CN110494832B - 触控显示面板、触控显示设备、对置基板和制造触控显示面板的方法 - Google Patents

触控显示面板、触控显示设备、对置基板和制造触控显示面板的方法 Download PDF

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Abstract

提供具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板。触控显示面板包括：阵列基板和面对阵列基板的对置基板。对置基板包括：衬底基板；第一黑色矩阵层，其位于衬底基板上；多个触摸电极，其位于衬底基板上；和第二黑色矩阵层，其位于多个触摸电极的远离第一黑色矩阵层的一侧。第一黑色矩阵层、第二黑色矩阵层和多个触摸电极被限制在子像素间区域中。第一黑色矩阵层和第二黑色矩阵层在衬底基板上的正投影实质上覆盖多个触摸电极在衬底基板上的整个正投影。

Description

触控显示面板、触控显示设备、对置基板和制造触控显示面板 的方法
技术领域
本发明涉及显示技术，更具体地，涉及触控显示面板、触控显示设备、对置基板和制造触控显示面板的方法。
背景技术
触控显示面板在诸如移动电话、计算机显示面板、触摸屏、卫星导航装置和数码相机等显示领域中已具有广泛的应用。触控显示面板可分为三类：附加式触摸面板、外挂式(on-cell)触摸面板和内嵌式(in-cell)触摸面板。触控显示面板可以是自电容式触摸显示面板或互电容式触摸显示面板。触控显示面板可以使用网状电极作为触摸电极，或者使用金属氧化物材料(例如，氧化铟锡)作为触摸电极材料。
发明内容
一方面，本发明提供了一种具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板，所述触控显示面板包括阵列基板和面对所述阵列基板的对置基板；其中，所述对置基板包括：衬底基板；第一黑色矩阵层，其位于所述衬底基板上；多个触摸电极，其位于所述衬底基板上；以及第二黑色矩阵层，其位于所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧；其中，所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极被限制在所述子像素间区域中；所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
可选地，所述多个触摸电极包括第一触摸电极层和第二触摸电极层；所述第一触摸电极层包括：多个第一触摸电极，其位于所述第一黑色矩阵层的远离所述衬底基板的一侧上；所述第二触摸电极层包括：多个第二触摸电极，其位于所述第一触摸电极层的远离所述第一黑色矩阵层的一侧上；所述对置基板还包括：绝缘层，其位于所述第一触摸电极层和所述第二触摸电极层之间；所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
可选地，所述第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且所述多个第一触摸电极与所述第一黑色矩阵层直接接触。
可选地，所述触控显示面板还包括：平坦化层，其位于所述第二触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧；以及彩膜层，其包括所述子像素区域中的多个彩膜块。
可选地，所述多个彩膜块与所述平坦化层直接接触；并且所述多个第二触摸电极与所述平坦化层直接接触。
可选地，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影和所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上彼此重叠。
可选地，所述多个触摸电极为多个金属网触摸电极。
另一方面，本发明提供了一种触控显示设备，所述触控显示设备包括：本文所述的或通过本文所述的方法制造的触控显示面板；和背光，其位于阵列基板的远离对置基板的一侧；其中，所述阵列基板包括多个薄膜晶体管，用于驱动所述触控显示设备的图像显示；其中，所述触控显示面板还包括：液晶层，其位于所述阵列基板和所述对置基板之间；所述第二黑色矩阵层位于所述液晶层的远离所述背光的一侧；并且所述第一黑色矩阵层位于所述第二黑色矩阵层的远离所述液晶层的一侧。
另一方面，本发明提供了一种具有子像素区域和子像素间区域的对置基板，所述对置基板包括：衬底基板；第一黑色矩阵层，其位于所述衬底基板上；多个触摸电极，其位于所述衬底基板上；以及第二黑色矩阵层，其位于所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧；其中，所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极被限制在所述子像素间区域中；所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
可选地，所述多个触摸电极包括第一触摸电极层和第二触摸电极层；所述第一触摸电极层包括：多个第一触摸电极，其位于所述第一黑色矩阵层的远离所述衬底基板的一侧上；所述第二触摸电极层包括：多个第二触摸电极，其位于所述第一触摸电极层的远离所述第一黑色矩阵层的一侧上；所述对置基板还包括：绝缘层，其位于所述第一触摸电极层和所述第二触摸电极层之间；所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
可选地，所述第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且所述多个第一触摸电极与所述第一黑色矩阵层直接接触。
可选地，所述对置基板还包括：平坦化层，其位于所述第二触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧；以及彩膜层，其包括所述子像素区域中的多个彩膜块。
可选地，所述多个彩膜块与所述平坦化层直接接触；并且所述多个第二触摸电极与所述平坦化层直接接触。
可选地，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影和所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上彼此重叠。
可选地，所述多个触摸电极为多个金属网触摸电极。
另一方面，本发明提供了一种制造具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板的方法，所述方法包括：形成阵列基板；形成对置基板；以及将所述阵列基板和所述对置基板组装成单元；其中，形成所述对置基板包括：在所述衬底基板上形成第一黑色矩阵层；在所述衬底基板上形成多个触摸电极；以及在所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧形成第二黑色矩阵层；其中，所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极形成为被限制在所述子像素间区域中；所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
可选地，形成所述多个触摸电极包括：在所述衬底基板上形成包括多个第一触摸电极的第一触摸电极层；在所述第一触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧形成绝缘层；以及在所述绝缘层的远离所述第一触摸电极层的一侧形成包括多个第二触摸电极的第二触摸电极层；其中，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
可选地，所述第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且所述多个第一触摸电极形成为与所述第一黑色矩阵层直接接触。
可选地，形成所述对置基板还包括：在所述第二触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧形成平坦化层；以及形成包括所述子像素区域中的多个彩膜块的彩膜层。
可选地，所述多个彩膜块形成为与所述平坦化层直接接触；并且所述多个第二触摸电极形成为与所述平坦化层直接接触。
附图说明
以下附图仅是用于根据各种公开的实施例的说明性目的的示例，并且不旨在限制本发明的范围。
图1是根据本公开的一些实施例中的触控显示面板的平面图。
图2是沿图1中的触控显示面板的A-A'线的剖视图。
图3是沿图1中的触控显示面板的B-B'线的剖视图。
图4是沿图1中的触控显示面板的C-C'线的剖视图。
图5是沿图1中的触控显示面板的D-D'线的剖视图。
图6是根据本公开的一些实施例中的触控显示面板的剖视图。
图7是根据本公开的一些实施例中的触控显示设备的剖视图。
图8是根据本公开的一些实施例中的对置基板的剖视图。
具体实施方式
现在将参考以下实施例更具体地描述本公开。应注意，本文仅出于说明和描述的目的呈现了一些实施例的以下描述。其并非旨在穷举或限于所公开的精确形式。
在本公开中发现，在显示面板的对置基板上制造的触摸电极经常导致莫尔图案，并且由于触摸电极的金属线的存在而频繁发生抗消隐效应，影响在传统的金属电极触摸面板中的显示质量。在本发明中进一步发现，在使用背光进行图像显示的显示面板中，触摸电极的金属线可反射从背光发出的光，反射光照射在显示面板的薄膜晶体管的有源层上，对薄膜晶体管的属性和性能产生不利影响。
因此，本公开尤其提供了触控显示面板、触控显示设备、对置基板、以及制造触控显示面板的方法，其实质上消除了由于相关技术的局限和缺点导致的问题中的一个或多个。一方面，本公开提供了一种具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板。在一些实施例中，触控显示面板包括阵列基板和面对阵列基板的对置基板。在一些实施例中，对置基板包括：衬底基板；第一黑色矩阵层，其位于所述衬底基板上；多个触摸电极，其位于所述衬底基板上；以及第二黑色矩阵层，其位于所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧。所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极被限制在所述子像素间区域中。在本触控显示面板中，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
如本文所用，子像素区域是指子像素的发光区域，例如，与液晶显示器中的像素电极对应的区域、与有机发光二极管显示面板中的发光层对应的区域、或与本公开中的光透射层对应的区域。可选地，像素可以包括与像素中的多个子像素对应的多个单独的发光区域。可选地，子像素区域是红色子像素的发光区域。可选地，子像素区域是绿色子像素的发光区域。可选地，子像素区域是蓝色子像素的发光区域。可选地，子像素区域是白色子像素的发光区域。
如本文所用，子像素间区域是指相邻子像素区域之间的区域，例如，与液晶显示器中的黑色矩阵对应的区域、与有机发光二极管显示面板中的像素限定层对应的区域、或与本显示面板中的黑色矩阵对应的区域。可选地，子像素间区域是同一像素中相邻子像素区域之间的区域。可选地，子像素间区域是来自两个相邻像素的两个相邻子像素区域之间的区域。可选地，子像素间区域是红色子像素的子像素区域与相邻的绿色子像素的子像素区域之间的区域。可选地，子像素间区域是红色子像素的子像素区域与相邻的蓝色子像素的子像素区域之间的区域。可选地，子像素间区域是绿色子像素的子像素区域与相邻的蓝色子像素的子像素区域之间的区域。
如本文所用，术语“实质上覆盖”是指一个正投影由另一个正投影覆盖至少50％、至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％、至少99％、或100％。
图1是根据本公开的一些实施例中的触控显示面板的平面图。图2是沿图1中的触控显示面板的A-A'线的剖视图。图3是沿图1中的触控显示面板的B-B'线的剖视图。图4是沿图1中的触控显示面板的C-C'线的剖视图。图5是沿图1中的触控显示面板的D-D'线的剖视图。参照图1至图5，触控显示面板具有子像素区域SR和子像素间区域IR。在一些实施例中，触控显示面板包括阵列基板AS和面对阵列基板AS的对置基板CS。在一些实施例中，对置基板CS包括：衬底基板10；衬底基板10上的第一黑色矩阵层20；衬底基板10上的多个触摸电极30；以及位于多个触摸电极30的远离第一黑色矩阵层20的一侧的第二黑色矩阵层40。
在一些实施例中，触控显示面板还包括位于阵列基板AS与对置基板CS之间的液晶层LC。可选地，阵列基板AS包括用于驱动触控显示面板的图像显示的多个薄膜晶体管TFT。可选地，第二黑色矩阵层40位于液晶层LC的远离阵列基板AS的一侧。可选地，第一黑色矩阵层20位于第二黑色矩阵层40远离液晶层LC的一侧。
在本触控显示面板中，第一黑色矩阵层20、第二黑色矩阵层40和多个触摸电极30被限制在子像素间区域IR中。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影；并且第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影；并且第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)；第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)。
在一些实施例中，多个触摸电极30包括彼此间隔开的第一触摸电极层31和第二触摸电极层32。参照图2至图5，在一些实施例中，对置基板CS还包括在第一触摸电极层31和第二触摸电极层32之间的绝缘层60。第一触摸电极层31包括位于第一黑色矩阵层20的远离衬底基板10的一侧上的多个第一触摸电极TE1。第二触摸电极层32包括位于第一触摸电极层31的远离第一黑色矩阵层20的一侧上的多个第二触摸电极TE2。
可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影；并且，第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影；并且，第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)；并且，第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)。
在一些实施例中，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影和第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影实质上彼此重叠。如本文所用，术语“实质上重叠”是指两个正投影彼此重叠至少50％，例如，至少60％、至少70％、至少80％、至少90％、至少95％、至少99％、或100％。可选地，第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40由相同的材料制成。可选地，使用相同的掩模板对第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40进行图案化。
可以使用各种适当的材料来制作第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40。用于制作第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40的材料的示例包括但不限于：黑色有机聚合物材料、吸收具有选定波长范围的光的材料、和光敏电阻材料。可选地，黑色有机聚合物材料包括ABS树脂(例如，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)。可选地，光敏电阻材料包括SU-8光敏电阻。可选地，第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40由绝缘光吸收材料制成。可选地，绝缘光吸收材料的光密度为4或更高，例如，5或更高、6或更高。
在一些实施例中，第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成。参照图2和图4，在一些实施例中，多个第一触摸电极TE1与第一黑色矩阵层20直接接触。在一个示例中，多个第一触摸电极TE1与第一黑色矩阵层20直接接触，并且与绝缘层60直接接触。绝缘层60与多个第一触摸电极TE1直接接触，并且与多个第二触摸电极TE2直接接触。
在一些实施例中，触控显示面板还包括位于第二触摸电极层32的远离衬底基板10的一侧的平坦化层70。在一个示例中，平坦化层70与多个第二触控电极TE2直接接触，并且与第二黑色矩阵层40直接接触。
在一些实施例中，触控显示面板还包括彩膜层50，其中，彩膜层50包括子像素区域SR中的多个彩膜块CFB。参照图2和图4，在一些实施例中，彩膜层50位于平坦化层70的远离衬底基板10的一侧。可选地，彩膜层50和第一黑色矩阵层20相对于平坦化层70的表面实质上共面。可选地，多个彩膜块CFB与平坦化层70直接接触；并且多个第二触摸电极TE2与平坦化层70直接接触。
图6是根据本公开的一些实施例中的触控显示面板的剖视图。参照图6，在一些实施例中，彩膜层50位于衬底基板10和绝缘层60之间。可选地，彩膜层50和第一黑色矩阵层20相对于衬底基板10的表面实质上共面。可选地，多个彩膜块CFB与绝缘层60直接接触。
可以使用各种适当的导电材料来制作多个第一触摸电极TE1和多个第二触摸电极TE2。适于制作透明触摸信号线的透明导电材料的示例包括但不限于：纳米银、氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟镓、氧化铟镓锌、纳米碳管和石墨烯。可选地，多个第一触摸电极TE1和多个第二触摸电极TE2由金属材料制成。可选地，多个第一触摸电极TE1和多个第二触摸电极TE2为网状触摸电极。可选地，多个第一触摸电极TE1和多个第二触摸电极TE2为金属网触摸电极。
可以使用各种适当的导电电极材料来制作多个第一触摸电极TE1和多个第二触摸电极TE2。在一些实施例中，用于制作网状电极图案的导电电极材料是透明导电电极材料。用于制作触摸电极层的网状电极图案的导电电极材料的示例包括但不限于：金属网、银纳米线、碳纳米管、纳米网、石墨烯、以及诸如聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)聚苯乙烯磺酸盐(PEDOT：PSS)等导电聚合物。可选地，网状电极图案由诸如纳米银网等金属网制成。
另一方面，本公开提供了一种触控显示设备，其具有本文所述的或通过本文所述的方法制造的触控显示面板。图7是根据本公开的一些实施例中的触控显示设备的剖视图。参照图7，在一些实施例中，触控显示设备还包括位于阵列基板AS的远离对置基板CS的一侧的用于为图像显示提供光的背光80。在一些实施例中，触控显示设备还包括位于背光80和多个薄膜晶体管TFT之间的下偏振器90、以及位于衬底基板10的远离阵列基板AS的一侧的上偏振器100。可选地，触控显示设备还包括位于上偏振器100的远离阵列基板AS的一侧的盖透镜110。可选地，第二黑色矩阵层40位于液晶层LC的远离背光80的一侧；并且第一黑色矩阵层20位于第二黑色矩阵层40的远离液晶层LC的一侧。
适当的触控显示设备的示例包括但不限于：电子纸、移动电话、平板电脑、电视、监视器、笔记本电脑、数码相册、GPS等。可选地，触控显示设备还包括连接到触控显示面板的一个或多个集成电路。
另一方面，本公开提供了一种对置基板，其具有子像素区域和子像素间区域。图8是根据本公开的一些实施例中的对置基板的剖视图。参照图8，在一些实施例中，对置基板CS包括：衬底基板10；衬底基板10上的第一黑色矩阵层20；衬底基板10上的多个触摸电极30；以及位于多个触摸电极30的远离第一黑色矩阵层20的一侧的第二黑色矩阵层40。
在本对置基板中，第一黑色矩阵层20、第二黑色矩阵层40和多个触摸电极30被限制在子像素间区域IR中。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影；并且第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影；并且第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)；并且第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个触摸电极30在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)。
在一些实施例中，多个触摸电极30包括彼此间隔开的第一触摸电极层31和第二触摸电极层32。参照图8，在一些实施例中，对置基板CS还包括位于第一触摸电极层31和第二触摸电极层32之间的绝缘层60。第一触摸电极层31包括位于第一黑色矩阵层20的远离衬底基板10的一侧的多个第一触摸电极TE1。第二触摸电极层32包括位于第一触摸电极层31的远离第一黑色矩阵层20的一侧的多个第二触摸电极TE2。
可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影；并且，第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影实质上覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影；并且，第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影。可选地，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE2在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)；并且，第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影完全覆盖多个第一触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极TE1在衬底基板10上的整个正投影，伴有至少10％的余量(例如，至少15％的余量、至少20％的余量、或至少25％的余量)。
在一些实施例中，第一黑色矩阵层20在衬底基板10上的正投影和第二黑色矩阵层40在衬底基板10上的正投影实质上彼此重叠。可选地，第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40由相同的材料制成。可选地，使用相同的掩模板对第一黑色矩阵层20和第二黑色矩阵层40进行图案化。
在一些实施例中，多个第一触摸电极TE1与第一黑色矩阵层20直接接触。在一个示例中，多个第一触摸电极TE1与第一黑色矩阵层20直接接触，并且与绝缘层60直接接触。绝缘层60与多个第一触摸电极TE1直接接触，并且与多个第二触摸电极TE2直接接触。
在一些实施例中，对置基板CS还包括位于第二触摸电极层32的远离衬底基板10的一侧的平坦化层70。在一个示例中，平坦化层70与多个第二触摸电极TE2直接接触，并且与第二黑色矩阵层40直接接触。
在一些实施例中，对置基板CS还包括彩膜层50，彩膜层50包括子像素区域SR中的多个彩膜块CFB。参照图8，在一些实施例中，彩膜层50位于平坦化层70的远离衬底基板10的一侧。可选地，彩膜层50和第一黑色矩阵层20相对于平坦化层70的表面实质上共面。可选地，多个彩膜块CFB与平坦化层70直接接触；并且多个第二触摸电极TE2与平坦化层70直接接触。
在一些实施例中，彩膜层50位于衬底基板10和绝缘层60之间。可选地，彩膜层50和第二黑色矩阵层40相对于衬底基板10的表面实质上共面。可选地，多个彩膜块CFB与绝缘层60直接接触。
另一方面，本公开提供了一种制造具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板的方法。在一些实施例中，该方法包括：形成阵列基板；形成对置基板；以及将阵列基板和对置基板组装成单元。在一些实施例中，形成对置基板包括：在衬底基板上形成第一黑色矩阵层；在衬底基板上形成多个触摸电极；以及在多个触摸电极的远离第一黑色矩阵层的一侧形成第二黑色矩阵层。可选地，第一黑色矩阵层、第二黑色矩阵层和多个触摸电极形成为被限制在子像素间区域中。可选地，第一黑色矩阵层在衬底基板上的正投影实质上覆盖多个触摸电极在衬底基板上的整个正投影。可选地，第二黑色矩阵层在衬底基板上的正投影实质上覆盖多个触摸电极在衬底基板上的整个正投影。
在一些实施例中，形成多个触摸电极包括：在衬底基板上形成包括多个第一触摸电极的第一触摸电极层；在第一触摸电极层的远离衬底基板的一侧形成绝缘层；以及在绝缘层的远离第一触摸电极层的一侧形成包括多个第二触摸电极的第二触摸电极层。可选地，第一黑色矩阵层在衬底基板上的正投影实质上覆盖多个第一触摸电极在衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极在衬底基板上的整个正投影。可选地，第二黑色矩阵层在衬底基板上的正投影实质上覆盖多个第一触摸电极在衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖多个第二触摸电极在衬底基板上的整个正投影。
可选地，第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且多个第一触摸电极形成为与第一黑色矩阵层直接接触。
可选地，形成对置基板还包括：在第二触摸电极层的远离衬底基板的一侧形成平坦化层；以及形成包括子像素区域中的多个彩膜块的彩膜层。
可选地，多个彩膜块形成为与平坦化层直接接触；并且多个第二触摸电极形成为与平坦化层直接接触。
出于示意和描述目的已示出对本发明实施例的上述描述。其并非旨在穷举或将本发明限制为所公开的确切形式或示例性实施例。因此，上述描述应当被认为是示意性的而非限制性的。显然，许多修改和变形对于本领域技术人员而言将是显而易见的。选择和描述这些实施例是为了解释本发明的原理和其最佳方式的实际应用，从而使得本领域技术人员能够理解本发明适用于特定用途或所构思的实施方式的各种实施例及各种变型。本发明的范围旨在由所附权利要求及其等同形式限定，其中除非另有说明，否则所有术语以其最宽的合理意义解释。因此，术语“发明”、“本发明”等不一定将权利范围限制为具体实施例，并且对本发明示例性实施例的参考不隐含对本发明的限制，并且不应推断出这种限制。本发明仅由随附权利要求的精神和范围限定。此外，这些权利要求可涉及使用跟随有名词或元素的“第一”、“第二”等术语。除非给出具体数量，否则这种术语应当理解为一种命名方式而非意在对由这种命名方式修饰的元素的数量进行限制。所描述的任何优点和益处不一定适用于本发明的全部实施例。应当认识到的是，本领域技术人员在不脱离随附权利要求所限定的本发明的范围的情况下可以对所描述的实施例进行变化。此外，本公开中没有元件和组件是意在贡献给公众的，无论该元件或组件是否明确地记载在随附权利要求中。

Claims (17)

1.一种具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板，包括阵列基板和面对所述阵列基板的对置基板；
其中，所述对置基板包括：
衬底基板；
第一黑色矩阵层，其位于所述衬底基板上；
多个触摸电极，其位于所述衬底基板上；和
第二黑色矩阵层，其位于所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧；
其中，所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极被限制在所述子像素间区域中；
所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且
所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；
所述多个触摸电极包括第一触摸电极层和第二触摸电极层；
所述第一触摸电极层包括：多个第一触摸电极，其位于所述第一黑色矩阵层的远离所述衬底基板的一侧上；
所述第二触摸电极层包括：多个第二触摸电极，其位于所述第一触摸电极层的远离所述第一黑色矩阵层的一侧上；
所述对置基板还包括：绝缘层，其位于所述第一触摸电极层和所述第二触摸电极层之间；
所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且
所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其中，所述第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且
所述多个第一触摸电极与所述第一黑色矩阵层直接接触。
3.根据权利要求2所述的触控显示面板，还包括：平坦化层，其位于所述第二触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧；和
彩膜层，其包括所述子像素区域中的多个彩膜块。
4.根据权利要求3所述的触控显示面板，其中，所述多个彩膜块与所述平坦化层直接接触；并且
所述多个第二触摸电极与所述平坦化层直接接触。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的触控显示面板，其中，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影和所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上彼此重叠。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的触控显示面板，其中，所述多个触摸电极为多个金属网触摸电极。
7.一种触控显示设备，包括：权利要求1至6中任一项所述的触控显示面板；以及背光，其位于所述阵列基板的远离所述对置基板的一侧；
其中，所述阵列基板包括多个薄膜晶体管，用于驱动所述触控显示设备的图像显示；
其中，所述触控显示面板还包括：液晶层，其位于所述阵列基板和所述对置基板之间；
所述第二黑色矩阵层位于所述液晶层的远离所述背光的一侧；并且
所述第一黑色矩阵层位于所述第二黑色矩阵层的远离所述液晶层的一侧。
8.一种具有子像素区域和子像素间区域的对置基板，包括：
衬底基板；
第一黑色矩阵层，其位于所述衬底基板上；
多个触摸电极，其位于所述衬底基板上；和
第二黑色矩阵层，其位于所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧；
其中，所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极被限制在所述子像素间区域中；
所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且
所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；
所述多个触摸电极包括第一触摸电极层和第二触摸电极层；
所述第一触摸电极层包括：多个第一触摸电极，其位于所述第一黑色矩阵层的远离所述衬底基板的一侧上；
所述第二触摸电极层包括：多个第二触摸电极，其位于所述第一触摸电极层的远离所述第一黑色矩阵层的一侧上；
所述对置基板还包括：绝缘层，其位于所述第一触摸电极层和所述第二触摸电极层之间；
所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且
所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
9.根据权利要求8所述的对置基板，其中，所述第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且
所述多个第一触摸电极与第一黑色矩阵层直接接触。
10.根据权利要求9所述的对置基板，还包括：平坦化层，其位于所述第二触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧；和
彩膜层，其包括所述子像素区域中的多个彩膜块。
11.根据权利要求10所述的对置基板，其中，所述多个彩膜块与所述平坦化层直接接触；并且
所述多个第二触摸电极与所述平坦化层直接接触。
12.根据权利要求8至11中任一项所述的对置基板，其中，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影和所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上彼此重叠。
13.根据权利要求8至12中任一项所述的对置基板，其中，所述多个触摸电极为多个金属网触摸电极。
14.一种制造具有子像素区域和子像素间区域的触控显示面板的方法，包括：
形成阵列基板；
形成对置基板；和
将所述阵列基板和所述对置基板组装成单元；
其中，形成所述对置基板包括：
在衬底基板上形成第一黑色矩阵层；
在所述衬底基板上形成多个触摸电极；和
在所述多个触摸电极的远离所述第一黑色矩阵层的一侧形成第二黑色矩阵层；
其中，所述第一黑色矩阵层、所述第二黑色矩阵层和所述多个触摸电极形成为被限制在所述子像素间区域中；
所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且
所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；
形成所述多个触摸电极包括：
在所述衬底基板上形成包括多个第一触摸电极的第一触摸电极层；
在所述第一触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧形成绝缘层；和
在所述绝缘层的远离所述第一触摸电极层的一侧形成包括多个第二触摸电极的第二触摸电极层；
其中，所述第一黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影；并且
所述第二黑色矩阵层在所述衬底基板上的正投影实质上覆盖所述多个第一触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影，并且实质上覆盖所述多个第二触摸电极在所述衬底基板上的整个正投影。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述第一黑色矩阵层由绝缘光吸收材料制成；并且
所述多个第一触摸电极形成为与所述第一黑色矩阵层直接接触。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，形成所述对置基板还包括：
在所述第二触摸电极层的远离所述衬底基板的一侧形成平坦化层；和
形成包括所述子像素区域中的多个彩膜块的彩膜层。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述多个彩膜块形成为与所述平坦化层直接接触；并且
所述多个第二触摸电极形成为与所述平坦化层直接接触。
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