CN110465126A - 过滤装置以及过滤方法 - Google Patents
过滤装置以及过滤方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110465126A CN110465126A CN201810449929.0A CN201810449929A CN110465126A CN 110465126 A CN110465126 A CN 110465126A CN 201810449929 A CN201810449929 A CN 201810449929A CN 110465126 A CN110465126 A CN 110465126A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- liquid
- cartridge
- filtering element
- filter device
- cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 259
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 135
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 42
- 238000011001 backwashing Methods 0.000 claims description 10
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 238000003701 mechanical milling Methods 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 3
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 3
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 3
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 208000002925 dental caries Diseases 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003208 poly(ethylene sulfide) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/11—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
- B01D29/117—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements arranged for outward flow filtration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/11—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
- B01D29/117—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements arranged for outward flow filtration
- B01D29/118—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements arranged for outward flow filtration open-ended
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/60—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor integrally combined with devices for controlling the filtration
- B01D29/603—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor integrally combined with devices for controlling the filtration by flow measuring
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/88—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices
- B01D29/90—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor having feed or discharge devices for feeding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/14—Safety devices specially adapted for filtration; Devices for indicating clogging
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
本发明实施例提供一种过滤装置用以过滤液体。过滤装置包括腔体以及滤心。腔体包括进液口、第一出液口以及第二出液口，液体用以经由进液口进入腔体，其中第一出液口设置于腔体的第一端，第二出液口设置于与第一端相对的第二端。滤心设置于腔体内。滤心包括滤心管壁，其中液体用以穿过滤心管壁以过滤成经过滤液体。经过滤液体经由第一出液口流出腔体。被过滤出的未能穿过滤心管壁的排除液体经由第二出液口流出腔体。过滤方法也被提出。
Description
技术领域
本发明实施例涉及一种过滤装置以及过滤方法。
背景技术
在半导体工艺中，半导体芯片可以制造为具有例如晶体管、电阻器、电容器、电感器等的组件形成在其中的芯片。半导体芯片的制造可以包括许多加工步骤，这些加工步骤可以包括光刻、离子注入、掺杂、退火、封装等的组合。许多类型的流体可以用于这些工艺中，包括水、电介质、聚合物、光刻胶、化学蚀刻剂、酸等。这些流体被过滤并且传递至工艺设备，使工艺设备在制造半导体期间可使用这些流体。
发明内容
本发明实施例是针对一种过滤装置以及过滤方法，其可使过滤装置具有较长的使用寿命以及较高的大型颗粒移除率。
根据本发明的实施例，过滤装置用以过滤液体。过滤装置包括腔体以及滤心。腔体包括进液口、第一出液口以及第二出液口，液体用以经由进液口进入腔体，其中第一出液口设置于腔体的第一端，第二出液口设置于与第一端相对的第二端。滤心设置于腔体内。滤心包括滤心管壁，其中液体用以穿过滤心管壁以过滤成经过滤液体。经过滤液体经由第一出液口流出腔体。被过滤出的未能穿过滤心管壁的排除液体经由第二出液口流出腔体。
根据本发明的实施例，一种过滤方法包括下列步骤。使液体经由进液口流入过滤装置内以进行过滤。使穿过过滤装置的滤心而过滤成的经过滤液体经由第一出液口流出过滤装置。使被过滤出的未能穿过所述滤心的排除液体经由第二出液口流出过滤装置。
根据本发明的实施例，一种过滤方法包括下列步骤。使液体流入过滤装置内以进行过滤。检测液体的流速是否低于正常流速。若是，停止对液体进行过滤并进行异常处理或逆洗。若否，继续对液体进行过滤。
附图说明
结合附图阅读以下详细说明，会最好地理解本发明实施例的各个方面。应注意，根据本行业中的标准实务，各种特征并非按比例绘制。事实上，为论述清晰起见，可任意增大或减小各种特征的尺寸。
图1为本发明的一实施例的一种过滤装置的示意图；
图2是依照本发明的另一实施例的一种过滤装置的示意图；
图3是依照本发明的一实施例的一种液体处理系统的示意图；
图4是依照本发明的另一实施例的一种液体处理系统的示意图；
图5是依照本发明的又一实施例的一种液体处理系统的示意图；
图6是依照本发明的一实施例的一种过滤方法的流程示意图；
图7是依照本发明的另一实施例的一种过滤方法的流程示意图。
附图标号说明
10、10’、10”：液体处理系统
100、100’、100a～d：过滤装置
110：腔体
112、112’：进液口
114、114’：第一出液口
116：第二出液口
118：垫圈
119：密封环
120、120’：滤心
122：滤心管壁
124：第一开放端、开放端
126：第二开放端
126’：封闭端
130：基座
140：液泵
150、200：储液槽
300：混合槽
400：供液槽
500：半导体工艺设备
600：计量器
700：流量计
E1：第一端
E2：第二端
L1：液体
LF：经过滤液体
LD：排除液体
S110～S170、S210～S270：步骤
具体实施方式
以下公开内容提供用于实作所提供主题的不同特征的许多不同的实施例或实例。以下阐述组件及排列的具体实例以简化本公开内容。当然，这些仅为实例且不旨在进行限制。举例来说，以下说明中将第一特征形成于第二特征“之上”或第二特征“上”可包括其中第一特征与第二特征被形成为直接接触的实施例，且也可包括其中所述第一特征与所述第二特征之间可形成有附加特征进而使得所述第一特征与所述第二特征可能不直接接触的实施例。另外，本公开内容可能在各种实例中重复使用参考编号及/或字母。这种重复是出于简洁及清晰的目的，而不是自身表示所论述的各种实施例及/或配置之间的关系。
此外，为易于说明，本文中可能使用例如“之下(beneath)”、“下面(below)”、“下部(lower)”、“上方(above)”、“上部(upper)”等空间相对性用语来阐述图中所示的一个组件或特征与另一(其他)组件或特征的关系。所述空间相对性用语旨在除图中所绘示的取向外还囊括装置在使用或操作中的不同取向。设备可具有其他取向(旋转90度或处于其他取向)且本文中所用的空间相对性描述语可同样相应地进行解释。现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同组件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。
图1是依照本发明的一实施例的一种过滤装置的示意图。本实施例的过滤装置100可应用于例如半导体工艺设备中，用以过滤液体L1。在一实施例中，此液体可包括研磨浆液(slurry)、化学溶液或前驱液(precursor)等或其他需要过滤的工艺液体。进一步而言，过滤装置100可设置于半导体工艺设备中的液体供给系统中，以在将液体供给至另一工艺槽之前先进行过滤。
请参照图1，在本实施例中，过滤装置100包括腔体110以及滤心120。腔体110包括进液口112、第一出液口114以及第二出液口116。在本实施例中，液体L1用以经由进液口112进入腔体110。腔体110可包括彼此相对的第一端E1以及第二端E2，在某些实施例中，第一出液口114设置于腔体110的第一端E1，第二出液口116设置于与第一端E1相对的第二端E2，并且，在某些实施例中，进液口112设置于腔体110的第一端E1。也就是说，第二出液口116与第一出液口114分别设置于腔体110的相对两端E1、E2，且第一出液口114与进液口112设置于腔体110的同一端(例如第一端E1)。
在某些实施例中，滤心120设置于腔体110内。滤心120包括滤心管壁122，其中，液体L1用以穿过滤心管壁122以过滤成经过滤液体LF，并且，此经过滤液体LF可经由第一出液口114流出腔体110。此外，被过滤出的未能穿过滤心管壁122的排除液体LD则可经由第二出液口116流出腔体110。在某些实施例中，滤心120可为薄膜式滤心(membrane filter)，其滤心管壁122可由例如聚苯醚砜(Polyethersulfone,PES)所制成的薄膜。在其他实施例中，滤心120亦可为深层式滤心(depth filter)，其滤心管壁122可由例如聚丙烯纤维所编织缠绕而成，以藉由将液体L1中的颗粒抓取拦截在滤心管壁122中，以达到大量去除液体L1中的颗粒的效果。本实施例的过滤装置100不只可用于对液体L1进行纯化(去除液体中的颗粒)，亦可用于进行分类(分出大颗粒以及小颗粒)，本公开并不限定过滤装置100的应用范围。
在本实施例中，滤心120为双开式滤心，进一步而言，滤心120可具有彼此相对且连通的第一开放端124以及第二开放端126，其中，第一开放端124朝向第一端E1，第二开放端126朝向第二端E2。如此，进液口112对应第一开放端124设置，以使液体L1经由进液口112流入滤心120内，而第一出液口114则设置于滤心管壁122与110腔体之间，以使液体L1由滤心120内穿过滤心管壁122而过滤成经过滤液体LF，并由位在滤心管壁122与110腔体之间的第一出液口114流出腔体110。并且，第二出液口116对应第二开放端126设置，以使滤心120内夹有大型颗粒而未能穿过滤心管壁122的排除液体LD可经由位在第二开放端126的第二出液口116而流出腔体110。如此配置，液体L1中被过滤出的大型颗粒可在过滤的过程中由第二出液口116排出腔体110而非留在腔体110内，因而可降低滤心120阻塞影响过滤效果的问题，还可延长过滤装置100的使用寿命。
在某些实施例中，过滤装置100还可包括液泵，其耦接进液口112，以驱动液体L1如图1所示地沿着环绕滤心120的螺旋方向在腔体110内流动。如此，液体L1的流动方向与滤心管壁122的夹角大体上小于45度。进一步而言，液体L1的流动方向可与滤心管壁122大体上平行。在此须说明的是，所谓的「大体上小于45度」指的是夹角的数值范围可约有正负5度左右的误差，而所谓的「大体上平行」指的是液体L1的流动方向与滤心管壁122的夹角大体上为零度，且此夹角的数值范围可约有正负5度左右的误差。
如此配置，由于液体L1的流动方向与滤心管壁122所夹的角度较小(顺着滤心管壁122的方向螺旋性环绕)，而非液体的流动方向与滤心管壁122约呈垂直地流进与流出滤心120，因此，卡在滤心120内的大型颗粒可轻易被水流带走并经由第二出液口116排出腔体110外，因而能减少大型颗粒卡在滤心120的孔隙内而导致滤心120阻塞且寿命缩短的问题。
在本实施例中，过滤装置100还可包括垫圈118，其可设置于滤心120的第二开放端126与第二端E2之间，以填垫第二开放端126与第二端E2之间的间隙，确保排除液体LD会经由第二开放端126流至第二出液口116，而不会渗流至滤心管壁122与110腔体之间的流道。在某些实施例中，第二出液口116的孔径可约大于进液口112的孔径，以控制腔体110内的流压，使排除液体LD可顺利由第二出液口116流出腔体110之外。
在某些实施例中，过滤装置100还可包括基座130，其设置于腔体110的第一端，并可用以与其他组件(例如其他管路)耦接。在一实施例中，进液口112与第一出液口114可由腔体110的第一端延伸至基座130，以与基座130及其所耦接的其他组件流体连通(liquidcommunication)。在某些实施例中，过滤装置100还可包括密封环(O-ring)119，其可设置于腔体110与基座130之间，以防止液体L1及经过滤液体LF渗流。
图2是依照本发明的另一实施例的一种过滤装置的示意图。在此必须说明的是，本实施例的过滤装置100’与图1的过滤装置100相似，因此，本实施例沿用前述实施例的组件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的组件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，本实施例不再重复赘述。请参照图1及图2，以下将针对本实施例的过滤装置100’与图1的过滤装置100的差异做说明。
在本实施例中，滤心120’为单开式滤心，其具有朝向第一端E1的开放端124以及朝向第二端E2的封闭端126’。也就是说，液体只能由开放端124进出滤心120’，而无法由封闭端126’流出滤心120’。如此，进液口112’设置于滤心管壁122与腔体110之间，以使液体L1由滤心管壁122与腔体110之间的流道流入腔体110，而第一出液口114’则对应开放端124设置，以使液体L1由滤心管壁122与110腔体之间的流道穿过滤心管壁122进入滤心120内，以将液体L1过滤成经过滤液体LF，并由位在开放端124的第一出液口114’流出腔体110。并且，第二出液口116对应封闭端126’设置。在本实施例中，滤心120的高度可略小于腔体的高度，因此，滤心120的封闭端126’与腔体110的第二端E2之间还存在间距，如此，滤心120内夹有大型颗粒而未能穿过滤心管壁122的排除液体LD可经由位在第二端E2的第二出液口116而流出腔体110。在这样的结构配置下，过滤装置100’无须在滤心120的封闭端126’与第二端E2之间设置垫圈。
简单来说，使用前述实施例的过滤装置100/100’的过滤方法可包括下列步骤。请参照图1及图2，首先，使液体L1经由进液口112/112’流入过滤装置100内，以进行过滤。接着，使穿过过滤装置的滤心120而过滤成的经过滤液体LF经由第一出液口114/114’流出过滤装置100。并且，使被过滤出的未能穿过滤心120的排除液体LD经由第二出液口116流出过滤装置100，以达到经过滤液体LF与排除液体LD分流的效果，防止排除液体LD中的大型颗粒阻塞滤心120，从而增长过滤装置100的使用寿命。
经实验证实，本公开的过滤装置100/100’对于粒径大体上大于0.3微米(μm)的颗粒的移除率大约是32％，而对于粒径大体上大于1微米(μm)的颗粒的移除率大约是66％。因此，本公开的过滤装置100/100’对于大型颗粒的移除率表现相当优异，当然，过滤装置100/100’对于特定颗粒大小的移除率可依据滤心的孔径大小来调整，本公开并不以此为限。
并且，由于本公开的过滤装置100/100’可有效移除液体L1中的大型颗粒，因而可降低以此经过滤液体LF进行化学机械研磨工艺对晶片所造成的刮伤率。经实验证实，在测试状态下，使用过滤装置100/100’所进行的化学机械研磨工艺，其对芯片/晶片刮伤数可由每批约7.3个降低到约3.2个，对于芯片/晶片的刮伤率有效降低了约56.2％。而在实际执行的状态下，使用过滤装置100/100’所进行的化学机械研磨工艺对芯片/晶片刮伤数可由每批约6.1个降低到约4.8个，对于芯片/晶片的刮伤率也有效降低约21.3％。因此，本公开的过滤装置100/100’可有效提升工艺的良率。
图3是依照本发明的一实施例的一种液体处理系统的示意图。在本实施例中，过滤装置100/100’可应用于如图3所示的液体处理系统10，以在此液体处理系统10中作液体的过滤。须说明的是，图3仅标示过滤装置100做举例说明，然而，任何所属技术领域中具有通常知识者应了解，前述的过滤装置100’也可应用于图3的液体处理系统10，且液体处理系统10中的各个构件仅用以举例说明，且构件之间的耦接关系仅为示意，任何所属技术领域中具有通常知识者可在图3所示的液体处理系统10中自行增加、减少或重新排列组合其构件。
请同时参照图1以及图3，在本实施例中，过滤装置100的液泵140耦接进液口112，以驱动液体L1流入腔体110内，并可如图1所示地沿着环绕滤心120的螺旋方向在腔体110内流动。在本实施例中，过滤装置100还可如图3所示的包括储液槽150，其耦接腔体110并用以储存液体L1。如此配置，储液槽150内的液体L1透过液泵140的驱动而经由进液口112流入腔体110以进行过滤，而排除液体LD则可经由第二出液口116流出腔体110并流回储液槽150。如此，若有部分经过滤液体LF(夹带有较小的颗粒)经由第二出液口116流出腔体110，则可随着排除液体LD流回储液槽150内以进行再次过滤，因而可确保过滤的精确度。在本实施例中，过滤装置100还可包括消泡模块，其可设置于液泵140与过滤装置100之间，以使液体L1在透过液泵140的驱动之后且在进入过滤装置100之前可先进行消泡。
在某些实施例中，经过滤液体LF可经由第一出液口114流出腔体110并可流入另一储液槽200。在本实施例中，储液槽150可例如用以储存化学机械研磨(Chemical-Mechanical Polishing,CMP)工艺用的研磨浆液，而储液槽200则可例如用以储存去离子水(de-ionized water,DI water)，当然，本公开并不局限于此。储液槽200内的液体可再经由过滤装置100来进行过滤，而再次过滤的经过滤液体则可再流入混合槽300，以将储液槽150、200内的液体进行充分混合，之后，混合后的液体可再经由过滤装置100进行三度过滤，而此三度过滤的经过滤液体则可再流入供液槽400，以供半导体工艺设备500(例如化学机械研磨机台)使用，并可在提供至半导体工艺设备500之前在次经由过滤装置100来进行最后过滤。当然，本实施例仅用以举例说明，本公开并不限制液体处理系统10的构件配置及液体处理流程。
图4是依照本发明的另一实施例的一种液体处理系统的示意图。在本实施例中，过滤装置100/100’可应用于如图4所示的液体处理系统10’，以在此液体处理系统10’中做液体的过滤。须说明的是，液体处理系统10’中的各个构件仅用以举例说明，且构件之间的耦接关系仅为示意，任何所属技术领域中具有通常知识者可在图4所示的液体处理系统10’中自行增加、减少或重新排列组合其构件。
并且，本实施例的液体处理系统10’与图3的液体处理系统10相似，因此，本实施例沿用前述实施例的组件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的组件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，本实施例不再重复赘述。请参照图1及图4，以下将针对本实施例的液体处理系统10’与图3的液体处理系统10的差异做说明。
在本实施例中，第一液体(例如化学机械研磨工艺用的研磨浆液)可例如由储液槽150提供至混合槽300，而第二液体(去离子水)则可例如由储液槽200提供至混合槽300，以使第一液体及第二液体在混合槽300内充分混合。混合槽300内的液体的多个参数可经由多个计量器600来进行监控及控制。在本实施例中，计量器600可包括导电性计量器(conductivity meter)、酸碱值计量器(pH meter)及/或比重计量器(specific gravitymeter)等。
在本实施例中，液体处理系统10’可包括多个过滤装置100a、100b(绘示为两个，但不以此为限)，并且，过滤装置100a、100b可如图4所示的彼此并联，且过滤装置100a、100b的结构可套用前述的过滤装置100/100’。如此配置，混合槽300内的液体可一部分流入过滤装置100a，混合槽300内的液体的另一部分则可流入过滤装置100b，以同时或分别进行过滤，而经由过滤装置100a、100b所过滤出的经过滤液体LF再分别流入供液槽400，以供半导体工艺设备500使用。在本实施例中，液体处理系统10’还可包括流量计700，其设置于过滤装置100a、100b与供液槽400之间，以控制供液槽400内的液体容量。
图5是依照本发明的又一实施例的一种液体处理系统的示意图。在本实施例中，过滤装置100/100’可应用于如图5所示的液体处理系统10”，以在此液体处理系统10”中做液体的过滤。须说明的是，液体处理系统10”中的各个构件仅用以举例说明，且构件之间的耦接关系仅为示意，任何所属技术领域中具有通常知识者可在图5所示的液体处理系统10”中自行增加、减少或重新排列组合其构件。
并且，本实施例的液体处理系统10”与图5的液体处理系统10’相似，因此，本实施例沿用前述实施例的组件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的组件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，本实施例不再重复赘述。以下将针对本实施例的液体处理系统10”与图4的液体处理系统10’的差异做说明。
请参照图5，在本实施例中，液体处理系统10’可包括多个过滤装置100c、100d(绘示为两个，但不以此为限)，并且，过滤装置100c、100d可如图5所示的彼此串联。如此配置，混合槽300内的液体可先流入过滤装置100c以进行过滤，由过滤装置100c流出的经过滤液体可再流入过滤装置100d，以再次进行过滤，而经由过滤装置100c、100d所过滤出的经过滤液体可再流入供液槽400，以供半导体工艺设备500使用。在本实施例中，液体处理系统10’还可包括流量计700，其可设置于过滤装置100d(离供液槽400最近的过滤装置)与供液槽400之间，以控制供液槽400内的液体容量。
使用前述实施例的过滤装置可衍生出一种对液体进行过滤的过滤方法，其可包括下列步骤：首先，使液体L1流入前述的过滤装置(例如过滤装置100，但不限于此)内以进行过滤。接着，检测此液体L1的流速是否低于正常流速。若是，则停止对液体L1进行过滤并进行异常处理或进行逆洗。若否，则表示过滤装置内应无阻塞而可继续对液体L1进行过滤。图6及图7将举例绘示出上述的过滤方法中的两个实例，但本发明实施例并不局限于此。
图6是依照本发明的一实施例的一种过滤方法的流程示意图。使用前述实施例的过滤装置可衍生出一种对液体进行过滤的过滤方法，此过滤方法包括下列步骤。在此须说明的是，以下的实施例的叙述是以图1的过滤装置100以及图3的液体处理系统10做举例说明，然而，任何所属技术领域中具有通常知识者应了解，前述的过滤装置100’以及液体处理系统10’、10”也可应用于图6的过滤方法中。
请参照图1、图3及图6，首先，执行步骤S110，使储液槽150内的液体L1经由进液口112流入过滤装置100以进行过滤。在本实施例中，可例如透过液泵140来驱动液体L1由储液槽150通过进液口112流入过滤装置100。
接着，执行步骤S120，检测液体的流速是否低于正常流速。在本实施例中，过滤装置100还可包括流速计，其可设置于过滤装置100的进液口112、第一出液口114及/或第二出液口116，以得到液体流经过滤装置100各出入口的流速，藉此判断此流速是否低于正常流速。若否，则回到步骤S110，以继续进行过滤。
若是，则接着执行步骤S130，确认储液槽150是否清空。在本实施例中，过滤装置100的储液槽150内还可包括液面传感器，用以感测储液槽150内的液面高度，以此判断液体流速低于正常流速是否归因于储液槽150已经清空。若否，则代表过滤装置100有异常的状况(滤心120阻塞或损坏等)，并可执行步骤S140，停止过滤并进行异常处理的标准作业程序(Standard Operating Procedures,SOP)，例如清洁滤心、更换组件等。
若是，则代表储液槽150内的液体已全部完成过滤，便可执行步骤S150，对过滤装置100进行逆洗。在本实施例中，逆洗是指以水或溶液淋洗过滤装置100，并且通常是由与先前的液流方向相反的方向来进行淋洗，以将可能卡在滤心120内的颗粒逆洗出来。
接着，执行步骤S160，确认过滤装置100是否超过使用寿命，若是，则接续执行步骤S170，更换过滤装置100，并在更换之后执行步骤S180，停止本次的过滤工艺。若否，表示过滤装置100未超过使用寿命而可继续使用，则无须更换过滤装置100而可直接执行步骤S180，停止本次的过滤工艺。如此，本实施例的过滤装置100搭配上述的过滤方法可有效率地监控过滤工艺中所发生的问题并立即进行处理，还可有效延长过滤装置100的使用寿命。
图7是依照本发明的另一实施例的一种过滤方法的流程示意图。使用前述实施例的过滤装置可衍生出另一种对液体进行过滤的过滤方法，此过滤方法包括下列步骤。在此须说明的是，以下的实施例的叙述是以图1的过滤装置100以及图3的液体处理系统10做举例说明，然而，任何所属技术领域中具有通常知识者应了解，前述的过滤装置100’以及液体处理系统10’、10”也可应用于图7的过滤方法中。在此须说明的是，图7中的实线箭头指的是在正常状况下的过滤方法流程，而虚线箭头指的是在异常状况下的过滤方法流程。
请参照图1、图3及图7，首先，执行步骤S210，使储液槽150内的液体L1经由进液口112流入过滤装置100以进行过滤。在本实施例中，可例如透过液泵140来驱动液体L1由储液槽150通过进液口112流入过滤装置100。
接着，执行步骤S220，检测液体L1的流速是否低于正常流速，在本实施例中，过滤装置100还可包括流速计，其可设置于过滤装置100的进液口112、第一出液口114及/或第二出液口116，以得到液体流经过滤装置100各出入口的流速，藉此判断此流速是否低于正常流速(例如滤心120未阻塞时的流速)。若否，则表示流速正常而可接续执行步骤S230，继续进行过滤至对整个储液槽150内的液体L1完成过滤。
接着，执行步骤S240，清洗储液槽150，以清除储液槽150内残存的颗粒及杂质。接着，执行步骤S250，对过滤装置100进行逆洗，也就是透过水或溶液以与先前相反的液流方向淋洗过滤装置100，以将可能卡在滤心120内的颗粒逆洗出来。
接着，执行步骤S260，确认过滤装置100是否超过使用寿命，若是，则接续执行步骤S270，更换过滤装置100，并在更换之后执行步骤S280，停止本次的过滤工艺。若否，表示过滤装置100未超过使用寿命而可继续使用，则无须更换过滤装置100而可直接执行步骤S280，停止本次的过滤工艺。
上述步骤是在过滤工艺在正常的状况下所进行的流程，然而，若是在过滤工艺呈现异常的状况下，则可进行以下所述的不同流程(以虚线表示)。
若是在步骤S220中检测出液体L1的流速低于正常流速，可能代表滤心120有阻塞的情形，故不继续过滤而是直接跳至步骤S250，对过滤装置100进行逆洗，以将可能卡在滤心120内的颗粒逆洗出来。
接着，再继续执行步骤S260，确认过滤装置100是否超过使用寿命，若是，则接续执行步骤S270，更换过滤装置100，并在更换之后回到步骤S210以继续先前的过滤工艺。若否，表示过滤装置100未超过使用寿命而可继续使用，则无须更换过滤装置100而可直接回到步骤S210以继续先前的过滤工艺。如此，本实施例的过滤装置100搭配上述的过滤方法可有效率地监控过滤工艺中所发生的问题并立即进行处理，还可有效延长过滤装置100的使用寿命。
综上所述，本发明实施例的过滤装置设置有进液口、第一出液口以及第二出液口，其中，液体经由进液口流入过滤装置的腔体内，而流经滤心管壁而过滤的经过滤液体则由第一出液口流出腔体之外，被过滤出的未能穿过滤心管壁的排除液体则经由第二出液口流出腔体之外。如此配置，液体中被过滤出的大型颗粒可在过滤的过程中由第二出液口排出腔体，而非停留在腔体内，因而可降低滤心阻塞影响过滤效果的问题，还可延长过滤装置的使用寿命。
并且，本公开的腔体内的液体的流动方向并非是以与滤心管壁垂直的方向流入/流出滤心，而是以与滤心管壁近乎平行的方向(例如沿着环绕滤心的螺旋方向)在腔体内流动。如此配置，由于腔体内的液体的流动方向与滤心管壁所夹的角度较小，因此，卡在滤心内的大型颗粒可轻易被水流带走并经由第二出液口排出腔体外，因而能减少大型颗粒卡在滤心的孔隙内而导致滤心阻塞且寿命缩短的问题。并且，本公开的过滤装置搭配本公开的过滤方法可有效率地监控过滤工艺中所发生的问题并立即进行处理，还可有效延长过滤装置的使用寿命。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明实施例的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明实施例进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种过滤装置，用以过滤液体，其特征在于，包括：
腔体，包括进液口、第一出液口以及第二出液口，所述液体用以经由所述进液口进入所述腔体，其中所述第一出液口设置于所述腔体的第一端，所述第二出液口设置于与所述第一端相对的第二端；以及
滤心，设置于所述腔体内，所述滤心包括滤心管壁，其中所述液体用以穿过所述滤心管壁以过滤成经过滤液体，所述经过滤液体经由所述第一出液口流出所述腔体，被过滤出的未能穿过所述滤心管壁的排除液体经由所述第二出液口流出所述腔体。
2.根据权利要求1所述的过滤装置，还包括液泵，耦接所述进液口，以驱动所述液体沿着环绕所述滤心的螺旋方向在所述腔体内流动，或者所述液体的流动方向与所述滤心管壁的夹角小于45度。
3.根据权利要求1所述的过滤装置，所述进液口设置于所述腔体的所述第一端。
4.根据权利要求1所述的过滤装置，所述滤心为双开式滤心，其具有彼此相对且连通的第一开放端以及第二开放端，所述第一开放端朝向所述第一端，所述第二开放端朝向所述第二端。
5.根据权利要求4所述的过滤装置，所述进液口对应所述第一开放端设置，以使所述液体经由所述进液口流入所述滤心内，所述第一出液口设置于所述滤心管壁与所述腔体之间，所述第二出液口对应所述第二开放端设置。
6.根据权利要求1所述的过滤装置，所述滤心为单开式滤心，其具有朝向所述第一端的开放端以及朝向所述第二端的封闭端。
7.根据权利要求6所述的过滤装置，其中所述进液口设置于所述滤心管壁与所述腔体之间，所述第一出液口对应所述开放端设置，所述第二出液口对应所述封闭端设置。
8.根据权利要求1所述的过滤装置，还包括：
储液槽，耦接所述腔体并用以储存所述液体，其中所述液体由所述储液槽通过所述进液口而流入所述腔体，所述排除液体经由所述第二出液口流出所述腔体而流回所述储液槽。
9.一种过滤方法，其特征在于，包括：
使液体经由进液口流入过滤装置内以进行过滤；
使穿过所述过滤装置的滤心而过滤成的经过滤液体经由第一出液口流出所述过滤装置；以及
使被过滤出的未能穿过所述滤心的排除液体经由第二出液口流出所述过滤装置。
10.一种过滤方法，其特征在于，包括：
使液体流入过滤装置内以进行过滤；
检测所述液体的流速是否低于正常流速；
若是，停止对所述液体进行过滤并进行异常处理或逆洗；以及
若否，继续对所述液体进行过滤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810449929.0A CN110465126A (zh) | 2018-05-11 | 2018-05-11 | 过滤装置以及过滤方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810449929.0A CN110465126A (zh) | 2018-05-11 | 2018-05-11 | 过滤装置以及过滤方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110465126A true CN110465126A (zh) | 2019-11-19 |
Family
ID=68504593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810449929.0A Pending CN110465126A (zh) | 2018-05-11 | 2018-05-11 | 过滤装置以及过滤方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN110465126A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110400690A (zh) * | 2019-08-01 | 2019-11-01 | 浙江鑫盛永磁科技有限公司 | 便于过滤的磁流体制备方法 |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2526071Y (zh) * | 2002-01-24 | 2002-12-18 | 乐山市沙湾龚嘴电力实业总公司 | 自动排污滤水器 |
| CN201287001Y (zh) * | 2008-10-24 | 2009-08-12 | 宣达实业集团有限公司 | 套筒式过滤器 |
| EP2229990A1 (de) * | 2009-03-18 | 2010-09-22 | Mann + Hummel GmbH | Filterelement und Stützkörper für ein solches Filterelement |
| CN203724852U (zh) * | 2014-01-25 | 2014-07-23 | 南通瑞达电子材料有限公司 | 一种电解液热式过滤设备 |
| CN204034377U (zh) * | 2014-06-27 | 2014-12-24 | 宏茂事业有限公司 | 旋风式杂质排除过滤器 |
| CN104383737A (zh) * | 2014-11-24 | 2015-03-04 | 同济大学 | 一种具备自清洗功能可用于原位海水过滤的装置及其使用方法 |
| CN104941305A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-09-30 | 北京智网天成信息技术有限公司 | 一种监测净水机的装置及方法 |
| CN204709901U (zh) * | 2015-06-12 | 2015-10-21 | 温州浮士达佑利流体系统有限公司 | 一种液体直流阻断器 |
| CN205412691U (zh) * | 2016-02-19 | 2016-08-03 | 浙江圣兆药物科技股份有限公司 | 可湿热灭菌的无菌切向流过滤装置 |
| CN106714942A (zh) * | 2014-08-12 | 2017-05-24 | 沃特普兰尼特公司 | 智能流体过滤管理系统 |
| CN206934846U (zh) * | 2017-07-17 | 2018-01-30 | 湖南省冶金规划设计院 | 低阻力水过滤装置 |
| CN207016510U (zh) * | 2017-07-20 | 2018-02-16 | 安徽滨特尔环保工程有限公司 | 一种智能流量家用净水机 |
| CN107808833A (zh) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 东京毅力科创株式会社 | 处理液供给装置 |
-
2018
- 2018-05-11 CN CN201810449929.0A patent/CN110465126A/zh active Pending
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2526071Y (zh) * | 2002-01-24 | 2002-12-18 | 乐山市沙湾龚嘴电力实业总公司 | 自动排污滤水器 |
| CN201287001Y (zh) * | 2008-10-24 | 2009-08-12 | 宣达实业集团有限公司 | 套筒式过滤器 |
| EP2229990A1 (de) * | 2009-03-18 | 2010-09-22 | Mann + Hummel GmbH | Filterelement und Stützkörper für ein solches Filterelement |
| CN203724852U (zh) * | 2014-01-25 | 2014-07-23 | 南通瑞达电子材料有限公司 | 一种电解液热式过滤设备 |
| CN204034377U (zh) * | 2014-06-27 | 2014-12-24 | 宏茂事业有限公司 | 旋风式杂质排除过滤器 |
| CN106714942A (zh) * | 2014-08-12 | 2017-05-24 | 沃特普兰尼特公司 | 智能流体过滤管理系统 |
| CN104383737A (zh) * | 2014-11-24 | 2015-03-04 | 同济大学 | 一种具备自清洗功能可用于原位海水过滤的装置及其使用方法 |
| CN104941305A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-09-30 | 北京智网天成信息技术有限公司 | 一种监测净水机的装置及方法 |
| CN204709901U (zh) * | 2015-06-12 | 2015-10-21 | 温州浮士达佑利流体系统有限公司 | 一种液体直流阻断器 |
| CN205412691U (zh) * | 2016-02-19 | 2016-08-03 | 浙江圣兆药物科技股份有限公司 | 可湿热灭菌的无菌切向流过滤装置 |
| CN107808833A (zh) * | 2016-09-08 | 2018-03-16 | 东京毅力科创株式会社 | 处理液供给装置 |
| CN206934846U (zh) * | 2017-07-17 | 2018-01-30 | 湖南省冶金规划设计院 | 低阻力水过滤装置 |
| CN207016510U (zh) * | 2017-07-20 | 2018-02-16 | 安徽滨特尔环保工程有限公司 | 一种智能流量家用净水机 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110400690A (zh) * | 2019-08-01 | 2019-11-01 | 浙江鑫盛永磁科技有限公司 | 便于过滤的磁流体制备方法 |
| CN110400690B (zh) * | 2019-08-01 | 2020-09-04 | 浙江鑫盛永磁科技有限公司 | 便于过滤的磁流体制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9162163B2 (en) | Processing liquid supply method, processing liquid supply apparatus and storage medium | |
| US9732910B2 (en) | Processing-liquid supply apparatus and processing-liquid supply method | |
| KR102581139B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치에 있어서의 배기관의 막힘 검출 방법 | |
| US10109505B2 (en) | Dual medium filter for ion and particle filtering during semiconductor processing | |
| CN110465126A (zh) | 过滤装置以及过滤方法 | |
| US10525568B2 (en) | Wafer polishing system | |
| US5885360A (en) | Semiconductor wafer cleaning apparatus | |
| CN208680012U (zh) | 一种新型超声波清洗装置 | |
| TWI733024B (zh) | 過濾裝置以及過濾方法 | |
| CN212319415U (zh) | 一种cmp后清洗设备的液体传输管路 | |
| US11465168B2 (en) | Liquid processing device and liquid processing method | |
| KR20150086183A (ko) | 프로세스 액체들을 컨디셔닝하기 위한 방법 및 장치 | |
| US6929532B1 (en) | Method and apparatus for filtering a chemical polishing slurry of a wafer fabrication process | |
| CN104625877A (zh) | 一种用于数控机床超声检测的切削液循环系统 | |
| CN112864050A (zh) | 一种晶圆清洗装置、控制方法、控制器及系统 | |
| CN112858660A (zh) | 磁分离清洗系统及其吸液针组件、免疫分析仪器 | |
| CN209123475U (zh) | 过滤装置 | |
| CN209934213U (zh) | 化学品过滤器清洗装置 | |
| TWI795912B (zh) | 具氣壓式循環功能之預浸潤系統 | |
| CN116789298A (zh) | 超纯水供应设备、基板处理系统和基板处理方法 | |
| CN217521978U (zh) | 一种吸盘工作台和基板减薄装置 | |
| CN202277718U (zh) | 过滤装置 | |
| CN114388383A (zh) | 一种排液装置及排液方法 | |
| KR100583645B1 (ko) | 웨이퍼 이송장치를 위한 진공 메커니즘 | |
| KR100474556B1 (ko) | 슬러리 필터 및 그를 이용한 슬러리 필터링 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |