的端口对准。例如,插座200可包括成组的端口,其可包括一个或多个冷却剂端口,如冷却剂供应开口(即,用于向割炬供应冷却剂)204、冷却剂回流开口(即,用于接收从割炬回流的冷却剂)106、一个或多个电连接,如欧姆触点连接器208和导引弧触点连接器210,以及一个或多个气体端口,如第一等离子气体端口212、第二等离子气体端口214和保护气体端口216。另外,在一些情况下,插座200可包括接地表面205,其可围绕插座的面203的外缘限定。除非另有说明,否则插座的端口的构造、位置和布置可与引线插头端口的那些互补(例如,基本上镜像)。在一些实施例中,互补构造可在一个连接器(例如,螺母)下提供所有必要的连接。
另外,在一些实施例中,引线插头100和插座200之间的连接点/接口可用作接地机构,这可用于帮助减小或减少由高频启动过程产生的对系统的噪声。与一些常规系统相比,这可能是有利的,常规系统中,夹具(例如,软管夹)可紧固/接地系统中的引线以执行该功能,这可能使安装和设置过程复杂化并且可能导致错误连接并且增加安装不当和噪音问题。然而,在一些实施例中,构件(例如,引线插头100和系统插座200)停在彼此上并产生接地接口,该接地接口可有助于提供更强的连接并限制(或消除)系统的噪声。当引线插头100连接到系统(例如,拧入系统并且在插座200底部)并且沿接口的外部区域(例如,周边)的两个金属接口彼此接触以使外构件接地时,可形成(例如,连接、创建、建立)接地接口。两个部分的这样结合可有助于使它们彼此绝缘,将低压路径与高压/高频路径分开。
参看图3A至3E,本文描述的系统(例如,引线插头100和插座200)可用于执行使等离子弧割炬引线插头(例如,引线插头100)与液冷等离子切割系统的系统连接器(例如,插座)200对准和连接的各种方法。
例如,参看图3A,该方法可首先包括通过将从引线插头的基部(例如,基部102)延伸的冷却剂回流端口(例如,回流端口106)插入插座的冷却剂回流开口206中来将引线插头100与插座200对准。例如,在引线插头100与插座200的粗略对准的第一阶段中,冷却剂回流端口106可插入冷却剂回流开口206中。
参看图3B,该方法接下来包括通过相对于冷却剂回流端口106的中心轴旋转引线插头来调节引线插头100,以使设置在基部102周围的连接器120与液冷等离子切割系统的插座的互补接收机构220对准。例如,在冷却剂回流端口106部分地插入到插座中的情况下,在粗略对准的第二阶段中,可调节引线插头以使连接器120大致对准接收机构220。
参看图3C,该方法接下来可包括使引线插头100朝向插座前进,以进一步将冷却剂回流端口106插入冷却剂回流开口206,以在冷却剂回流端口106和冷却剂回流开口206之间建立电连接,以向等离子弧割炬提供操作电流;并且将冷却剂供应端口104插入到插座的相应冷却剂供应开口204中。也就是说,在精确对准的第一阶段中,另一个液体冷却剂端口(即,除冷却剂回流端口106之外)可与插座中的互补端口对准。因此,冷却剂供应端口104和冷却剂供应开口204之间的公差(例如,直径公差)可比冷却剂回流端口106和冷却剂回流开口206之间的公差更紧密。在一些实施例中,在冷却剂回流端口和冷却剂回流开口之间建立电连接可包括使设置在冷却剂回流开口内的载流多触点带与冷却剂回流端口接触。如上所述,冷却剂回流端口106可具有大于其它端口的轴向长度,这可能是有用的,以便在引线插头的其它端口与连接器的互补连接建立连接之前建立与冷却剂回流开口的连接。
如图3D所示,在冷却剂端口对准并稍微插入的情况下,引线插头可与插座完全对准,使得连接器120可邻接并准备接合接收机构220。参看图3D,该方法接下来包括使连接器120与互补接收机构220接合,以:在引线插头的导引弧连接器和连接器的互补导引弧触点之间建立电连接;在引线插头的欧姆触点和连接器的互补欧姆触点之间建立电连接;以及建立一个或多个流体连接以向等离子弧割炬提供处理气体。在一些实施例中,使连接器120与互补接收机构220接合可包括相对于带螺纹的互补接收机构旋转螺纹连接器。
参看图3E,在连接器120完全旋入接收机构220的情况下,引线插头可与插座完全接合,以便形成所有端口连接,以形成各种流体密封和电连接。例如,可密封所有O形环,并且可接合载流多触点带。而且,如图所示,当引线插头的前面接触插座的互补面时,可形成接地路径。
虽然本文已经描述了各种实施例,但是应该理解,它们仅通过示例的方式呈现和描述,并且不将本文提出的权利要求限制于任何特定构造或结构构件。因此,优选实施例的宽度和范围不应受任何上述示例性结构或实施例的限制,而应仅根据所附权利要求及其等同物来限定。

Claims (21)

1.一种液冷等离子切割系统接触部件,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统,所述接触部件包括:
基部,其具有中心垂直轴线以及基部的前面,所述基部限定相对的区域并且构造为联接到所述等离子割炬引线,所述前面包括沿该前面的外缘形成的电接地表面;
成组的端口,其设置在所述基部内,所述成组的端口包括:
冷却剂供应端口,以将液体冷却剂从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述接触部件的等离子弧割炬,
冷却剂回流端口,其:i)限定通路以将回流液体冷却剂从所述等离子弧割炬输送到所述液冷等离子切割系统,并且ii)构造成将操作电流从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述基部的所述等离子弧割炬,
至少一个等离子体处理气体供应端口,以将等离子体处理气体从所述液冷等离子切割系统输送到所述等离子弧割炬,以及
欧姆触点连接器;以及
连接器,其设置在所述基部周围,以将所述基部联接到所述液冷等离子切割系统,并且在联接到所述液冷等离子切割系统时,将所述冷却剂供应、所述冷却剂回流、所述气体供应和所述欧姆触点连接器中的每一个以可操作的方式连接到所述液冷等离子切割系统的割炬引线插座的相应互补连接处,
所述接地表面在连接器内,并围绕连接器的内周延伸。
2.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,导引弧触点和第一气体供应端口中每个位于所述冷却剂供应端口附近。
3.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂回流端口和所述冷却剂供应端口相对于中心区域设置在所述基部的相对侧处。
4.根据权利要求3所述的接触部件,其特征在于,所述至少一个等离子体处理气体供应端口在周向上设置在所述冷却剂回流端口和所述冷却剂供应端口之间。
5.根据权利要求4所述的接触部件,其特征在于,所述欧姆触点连接器相对于所述中心区域设置在所述基部的与所述至少一个等离子体处理气体供应端口相对的一侧。
6.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述基部限定前面,所述成组的端口从所述前面延伸。
7.根据权利要求6所述的接触部件,其特征在于,所述前面包括用于所述等离子弧割炬引线的电接地表面。
8.根据权利要求6所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂供应端口或所述冷却剂回流端口中的至少一个比所述成组的端口中的其它端口从所述前面沿轴向延伸更远。
9.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂回流端口的宽度大于所述冷却剂供应端口的宽度。
10.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂回流端口包括载流多触点带。
11.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述冷却剂供应端口、所述气体供应端口和所述冷却剂回流端口包括O形环密封部件。
12.根据权利要求11所述的接触部件,其特征在于,所述连接器的螺纹相对于所述基部沿轴向定位,以在所述O形环密封部件与其互补端口接合之前与所述割炬引线插座接合。
13.根据权利要求1所述的接触部件,其特征在于,所述接触部件还包括阀驱动器线缆,所述阀驱动器线缆设置在所述基部的外部,并且构造成将所述液冷等离子切割系统通信地连接到所述割炬中的阀。
14.一种等离子割炬引线插头,用于将等离子割炬引线连接到液冷等离子切割系统,所述等离子割炬引线包括:
底板,其具有垂直轴线,所述垂直轴线限定第一侧和第二侧,所述底板构造成联接到所述等离子割炬引线;
成组的端口,其设置在所述底板中,所述成组的端口包括:
冷却剂供应端口,其沿所述底板的垂直轴线的上部区域定位,以将液体冷却剂从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述等离子割炬引线插头的等离子弧割炬,
冷却剂回流端口,其沿所述垂直轴线基本上与所述冷却剂供应端口相对定位,所述冷却剂回流端口,其:i)限定通路以将回流液体冷却剂从所述等离子弧割炬传送到所述等离子割炬引线,并且ii)构造为将操作电流从所述液冷等离子切割系统输送到通过所述等离子割炬引线连接到所述底板的所述等离子弧割炬,所述底板限定底板的前面,所述前面包括沿该前面的外缘形成的电接地表面,
第一气体供应端口,其位于所述垂直轴线的第一侧上,用于将第一等离子处理气体从所述液冷等离子体切割系统输送到所述等离子弧割炬,
保护气体供应端口,其位于所述垂直轴线的第一侧上,用于从所述液冷等离子切割系统向所述等离子弧割炬输送保护气体,
导引弧触点,其位于基本上与所述第一侧相对的所述垂直轴线的第二侧上,以及
欧姆触点,其位于所述第二侧上;以及
连接器,其设置在所述成组的端口和所述底板周围,所述连接器构造成将所述等离子割炬引线联接到所述液冷等离子切割系统,
所述接地表面在连接器内,并围绕连接器的内周延伸。
15.根据权利要求14所述的等离子割炬引线插头,其特征在于,所述欧姆触点和所述保护气体供应端口位于所述冷却剂回流端口附近。
16.根据权利要求14所述的等离子割炬引线插头,其特征在于,所述底板包括用于所述等离子弧割炬引线的电接地触点。
17.根据权利要求14所述的等离子割炬引线插头,其特征在于,所述等离子割炬引线插头还包括阀驱动器线缆,所述阀驱动器线缆设置在所述底板的外部,并且构造成将所述液冷等离子体切割系统通信地连接到所述割炬中的阀。
18.根据权利要求14所述的等离子割炬引线插头,其特征在于,所述等离子割炬引线插头还包括设置在所述第一气体供应端口和所述保护气体供应端口之间的第二气体供应端口,所述第二气体供应端口将第二等离子体处理气体从所述液冷等离子体切割系统输送到所述等离子弧割炬。
19.一种将等离子弧割炬引线插头对准并连接到液冷等离子切割系统的连接器的方法,所述方法包括:
通过将从所述引线插头的基部延伸的冷却剂回流端口插入所述连接器的冷却剂回流开口来将所述引线插头与所述连接器对准,所述冷却剂回流端口构造成提供从所述液冷等离子切割系统到连接到所述引线插头的等离子弧割炬的操作电流,所述基部限定基部的前面,所述前面包括沿该前面的外缘形成的电接地表面;
通过相对于所述冷却剂回流端口的中心轴线旋转所述引线插头来调节所述引线插头,以使设置在所述基部周围的连接器与所述液冷等离子切割系统的连接器的互补接收机构对准;
使所述引线插头朝所述连接器前移,以:
进一步将所述冷却剂回流端口插入所述冷却剂回流开口,以在所述冷却剂回流端口和所述冷却剂回流开口之间建立电连接,以向所述等离子弧割炬提供所述操作电流;
将冷却剂供应端口插入所述连接器的相应冷却剂供应开口;以及
使所述连接器与所述互补接收机构接合,以:
在所述引线插头的导引弧连接器和所述连接器的互补导引弧触点之间建立电连接;
在所述引线插头的欧姆触点和所述连接器的互补欧姆触点之间建立电连接;以及
建立一个或多个流体连接以向所述等离子弧割炬提供处理气体,
所述接地表面在连接器内,并围绕连接器的内周延伸。
20.根据权利要求19所述的方法,其特征在于,在所述冷却剂回流端口和所述冷却剂回流开口之间建立所述电连接包括使设置在所述冷却剂回流开口内的载流多触点带与所述冷却剂回流端口接触。
21.根据权利要求20所述的方法,其特征在于,使所述连接器与所述互补接收机构接合包括相对于带螺纹的互补接收机构旋转螺纹连接器。
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