CN110430655B - 一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙及其应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙及其应用，包括等离子体喷射单元，等离子体喷射单元包括喷射装置和等离子体触发器T，喷射装置设置在触头单元内，通过脉冲电压和电流产生等离子体、烧蚀熔蚀材料，并利用细长腔体的毛细管效应产生等离子体射流，喷射装置通过高压导线LA与等离子体触发器T连接，触头单元设置在腔体单元内用于耐受电弧烧蚀，腔体单元用于提供封闭的高气压气体介质环境。本发明保证放电间隙在较低的工作系数下可靠动作，提高放电间隙的控制性能，增大放电间隙的工作范围和寿命。解决因间隙电流过小，导致电弧熄灭的问题，防止间隙断流，替代复杂和高成本的储能续流装置。

Description

一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙及其应用
技术领域
本发明属于可控避雷器技术领域，具体涉及一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙及其应用。
背景技术
避雷器常应用于直流输变电设备的过电压保护，用来限制雷电过电压和操作过电压。对避雷器而言，荷电率和残压是两种重要的技术参数，但二者存在着固有的矛盾。避雷器的荷电率越低，意味着正常带电工作时，避雷器流经的电流越小，相应的避雷器能耗低、发热量小、老化速度慢；为了实现低荷电率，需要接入更多的避雷器阀片。避雷器的残压低，意味着冲击电流到来时避雷器两端过电压低，相应的避雷器的保护性能好；为了实现低残压，需要尽量少接入避雷器阀片。
可控避雷器技术，即是为了兼顾低荷电率和低残压，其关键的控制部件为放电间隙。正常电压负荷下，放电间隙断开，全部避雷器阀片接入母线，实现泄露电流小、荷电率低；冲击电流到来时，放电间隙闭合，短接掉一部分避雷器阀片，只有部分阀片接入被保护母线，实现低残压。
现有的放电间隙，本质上是一组自击穿的气体间隙，当过电压来临时，间隙发生自击穿而导通，由此实现对部分避雷器阀片的短接。自击穿气体间隙结构简单，但导通过程无法人为控制，无法在较低的工作系数下可靠触发。同时，自击穿电压的分散性影响了放电间隙和避雷器配合工作的一致性。由于间隙本身需要直接承担电弧电流的烧蚀，烧蚀又加剧了自击穿电压的分散性，进一步导致性能劣化。由于上述这些原因，现有放电间隙的工作范围小、控制性能弱、工作寿命短。此外，放电间隙在导通过程中可能存在电弧熄灭的现象，这是由于冲击电压存在着高频振荡，当震荡至电压低值时，避雷器本身的伏安特性使得电阻值迅速升高，续流电流迅速下降，当续流电流下降至几安培时，间隙有可能发生息弧。这个问题在强电负性、高气压气体工作介质中尤为突出。一旦电弧熄灭，全部避雷器阀片被接入母线，意味着可控避雷器动作失败。为了解决电弧熄灭的问题，现有放电间隙一般并联有储能续流装置，大大增加了放电间隙的成本和复杂性。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙及其应用，利用喷射出的等离子体射流，保证放电间隙在较低的工作系数下可靠动作，提高放电间隙的控制性能，增大放电间隙的工作范围和寿命。还可以按照先后次序多次喷射等离子体射流，解决因间隙电流过小，导致电弧熄灭的问题，防止间隙断流，替代复杂和高成本的储能续流装置。
本发明采用以下技术方案：
一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙，包括等离子体喷射单元，等离子体喷射单元包括喷射装置和等离子体触发器T，喷射装置设置在触头单元内，通过脉冲电压和电流产生等离子体、烧蚀熔蚀材料，并利用细长腔体的毛细管效应产生等离子体射流，喷射装置通过高压导线LA与等离子体触发器T连接，触头单元设置在腔体单元内用于耐受电弧烧蚀，腔体单元用于提供封闭的高气压气体介质环境。
具体的，触头单元包括高压触头CA和低压触头CB，高压触头CA和低压触头CB内分别安装独立的1至2套喷射装置或者低压触头CB内安装独立的1至4套喷射装置，高压触头CA和低压触头CB内部相对应的喷射装置的喷嘴开口方向相对设置。
进一步的，喷射装置包括熔蚀材料B、脉冲电极DC和喷嘴N，熔蚀材料B内设置有一个熔蚀腔Q，熔蚀腔Q的两端分别连接高压电极DA和低压电极DB，脉冲电极DC穿过熔蚀材料B与熔蚀腔Q侧面相连，喷嘴N通过高压电极DA与熔蚀腔Q连接。
更进一步的，高压触头CA与低压触头CB选用铜钨合金；高压电极DA、低压电极DB和脉冲电极DC选用铜钨合金、黄铜或不锈钢材料；熔蚀材料B选用高密度聚乙烯、聚四氟乙烯或聚碳酸酯。
更进一步的，熔蚀腔Q的管径为1～5mm，管长为5～80mm。
更进一步的，喷嘴N的开口为锥角，锥角的全角度为8°～30°。
具体的，腔体单元包括一个全封闭的外壳E，外壳E内部均匀填充有气体介质K，气体介质K为SF6气体、干燥空气或氮气。
进一步的，全封闭外壳E内部的气体介质K压强为1～5个标准大气压。
具体的，等离子体触发器T通过控制光纤LB接收控制命令，多套等离子体触发器T同时工作或按时序工作，等离子体触发器T先输出10～100kV脉冲电压，然后输出峰值2～20kA、脉宽10～100us的脉冲电流。
本发明的另一个技术方案是，采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙在可控避雷器中的应用，等离子体射流触发的封闭式放电间隙分别外接高压隔离供电电源P、可控避雷器固定部分OA、可控避雷器短接部分OB、高压母线M和中性线G；隔离供电电源P与等离子体触发器T的电源端相连；高压母线M与可控避雷器固定部分OA的高压端相连；可控避雷器固定部分OA的低压端与可控避雷器短接部分OB的高压端和高压触头CA相连；可控避雷器短接部分OB的低压端与低压触头CB和中性线G相连。
与现有技术相比，本发明至少具有以下有益效果：
本发明一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙，利用喷射出的等离子体射流，在亚毫秒的时间内实现间隙导通和部分避雷器阀片的短接，保证放电间隙在较低的工作系数下可靠动作，提高放电间隙的控制性能，增大放电间隙的工作范围和寿命。
进一步的，高压触头CA和低压触头CB内分别安装独立的1至2套喷射装置或者低压触头CB内安装独立的1至2套喷射装置，能够按照先后次序多次喷射等离子体射流，解决因间隙电流过小，导致电弧熄灭的问题，防止间隙断流，替代复杂和高成本的储能续流装置。
进一步的，在脉冲电压的作用下，脉冲电极DC和高压电极DA首先产生绝缘沿面闪络，产生等离子体；等离子体进一步促进高压电极DA和低压电极DB之间产生放电通道，保证脉冲电流波的能量注入熔蚀腔Q；之后熔蚀腔Q的表面在脉冲电流的作用下消融并电离为等离子体；等离子体在熔蚀腔Q内由于毛细管效应，产生瞬间的极高压强，推动等离子体本身由喷嘴N射出，形成等离子体射流。
进一步的，高压触头CA和低压触头CB选用铜钨合金，是为了提高耐电流烧蚀的能力；高压电极电极DA、低压电极DB和脉冲电极DC选用铜钨合金、黄铜或不锈钢材料是综合考虑耐烧蚀能力和成本；熔蚀材料B选用高密度聚乙烯、聚四氟乙烯或聚碳酸酯等高密度聚合物材料是为了获得尽可能远的喷射距离和尽可能高的带电粒子密度。
进一步的，熔蚀腔Q设计成细长管状，是为了增强毛细管效应，实现更大的射流初速度和喷射距离。
进一步的，喷嘴N设计为开口锥角，是为了兼顾更大的喷射范围和更远的喷射距离。
进一步的，利用全封闭外壳E和高压气体介质K，是为了提高高压触头CA与低压触头CB间的绝缘强度，拓展放电间隙的应用范围，并缩小设备体积。
进一步的，多套等离子体喷射器同时工作时，可以保证高气压、强电负性气体工作介质下高压触头CA和低压触头CB之间的可靠击穿，拓展等离子体喷射单元的有效工作范围；按一定时序分别工作时，后续的等离子体射流注入气体间隙后，可以补充气体间隙中带电粒子的数量，放置间隙因电流过小而息弧；等离子体触发器T先输出脉冲电压，目的在于让脉冲电极DC和高压电极DA之间先发生沿面闪络，产生少量的等离子体，降低高气压、强电负性气体气体介质环境中对沿面击穿电压的需求；待少量等离子体扩散至低压电极DB后，注入足够的脉冲电流能量，保证等离子体射流的初速度和喷射距离。
本发明采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙在可控避雷器中的应用，可以在正常电压负荷下，放电间隙断开，使全部避雷器阀片接入母线，实现整个可控避雷器装置泄露电流小、荷电率低；冲击电流到来时，放电间隙在等离子体射流的促进下快速闭合，短接掉一部分避雷器阀片，只有固定部分阀片接入被保护母线，实现亚毫秒快速动作、整个可控避雷器装置低残压。
综上所述，本发明可以在亚毫秒的时间内实现间隙导通和部分避雷器阀片的短接，保证放电间隙在较低的工作系数下可靠动作，提高放电间隙的控制性能，增大放电间隙的工作范围和寿命。还可以按照先后次序多次喷射等离子体射流，解决因间隙电流过小，导致电弧熄灭的问题，防止间隙断流，替代复杂和高成本的储能续流装置。
下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本发明结构示意图；
图2为实施例1结构示意图；
图3为实施例2结构示意图；
图4为实施例3结构示意图。
具体实施方式
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅图1，本发明一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙，包括等离子体喷射单元、触头单元和腔体单元，腔体单元用于提供封闭的高气压气体介质环境，触头单元设置在腔体单元内用于耐受电弧烧蚀，等离子体喷射单元包括喷射装置和等离子体触发器T，喷射装置设置在触头单元内，通过脉冲电压和电流在细长腔体内激励熔蚀材料B产生等离子体射流，喷射装置通过高压导线LA与等离子体触发器T连接，等离子体触发器T通过控制光纤连接外部控制器。
喷射装置包括高压电极DA、低压电极DB、脉冲电极DC、熔蚀材料B、熔蚀腔Q和喷嘴N，高压电极DA和低压电极DB设置在熔蚀材料B内，喷嘴N与高压电极DA连接，高压电极DA和低压电极DB之间通过熔蚀腔Q连接，高压电极DA、低压电极DB和脉冲电极DC分别通过高压导线LA与等离子体触发器T连接。
其中，熔蚀材料B包含一个通孔，该通孔为熔蚀腔Q；高压电极DA和低压电极DB分别与熔蚀腔Q的两端相连；脉冲电极DC穿过熔蚀材料B与熔蚀腔Q侧面相连；喷嘴N与熔蚀腔Q相通；
高压电极DA通过高压导线LA与等离子体触发器T的高压端相连；低压电极DB通过高压导线LA与等离子体触发器T的低压端相连；脉冲电极DC通过高压导线LA与等离子体触发器T的脉冲端相连。
优选的，高压电极DA和低压电极DB选用铜钨合金、黄铜或不锈钢材料。
优选的，熔蚀材料B为高密度聚乙烯、聚四氟乙烯或聚碳酸酯高密度聚合物材料。
优选的，熔蚀腔Q的管径为1～5mm，管长为5～80mm。
优选的，喷嘴N为一扩张的锥角，锥角全角度为8°～30°。
优选的，等离子体触发器T能先输出10～100kV脉冲电压，之后输出峰值2～20kA、脉宽10～100us的脉冲电流。
触头单元包括高压触头CA和低压触头CB；
高压触头CA和低压触头CB分别安装独立的1至2套等离子体喷射单元的喷射装置或者低压触头CB内安装独立的1至4套喷射装置。
优选的，高压触头CA和低压触头CB选用铜钨合金。
腔体单元包括一个全封闭外壳E，内部均匀填充气体介质K，其中气体介质K为SF6气体、干燥空气或氮气，内部的压强为1～5个标准大气压。
等离子体触发器T通过控制光纤LB接收控制命令，在一定的控制命令下，多套等离子体触发器Ti同时工作，也可以按照一定时序分别工作。
一种可控避雷器，包括等离子体射流触发的封闭式放电间隙，等离子体射流触发的封闭式放电间隙外接高压隔离供电电源P、可控避雷器固定部分OA、可控避雷器短接部分OB、高压母线M和中性线G；隔离供电电源P与等离子体触发器电源端相连；高压母线M与可控避雷器固定部分OA的高压端相连；可控避雷器固定部分OA的低压端与可控避雷器短接部分OB的高压端和高压触头CA相连；可控避雷器短接部分OB的低压端与低压触头CB和中性线G相连。
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中的描述和所示的本发明实施例的组件可以通过各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
请参阅图2，采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙外接高压隔离供电电源P、可控避雷器固定部分OA、可控避雷器短接部分OB、高压母线M和中性线G；其中，隔离供电电源Pi与等离子体触发器Ti电源端相连，P1对地的主绝缘应具有高压母线M相同的电压等级水平，P2由于中性线可能存在的过电压，对地的主绝缘也应具有高压母线M相同的电压等级水平；高压母线M与可控避雷器固定部分OA高压端相连；可控避雷器固定部分OA低压端与可控避雷器短接部分OB高压端和高压触头CA相连；可控避雷器短接部分OB低压端与低压触头CB和中性线G相连。
高压触头CA与低压触头CB选用铜钨合金，各安装1套独立的等离子体喷射单元；高压电极DA、低压电极DB和脉冲电极DC选用黄铜材料；熔蚀材料B选用聚四氟乙烯；熔蚀腔Q管径1mm，管长为5mm；喷嘴N是一扩张的锥角，锥角全角度为30°；所述等离子体触发器T能先输出10kV脉冲电压，之后输出峰值2kA、脉宽10us的脉冲电流；全封闭外壳E由套管EB和内衬套EA共同组成，内衬套EA的外缘和套管EB的内缘互相贴合，套管EB选用复合绝缘套管，内衬套EA选用厚度9mm的聚四氟乙烯材料，与所述复合绝缘套管EB采用一次成型方式制成；所述气体介质选用氮气，内部压强2atm。
当雷电过电压或操作过电压来临时，通过控制光纤LB1向等离子体触发器T1发出动作的命令信号；10ms后，通过控制光纤LB2向等离子体触发器T2发出动作的命令信号。
等离子体触发器T1在收到命令信号后，首先在高压电极DA1和脉冲电极DC1之间造成绝缘沿面闪络，产生等离子体；等离子体进一步促进高压电极DA1和低压电极DB1之间产生放电通道，之后等离子体触发器T1将2kA/10us的脉冲电流波通过放电通道注入熔蚀腔Q1，将熔蚀材料B1的表面消融并电离为等离子体。等离子体在熔蚀腔Q1内由于毛细管效应，产生瞬间的极高压强，推动等离子体本身由喷嘴N1射出，形成等离子体射流。在等离子体触发器T1收到命令信号的1ms内，等离子体射流贯通高压触头CA和低压触头CB间的气体间隙，将可控避雷器短接部分OB旁路掉。过电压几乎全部施加在可控避雷器固定部分OA上，实现了避雷器的低残压。
10ms后，等离子体触发器T2在收到命令信号后，首先输出10kV脉冲电压，在高压电极DA2和脉冲电极DC2之间造成绝缘沿面闪络，产生等离子体；等离子体进一步促进高压电极DA2和低压电极DB2之间产生放电通道，之后等离子体触发器T2将2kA/10us的脉冲电流通过放电通道注入熔蚀腔Q2，将熔蚀材料B2的表面消融并电离为等离子体。等离子体在熔蚀腔Q2内由于毛细管效应，产生瞬间的极高压强，推动等离子体本身由喷嘴N2射出，形成等离子体射流。等离子体射流注入气体间隙后，补充了气体间隙中带电粒子数量，防止间隙因电流过小而熄弧。
实施例2
请参阅图3，高压触头CA与低压触头CB选用铜钨合金，分别安装2套独立的等离子体喷射单元；高压电极DAi、低压电极DBi和脉冲电极DCi选用铜钨合金；熔蚀材料Bi选用高密度聚乙烯；熔蚀腔Qi管径5mm，管长为80mm；喷嘴Ni是一扩张的锥角，锥角全角度为8°；等离子体触发器Ti能先输出100kV脉冲电压，之后输出峰值20kA、脉宽100us的脉冲电流；等离子体触发器T1和T3并联连接至隔离供电电源P1，等离子体触发器T2和T4并联连接至隔离供电电源P2，隔离供电电源Pi具有高压母线M相同的电压等级水平；全封闭外壳E由套管EB和内衬套EA共同组成，内衬套EA的外缘和套管EB的内缘互相贴合，套管EB选用复合绝缘套管，内衬套EA选用厚度12mm的聚四氟乙烯材料，与所述复合绝缘套管EB采用一次成型方式制成；所述气体介质选用SF6气体，内部压强2.5atm。其余装配结构和连接方式与实施例1相同。
当雷电过电压或操作过电压来临时，通过控制光纤LB1和LB2向等离子体触发器T1和T2发出动作的命令信号；0.2ms后，通过控制光纤LB3向等离子体触发器T3发出动作的命令信号；0.5ms后，通过控制光纤LB4向等离子体触发器T4发出动作的命令信号。
与实施例1的物理机制相类似，在等离子体触发器T1和T2的驱动下，等离子体射流由喷嘴N1和N2射出，两股射流相向运动，共同促进高压触头CA和低压触头CB间的气体间隙导通，将可控避雷器短接部分OB旁路掉，整个过程距命令信号发出不超过1ms。0.2ms和0.5ms后，两股等离子体射流分别由等离子体触发器T3和T4驱动产生，为气体间隙补充带电粒子，防止电弧熄灭。
实施例3
请参阅图4，高压触头CA与低压触头CB选用铜钨合金，低压触头CB安装4套独立的等离子体喷射单元，高压触头CA不安装，这样做的好处是总共只需要一台隔离供电电源P；高压电极DAi、低压电极DBi和脉冲电极DCi选用铜钨合金；熔蚀材料Bi选用聚碳酸酯；熔蚀腔Qi管径3mm，管长为50mm；喷嘴Ni是一扩张的锥角，锥角全角度为15°；等离子体触发器Ti能先输出50kV脉冲电压，之后输出峰值10kA、脉宽50us的脉冲电流；等离子体触发器Ti并联连接至隔离供电电源P，隔离供电电源P具有高压母线M相同的电压等级水平；全封闭外壳E由金属外壳EG和电容式套管ET共同组成，其中电容式套管ET内有一实心金属导电杆ED，电容式套管ET是成套的成熟商品，其金属导电杆ED与高压触头CA相连，内外绝缘子交界处与金属外壳EG相连；可控避雷器固定部分OA低压端与可控避雷器短接部分OB高压端通过金属导电杆ED与高压触头CA相连；所述气体介质选用干燥空气，内部压强5atm。其余装配结构和连接方式与实施例1相同。
当雷电过电压或操作过电压来临时，通过控制光纤LB1向等离子体触发器T1发出动作的命令信号；2ms后，通过控制光纤LB2向等离子体触发器T2发出动作的命令信号；4ms后，通过控制光纤LB3向等离子体触发器T3发出动作的命令信号；6ms后，通过控制光纤LB4向等离子体触发器T4发出动作的命令信号。
与实施例1的物理机制相类似，在等离子体触发器T1的驱动下，等离子体射流由喷嘴N1射出，高压触头CA和低压触头CB间的气体间隙导通，将可控避雷器短接部分OB旁路掉，整个过程距命令信号发出不超过1ms。2ms后，等离子体射流由等离子体触发器T2驱动产生，由N2射出；4ms后，等离子体射流由等离子体触发器T3驱动产生，由N3射出；6ms后，等离子体射流由等离子体触发器T4驱动产生，由N4射出；三次后续喷射为气体间隙补充带电粒子，防止电弧熄灭。
以上内容仅为说明本发明的技术思想，不能以此限定本发明的保护范围，凡是按照本发明提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本发明权利要求书的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置，其特征在于，包括等离子体喷射单元，等离子体喷射单元包括喷射装置和等离子体触发器T，喷射装置设置在触头单元内，通过脉冲电压和电流产生等离子体、烧蚀熔蚀材料，并利用细长腔体的毛细管效应产生等离子体射流，喷射装置通过高压导线LA与等离子体触发器T连接，触头单元设置在腔体单元内用于耐受电弧烧蚀，腔体单元用于提供封闭的高气压气体介质环境；
触头单元包括高压触头CA和低压触头CB，高压触头CA和低压触头CB内分别安装独立的1至2套喷射装置或者低压触头CB内安装独立的1至4套喷射装置，高压触头CA和低压触头CB内部相对应的喷射装置的喷嘴开口方向相对设置，喷射装置包括熔蚀材料B、脉冲电极DC和喷嘴N，熔蚀材料B内设置有一个熔蚀腔Q，熔蚀腔Q的两端分别连接高压电极DA和低压电极DB，脉冲电极DC穿过熔蚀材料B与熔蚀腔Q侧面相连，喷嘴N通过高压电极DA与熔蚀腔Q连接，高压触头CA与低压触头CB选用铜钨合金；高压电极DA、低压电极DB和脉冲电极DC选用铜钨合金、黄铜或不锈钢材料；熔蚀材料B选用高密度聚乙烯、聚四氟乙烯或聚碳酸酯。
2.根据权利要求1所述的采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置，其特征在于，熔蚀腔Q的管径为1～5mm，管长为5～80mm。
3.根据权利要求1所述的采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置，其特征在于，喷嘴N的开口为锥角，锥角的全角度为8°～30°。
4.根据权利要求1所述的采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置，其特征在于，腔体单元包括一个全封闭的外壳E，外壳E内部均匀填充有气体介质K，气体介质K为SF6气体、干燥空气或氮气。
5.根据权利要求4所述的采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置，其特征在于，全封闭外壳E内部的气体介质K压强为1～10个标准大气压。
6.根据权利要求1所述的采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置，其特征在于，等离子体触发器T通过控制光纤LB接收控制命令，多套等离子体触发器T同时工作或按时序工作，等离子体触发器T先输出10～100kV脉冲电压，然后输出峰值2～20kA、脉宽10～100us的脉冲电流。
7.根据权利要求1所述的采用等离子体射流触发的封闭式放电间隙装置在可控避雷器中的应用，其特征在于，等离子体射流触发的封闭式放电间隙分别外接高压隔离供电电源P、可控避雷器固定部分OA、可控避雷器短接部分OB、高压母线M和中性线G；隔离供电电源P与等离子体触发器T的电源端相连；高压母线M与可控避雷器固定部分OA的高压端相连；可控避雷器固定部分OA的低压端与可控避雷器短接部分OB的高压端和高压触头CA相连；可控避雷器短接部分OB的低压端与低压触头CB和中性线G相连。
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