CN110389396A - 微透镜防伪膜的菲林成型工艺及其真空层压曝光装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及微透镜防伪膜的菲林成型工艺，包括步骤为：将微图形单元制作成光掩模版并呈阵列式排布，微图形所在区域为不透光区，反之为透光区；将光掩模版含微图形的一面覆盖在菲林前体的感光乳化剂层表面，从光掩模版一侧进行曝光处理，使微图形转印至菲林前体后与光掩模版分离，对菲林前体进行显影、定影处理，经清洗、干燥得带有微图形阵列图文的菲林；在菲林不含微图文的一面设置微透镜层，即得本发明所述的微透镜防伪膜。本发明还提供了用于微透镜防伪膜的菲林成型工艺的真空层压曝光装置，实现了光掩模版和菲林前体快速精准地对位，解决了压合过程中光掩模版和菲林前体由于受力过大而造成毁损的问题，简化了设备，降低了生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及防伪膜技术领域，特别涉及微透镜防伪膜的菲林成型工艺及其真空层压曝光装置。
背景技术
随着经济与科技的快速发展，市场竞争愈发激烈，以致假冒伪劣产品滋生蔓延，各类制假造假案件报道层出不穷，为保护企业与消费者切身利益，防伪技术的创新与升级势在必行。任何一类防伪技术随着应用时间的增加，防伪能力都会逐渐减弱，市场对具有持续创新特征的防伪技术需求日益增加。
目前国内外主流的防伪技术主要为水印、镭射、油墨等，然而掌握这几种技术的厂家众多，且已十余年未有重大创新，其防伪制品所具备的信息封锁、独一性、排他性缺失严重，极易被不法分子仿冒。作为一类新颖的超级防伪材料，3D动态立体显示防伪膜片应运而生。
3D动态立体显示防伪膜片将微透镜阵列与微图形阵列结合实现的莫尔放大技术，从具有大致相同周期维度的微透镜阵列观察由相同微图形组成的阵列时，以微图形的放大或者旋转形式出现，使得观测者根据观察视角的变化，对远近不同的物体时自动调整聚焦角度，经大脑融合产生立体视觉，让辨识者在二维图像里看出可流畅滑动和位移三维图像效果的技术，这种不断变化的动态影像可以根据图像的外观和手持膜片前后左右的倾斜方式而很容易的被辨认出来。
Drinkwater等在美国专利US 5712731 B中率先提出了将半球形微凸透镜阵列与微图形阵列结合的安全器件，微图形阵列通过凹版印刷的方式得到，最小分辨率为5微米；美国专利 US 2005/0180020 Al及后续专利US 2008/0037131 Al中，微图形层具有多变的复杂排布，可以是透明、半透明、荧光、磷光、染、光变颜料等；中国专利公开号为CN101346244 B 的安全元件，提出了一种预定弯曲的布拉维点阵结构，通过设计微透镜阵列与微图形阵列及其排列组合，能够实现微图形放大、正交移动、立体感、运动变形等多种视觉效果。
在上述的专利中，微图形主要采用微印刷方式制作，即在基材层上涂覆一层紫外固化胶，用带有微图形的凸版在胶表面压印出深度大于1微米的凹槽，同时固化。然后通过刮涂的方式将纳米油墨填入凹槽中，最后刮除剩余的纳米油墨。这种方法的主要问题在于非图文区有颜色残留，从而使得图文区和非图文区对比度不高，且生产工艺复杂、生产要求高。
因此，有必要设计一种新型的用于防伪膜的微图文制作工艺，以解决上述问题。
发明内容
本发明的第一个目的在于提供微透镜防伪膜的菲林成型工艺，解决了传统微印刷工艺过程中因背景区的颜色不能完全洗去造成图文信息区和背景区颜色对比度不高，图文信息的显示效果不明显的问题，并简化了生产工艺、降低了生产难度，扩大了适用范围。
本发明的第二个目的在于提供用于上述微透镜防伪膜的菲林成型工艺的专用设备-真空层压曝光装置，实现了光掩模版与菲林前体快速精准地定位，且有效地防止了压合过程中光掩模版与菲林前体的移动以及由于压合时受力过大而造成毁损的问题，且本发明的真空层压曝光装置集层压装置与曝光装置为一体，简化了操作过程，并节省了设备成本。
为实现上述目的，本发明的技术方案为：
本发明的第一个方面提供了微透镜防伪膜的菲林成型工艺，包括如下步骤：
S1、带有微图文的光掩模版的制作
根据微缩图文的制作方法，将微图形单元制作成光掩模版(又称光学掩模板、掩膜板)，所述微图形在光掩模版上呈阵列式排布，且微图形的蚀刻深度为2-10um，文字线宽度为3um，微图形所在区域为不透光区，其余部分为透光区；
S2、菲林的制作
取菲林前体，将步骤S1所制得的光掩模版含有微图形的一面覆盖在菲林前体的感光乳化剂层表面，并从光掩模版一侧进行曝光处理，将微图形转印至菲林前体的感光乳化剂层，然后将菲林前体与光掩模版分离，对菲林前体进行显影、定影处理，经清洗、干燥即得带有微图形阵列图文的菲林；
所述曝光处理的具体过程为：采用强度为2kw-30kw的平行的紫外光通过所述光掩模版的透光区照射在菲林前体的感光乳化剂层上，受到紫外光照射的感光乳化剂发生反应，曝光时间2-180s，未受到紫外光照射的区域，即光掩模版微图形所对应区域不发生反应；
曝光结束后，将菲林前体置于烘箱，设置温度100-120℃，烘烤25-40min；
所述显影的方法为：将烘烤后的菲林前体放入显影液中浸泡至菲林正方两面黑色影像的颜色深度一致，停止浸泡，取出菲林前体，并用清水清洗菲林前体的表面；
所述定影的方法为：将显影后的菲林前体放入定影液中浸泡5-30min，用清水充分清洗菲林前体的表面后风干；
S3、微透镜防伪膜的制作
取上述S2步骤所制得的菲林，在其不含微图文的一面设置微透镜层，即得本发明所述的微透镜防伪膜。
进一步地，所述S3、微透镜防伪膜的制作：另取透明的薄膜为基材，在薄膜的其中一个表面制作微透镜层，形成微透镜基膜，再将微透镜基膜不含微透镜层的一面与所述菲林不含微图文的一面，通过软膜工艺粘合在一起，形成本发明所述的微透镜防伪膜。
更进一步地，所述微透镜层的材质为丙烯酸类紫外光固化树脂，其折射率为1.40-1.70， 25℃时的粘度不超过1000cps。所述微透镜层的制作方法参考中国公开号为CN102991860B 的具有立体、动态显示效果的防伪功能包装膜的发明专利，所述微透镜层以一个微图文对应一个微透镜的规律制作而成。
本发明的第二个方面提供了上述微透镜防伪膜的菲林成型工艺的专用设备-真空层压曝光装置，包括装置主体和压盖，所述装置主体包括工作台面、设置于工作台面底部两侧的若干组支撑脚、定位部件、压板和设置于工作台面的底面的若干相互平行的紫外灯，所述紫外灯的开启和关闭由外部开关控制；所述压盖包括压盖主体及其设置于压盖主体内表面的硅胶垫，所述硅胶垫的厚度为1-2cm；所述压盖可相对装置主体翻转270°，且压盖可停留在 0°或270°位置；
在所述压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽，所述第一限位块与安装座内嵌槽交替设置，且所述第一限位块设有插销孔；
所述工作台面为上方敞口的长方体设计，包括设置于工作台面左、右两侧面内壁的长方形滑槽，内置于工作台面前侧面并与水平面相平行的纵向滚珠丝杠滑道，内置于工作台面右侧面的横向滚珠丝杠安装孔，设置在工作台面后侧面顶部的若干压盖安装座，以及内置于工作台面两侧面并贯通至长方形滑槽的抽真空孔，所述抽真空孔与所述吸附孔呈相通设置，且所述抽真空孔与外部抽真空机相连；
所述定位部件，水平设置在工作台面的内部，呈“H”型设计，包括滑轨、平行于滑轨设置的横向滚珠丝杠、套接在横向滚珠丝杠两端的第二限位块、架设在滑轨和横向滚珠丝杠上方的纵向滚珠丝杠滑槽、设置在纵向滚珠丝杠滑槽内部的纵向滚珠丝杠、固定设置在滑轨左端上表面的第一定位组件和套接在纵向滚珠丝杠上的第二定位组件；
所述压板为无色透明的钢化玻璃材质，呈长方形设计，且所述压板的长度和宽度均与工作台面的内长和内宽相一致，所述压板设置在所述长方形滑槽的上端，压板位于长方形滑槽所在的区域设有若干吸附孔。
进一步地，所述长方形滑槽呈水平设置，且长方形滑槽的一端与工作台面的前侧面内壁固定在一起，另一端与工作台面的后侧面的内壁固定在一起，且所述长方形滑槽的顶端距工作台面顶端0.5-1cm。
进一步地，所述滑轨沿所述工作台面前侧面的内壁水平设置，且所述滑轨靠近纵向滚珠丝杠滑道的下边缘处，所述滑轨的一端延伸至工作台面左侧的长方形槽的侧壁并与其固定在一起，滑轨的另一端延伸至工作台面右侧的长方形槽的侧壁并与其固定在一起，在所述滑轨的两侧设有侧槽，在滑轨的左端设有若干第一定位销孔；
所述第二限位块，紧靠长方形槽的侧壁以及工作台面后侧面的内壁设置并与其固定在一起，所述第二限位块设有第一通孔，所述第一通孔的孔径与横向滚珠丝杠的外直径相一致。
进一步地，所述横向滚珠丝杠的一端设有横向滚珠丝杠手轮，所述横向滚珠丝杠的另一端穿过横向滚珠丝杠安装孔和第二限位块的第一通孔，从而使得横向滚珠丝杠架设在第二限位块和工作台面上，且所述横向滚珠丝杠可相对第二限位块和工作台面自由转动；
所述纵向滚珠丝杠滑槽包括纵向滚珠丝杠滑槽主体，设置在纵向滚珠丝杠滑槽主体一端下表面的第一滑块，以及设置在纵向滚珠丝杠滑槽主体另一端的第二滑块；所述第一滑块门框状设计，所述第一滑块的内宽与所述滑轨的宽度相一致，在第一滑块的两端设有向内的第三限位块，所述第三限位块的宽度与所述侧槽的深度相一致，所述第一滑块套接在滑轨上，并可沿滑轨左右移动；所述第二滑块设有第二通孔，所述第二通孔的孔径与横向滚珠丝杠的外直径相一致，所述第二通孔套接在横向滚珠丝杠上，位于第二限位块的中间；
所述纵向滚珠丝杠的一端设有纵向滚珠丝杠手轮，另一端穿过长方形滑槽，并使纵向滚珠丝杠嵌入所述纵向滚珠丝杠滑槽内，所述纵向滚珠丝杠可相对纵向滚珠丝杠滑槽自由转动。
进一步地，所述第一定位组件，整体呈“L”型设计，包括第一磁力片、第一磁力座和第一定位底座；在所述第一定位底座上设有若干第二定位销孔，所述第二定位销孔与所述第一定位销孔相对应，所述第一定位底座通过固定销与所述第一定位销孔、第二固定销孔固定在所述滑轨上；所述第一磁力座包括第一磁力基座，在所述第一磁力基座上，间隔相同距离设有若干第一强磁铁，且相邻第一强磁铁的磁极交替设置；所述第一磁力片，与所述第一磁力座为相对应设计，所述第一磁力片设置在所述第一磁力座的正上方，包括第一磁力片基座，在所述第一磁力片基座上，与所述第一磁力座的第一强磁铁相对应的位置，设有若干第一强磁铁片，所述第一强磁铁片的磁极和与之相对应的第一强磁铁的磁极相一致，所述第一强磁铁片的厚度为2-5mm。
所述第二定位组件，整体呈“7”型设计，包括第二磁力片、第二磁力座和第二定位底座；在所述第二定位底座上设有第三通孔，所述第三通孔的孔径与所述纵向滚珠丝杠的外直径相一致；所述第二磁力座包括第二磁力基座，在所述第二磁力基座上，间隔相同距离设有若干第二强磁铁，且相邻第二强磁铁的磁极交替设置；所述第二磁力片，与所述第二磁力座为相对应设计，所述第二磁力片设置在所述第二磁力座的正上方，包括第二磁力片基座，在所述第二磁力片基座上，与所述第二磁力座的第二强磁铁相对应的位置，设有若干第二强磁铁片，所述第二强磁铁片的磁极和与之相对应的第二强磁铁的磁极相一致，所述第二强磁铁片的厚度与所述第一强磁铁片的厚度相同。
进一步地，所述第一强磁铁、第一强磁铁片、第二强磁铁、第二强磁铁片均为汝铁硼材质，且所述第一强磁铁与所述第二强磁铁的厚度相同，均为1-3cm；
在所述第一磁力片基座和第二磁力片基座的里侧，沿其边缘分别设有第一斜面和第二斜面，所述第一斜面和第二斜面的边缘厚度为0.5mm；
在所述第一斜面和第二斜面的拐角处分别设有第一预留角和第二预留角，所述有第一预留角和第二预留角均为半圆角。
本发明跟现有技术相比，其优势在于：
1、本发明的3D微透镜防伪膜的菲林成型工艺，回避了传统微印刷方式制作防伪图文的繁琐操作过程，从根本上解决了传统微印刷工艺过程中因背景区的颜色不能完全洗去造成图文信息区和背景区颜色对比度不高，图文信息的显示效果不明显的问题，而且本发明的3 D微透镜防伪膜的菲林成型工艺对图文的线条宽度和凹陷深度要求较低，可广泛适用于各种 3D防伪膜的微图文的制作；
2、本发明的真空层压曝光装置，实现了光掩模版和菲林前体快速精准地对位，并有效地防止了压合过程中菲林前体和光掩模版的移动，解决了压合过程中菲林前体和光掩模版由于受力过大而造成毁损的问题，并简化了设备，降低了生产成本，且适应多种规格的产品，可广泛推广使用。
附图说明
图1为本发明的微透镜防伪膜结构示意图；
图2为本发明的菲林结构示意图；
图3为本发明的微透镜基膜结构示意图；
图4为本发明的真空层压曝光装置整体结构示意图；
图5为本发明的真空层压曝光装置主体的结构示意图；
图6为本发明的真空层压曝光装置主体的爆炸图；
图7为本发明的真空层压曝光装置的工作台面的结构示意图；
图8为本发明的真空层压曝光装置的定位部件的结构示意图；
图9为本发明的真空层压曝光装置的第一定位组件的结构示意图；
图10为本发明的真空层压曝光装置的第二定位组件的结构示意图；
附图标记：菲林1、微图文2、微透镜3、工作台面4、支撑脚5、定位部件6、压板 7、硅胶垫8、紫外灯9、长方形滑槽41、纵向滚珠丝杠滑道42、横向滚珠丝杠安装孔43、压盖安装座44、抽真空孔45、滑轨61、横向滚珠丝杠62、第二限位块63、纵向滚珠丝杠滑槽64、纵向滚珠丝杠65、第一定位组件66、第二定位组件67、吸附孔71、横向滚珠丝杠手轮621、纵向滚珠丝杠手轮651、第一磁力片661、第一磁力座662、第一定位底座 663、第二磁力片671、第二磁力座672、第二定位底座673、第一磁力片基座6611、第一强磁铁片6612、第一斜面6613、第一预留角6614、第一强磁铁6621、第二磁力片基座 6711、第二强磁铁片6712、第二斜面6713、第二预留角6714、第二强磁铁6721。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例，对本发明做进一步说明。
现有的防伪图文是通过微印刷的方式在基材表面形成凹陷的图文信息区和背景区，然后进行平面涂布，将颜色均匀覆盖于整个平面，经溶剂多次清洗以洗去背景区颜色而保留图文信息区颜色，从而使得图文信息区和背景区颜色对比度大，图文信息显示效果突出。然而实际操作中，背景区的颜色并不能完全洗去，因而造成图文信息区和背景区颜色对比度不高，图文信息的显示效果不明显。
为了从根本上解决上述问题，本发明公开了一种3D微透镜防伪膜的菲林成型工艺，具体步骤如下：
S1、带有微图文的光掩模版的制作
本发明实施例中的微图文以微缩文字QK为例。
参考中国专利号为CN 102229292 B的微缩图文的印刷方法，将微缩文字QK为图形单元制作成光掩模版，所述微缩文字QK在光掩模版上呈阵列式排布，且微缩文字QK的蚀刻深度为2-10um，文字线宽度为3um，微缩文字QK所在区域为不透光区，其余部分为透光区。
S2、菲林的制作
取菲林前体，将步骤S1所制得的光掩模版含有微缩文字QK的一面覆盖在菲林前体的感光乳化剂层表面，并从光掩模版一侧进行曝光处理，将微缩文字QK转印至菲林前体的感光乳化剂层，然后将菲林前体与光掩模版分离，对菲林前体进行显影、定影处理，经清洗、干燥即得带有微缩文字QK阵列图文的菲林，如图2所示。
由于制作直显式产品需要的菲林厚度为20-30um，封装式产品需要的菲林厚度则为100 -120um，因此，在制作菲林时，其具体的厚度应根据最终产品而定，而本发明的重点在于防伪基材表面的微图文的形成，且菲林的制作为常规工艺，菲林前体可根据需要向菲林生产厂家定制，因此，此处不再对菲林及其各层的结构和厚度进行深入说明。
进一步地，所述曝光处理的具体过程为：采用紫外光(强度为2kw-30kw的平行光)通过所述光掩模版的透光区照射在菲林前体的感光乳化剂层上，受到紫外光照射的感光乳化剂发生反应，曝光2-180s，未受到紫外光照射的区域(即光掩模版微缩文字QK所对应区域) 不发生反应。
更进一步地，为了消除未受到紫外光照射的区域的驻波效应，曝光结束后，将菲林前体置于烘箱，设置温度100-120℃，烘烤25-40min；
进一步地，所述显影的方法为：将曝光处理后的菲林前体放入显影液中浸泡至菲林正方两面黑色影像的颜色深度一致，就应停止浸泡，取出菲林前体，并用清水清洗菲林前体的表面。所述显影液购自深圳市金宏翔印刷材料有限公司，型号为QR-D1。
进一步地，所述定影的方法为：将显影后的菲林前体放入定影液中浸泡5-30min，用清水充分清洗菲林前体的表面后风干。所述定影液深圳市金宏翔印刷材料有限公司，型号为U R-F1。
S3、微透镜防伪膜的制作
本发明相较于现有技术最大的区别在于：本发明直接以上述S2步骤所制得的菲林为基材制作微透镜防伪膜，而不是像现有技术那样采用微印刷工艺将菲林上的微图文再转印到防伪膜的基材层的表面，然后对微图文进行蚀刻、上色处理。本发明的设计是基于菲林也是以透明的PC/PP/PET/PVC薄膜为材质，与制造微透镜防伪膜的基材相一致，且由于菲林自身的颜色，在制作成防伪膜后，观测者可以很清楚地分辨出微图文。
具体地，取上述S2步骤所制得的菲林，在其相对微缩文字QK的另一面设置微透镜层，即得本发明所述的微透镜防伪膜，如图1所示。
本发明的微透镜防伪膜的另一个制作方式为：另取透明的薄膜(PC/PP/PET/PVC薄膜) 为基材，在薄膜的其中一个表面制作微透镜层，形成微透镜基膜，再将微透镜基膜不含微透镜层的一面与所述菲林不含微缩文字QK的一面，通过软膜工艺粘合在一起，形成本发明所述的微透镜防伪膜。
所述微透镜层的制作方法参考中国公开号为CN 102991860 B的具有立体、动态显示效果的防伪功能包装膜的发明专利，所述微透镜层以一个微缩文字QK对应一个微透镜的规律制作而成。
所述软膜工艺详见《评先时代》2013年12月期刊中《软膜(Soft-mode)与硬模(hard- mode)涂布技术之比较》一文
进一步地，本发明的微透镜层的材质为丙烯酸类紫外光固化树脂，其折射率为1.40-1.7 0，25℃时的粘度不超过1000cps，比如南京搏克思新材料科技有限公司生产的型号为BH12 0的UV树脂或上海飞凯光电材料股份有限公司生产的型号为KY90HC3-51的UV树脂。
本发明的微透镜防伪膜的菲林成型工艺，回避了传统微印刷方式制作防伪图文的繁琐操作过程，从根本上解决了传统微印刷工艺过程中因背景区的颜色不能完全洗去造成图文信息区和背景区颜色对比度不高，图文信息的显示效果不明显的问题，而且本发明的3D微透镜防伪膜的菲林成型工艺步骤简单，对图文的线条宽度和凹陷深度要求较低，可广泛适用于各种3D防伪膜的微图文的制作。
进一步地，为了方便光掩模版与菲林前体对准并紧紧贴合在一起进行曝光光处理，本发明还提供了真空层压曝光装置，如图4-10所示，包括装置主体和压盖，所述装置主体包括工作台面4、设置于工作台面4底部两侧的若干组支撑脚5、定位部件6、压板7和设置于工作台面4的底面的若干相互平行的紫外灯9，所述紫外灯9的开启和关闭由外部开关控制 (开关为常规部件，图中未表示出来)；所述压盖包括压盖主体及其设置于压盖主体内表面的硅胶垫8，所述硅胶垫8的厚度为1-2cm；在所述压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽，所述第一限位块与安装座内嵌槽交替设置，且所述第一限位块设有插销孔。
所述工作台面4为上方敞口的长方体设计，包括设置于工作台面4左、右两侧面内壁的长方形滑槽41，内置于工作台面4前侧面并与水平面相平行的纵向滚珠丝杠滑道42，内置于工作台面4右侧面的横向滚珠丝杠安装孔43，设置在工作台面4后侧面顶部的若干压盖安装座44，以及内置于工作台面4两侧面并贯通至长方形滑槽41的抽真空孔45。
进一步地，所述长方形滑槽41呈水平设置，且长方形滑槽41的一端与工作台面4的前侧面内壁固定在一起，另一端与工作台面4的后侧面的内壁固定在一起，且所述长方形滑槽 41的顶端距工作台面4顶端0.5-1cm。
进一步地，所述压板7为无色透明的钢化玻璃材质，呈长方形设计，且所述压板7的长度和宽度均与工作台面4的内长和内宽相一致，所述压板7设置在所述长方形滑槽41的上端，压板7位于长方形滑槽41所在的区域设有若干吸附孔71。
进一步地，所述抽真空孔45与所述吸附孔71呈相通设置，且所述抽真空孔45与外部抽真空机(抽真空机为常规设备，未在图中表示出来)相连。
进一步地，所述压盖安装座44，与所述安装座内嵌槽相匹配，固定设置在工作台面4 的后侧面上端，所述压盖安装座44还设有压盖安装孔，所述压盖安装孔与插销孔相对应。
所述装置主体与压盖安装时，将压盖安装座44一一嵌入安装座内嵌槽内，并用长销逐一穿过插销孔和压盖安装孔以便固定，安装好后，所述压盖可相对装置主体翻转270°，且压盖可停留在0°或270°位置。
所述定位部件6，水平设置在工作台面4的内部，呈“H”型设计，包括滑轨61、平行于滑轨61设置的横向滚珠丝杠62、套接在横向滚珠丝杠62两端的第二限位块63、架设在滑轨61和横向滚珠丝杠62上方的纵向滚珠丝杠滑槽64、设置在纵向滚珠丝杠滑槽64内部的纵向滚珠丝杠65、固定设置在滑轨61左端上表面的第一定位组件66和套接在纵向滚珠丝杠65上的第二定位组件67。
所述滑轨61沿所述工作台面4前侧面的内壁水平设置，且所述滑轨61靠近纵向滚珠丝杠滑道42的下边缘处，所述滑轨61的一端延伸至工作台面4左侧的长方形槽11的侧壁并与其固定在一起，滑轨61的另一端延伸至工作台面4右侧的长方形槽11的侧壁并与其固定在一起，在所述滑轨61的两侧设有侧槽，在滑轨61的左端设有若干第一定位销孔。
所述第二限位块63，紧靠长方形槽11的侧壁以及工作台面4后侧面的内壁设置并与其固定在一起，所述第二限位块63设有第一通孔，所述第一通孔的孔径与横向滚珠丝杠62的外直径相一致。
所述横向滚珠丝杠62的一端设有横向滚珠丝杠手轮621，所述横向滚珠丝杠62的另一端穿过横向滚珠丝杠安装孔43和第二限位块63的第一通孔，从而使得横向滚珠丝杠62架设在第二限位块63和工作台面4上，且所述横向滚珠丝杠62可相对第二限位块63和工作台面4自由转动。
所述纵向滚珠丝杠滑槽64包括纵向滚珠丝杠滑槽主体，设置在纵向滚珠丝杠滑槽主体一端下表面的第一滑块，以及设置在纵向滚珠丝杠滑槽主体另一端的第二滑块；所述第一滑块门框状设计，所述第一滑块的内宽与所述滑轨61的宽度相一致，所述第一滑块套接在滑轨61上，并可沿滑轨61左右移动；所述第二滑块设有第二通孔，所述第二通孔的孔径与横向滚珠丝杠62的外直径相一致，所述第二通孔套接在横向滚珠丝杠62上，位于第二限位块 63的中间。
进一步地，为了保证第一滑块与第二滑块在横向滚珠丝杠62的转动下同步滑动，在第一滑块的两端均设有向内的第三限位块，所述第三限位块的宽度与所述侧槽的深度相一致。
所述纵向滚珠丝杠65的一端设有纵向滚珠丝杠手轮651，另一端穿过长方形滑槽41，并使纵向滚珠丝杠65嵌入所述纵向滚珠丝杠滑槽64内，所述纵向滚珠丝杠65可相对纵向滚珠丝杠滑槽64自由转动。
所述第一定位组件66，整体呈“L”型设计，包括第一磁力片661、第一磁力座662和第一定位底座663；在所述第一定位底座663上设有若干第二定位销孔，所述第二定位销孔与所述第一定位销孔相对应，所述第一定位底座663通过固定销与所述第一定位销孔、第二固定销孔固定在所述滑轨61上；所述第一磁力座662包括第一磁力基座，在所述第一磁力基座上，间隔相同距离设有若干第一强磁铁6621，以便对光掩模版和菲林前体进行定位，且相邻第一强磁铁6621的磁极交替设置，以防装置被同向磁极磁化；所述第一磁力片66 1，与所述第一磁力座662为相对应设计，所述第一磁力片661设置在所述第一磁力座662 的正上方，包括第一磁力片基座6611，在所述第一磁力片基座6611上，与所述第一磁力座 662的第一强磁铁6621相对应的位置，设有若干第一强磁铁片6612，所述第一强磁铁片661 2的磁极和与之相对应的第一强磁铁6621的磁极相一致，所述第一强磁铁片6612的厚度为 2-5mm。
所述第二定位组件67，整体呈“7”型设计，包括第二磁力片671、第二磁力座672和第二定位底座673；在所述第二定位底座673上设有第三通孔，所述第三通孔的孔径与所述纵向滚珠丝杠65的外直径相一致；
所述第二磁力座672包括第二磁力基座，在所述第二磁力基座上，间隔相同距离设有若干第二强磁铁6721，且相邻第二强磁铁6721的磁极交替设置；所述第二磁力片671，与所述第二磁力座672为相对应设计，所述第二磁力片671设置在所述第二磁力座672的正上方，包括第二磁力片基座6711，在所述第二磁力片基座6711上，与所述第二磁力座672的第二强磁铁6721相对应的位置，设有若干第二强磁铁片6712，所述第二强磁铁片6712的磁极和与之相对应的第二强磁铁6721的磁极相一致，所述第二强磁铁片6712的厚度与所述第一强磁铁片6612的厚度相同。
进一步地，为了增强磁性，防止光掩模版进行转印时出现移动，所述第一强磁铁662 1、第一强磁铁片6612、第二强磁铁6721、第二强磁铁片6712均为汝铁硼材质，且所述第一强磁铁6621与所述第二强磁铁6721的厚度相同，均为1-3cm。
进一步地，在所述第一磁力片基座6611和第二磁力片基座6711的里侧，沿其边缘分别设有第一斜面6613和第二斜面6713，所述第一斜面6613和第二斜面6713的边缘厚度为0.5 mm。这样的设计，使得压盖压至第一磁力片基座6611和第二磁力片基座6711所在平面时，压盖和光掩模版之间留有一段距离，然后再慢慢下压至光掩模版的上表面，减缓了压盖下压的速度，防止了光掩模版突然受力而破损。
更进一步地，在所述第一斜面6613和第二斜面6713的拐角处分别设有第一预留角6614 和第二预留角6714，所述有第一预留角6614和第二预留角6714均为半圆角，以便进一步观测和调整光掩模版的位置，以保证光掩模版和菲林前体呈对准状态。
本发明的工作原理为：在使用本发明的真空层压曝光装置对压光掩模版和菲林前体时，先将光掩模版放置在压板7上，将菲林前体具有感光乳化剂层的一面复合在光掩模版的上表面，具体地，将光掩模版的左下角对准第一定位组件66放置，根据光掩模版所对应的第一强磁铁6621的位置来放置菲林前体，将菲林前体的左下角放置好后，将第一磁力片661对准第一磁力座662放置在菲林前体上，并通过第一预留角6614进一步观测和调整，以确保菲林前体与光掩模版完全对准，由于第一磁力片661对准第一磁力座662的磁极设置，使得第一磁力片661很方便就对准位置，其第一磁力座662的强磁性设置，也更好地固定住菲林前体和光掩模版；然后，通过转动横向滚珠丝杠62和纵向滚珠丝杠65调整第二磁力座672的位置，使其对住菲林前体的右上角，再将第二磁力片671对准第二磁力座672 放置，同样，由于第二磁力片671和第二磁力座672的磁极设置，使得第二磁力片671很方便就对准位置，而其第二磁力座672的强磁性设置，也更好地固定住菲林前体和光掩模版；固定完毕后将压盖与工作台面4合起来，并打开抽真空机进行抽真空，由于第一定位组件6 6和第二定位组件67的第一斜面6613及第二斜面6713的设计，使得压盖压至第一磁力片基座6611和第二磁力片基座6711所在平面时，由于压盖和菲林前体之间留有一段距离，减缓了压盖下压的速度，防止了菲林前体和光掩模版突然受力而破损；而且，由于压盖下表面硅胶垫8的质地较为柔软，下压时，硅胶垫8与菲林前体的上表面可以完全贴合，从而提高了光掩模版和菲林前体的压合效果；压合结束后，开启紫外灯9进行曝光，曝光结束将其取出，进行脱模便可。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
Claims (10)
1.微透镜防伪膜的菲林成型工艺，其特征在于，包括如下步骤：
S1、带有微图文的光掩模版的制作
根据微缩图文的制作方法，将微图形单元制作成光掩模版，所述微图形在光掩模版上呈阵列式排布，且微图形的蚀刻深度为2-10um，文字线宽度为3um，微图形所在区域为不透光区，其余部分为透光区；
S2、菲林的制作
取菲林前体，将步骤S1所制得的光掩模版含有图文的一面覆盖在菲林前体的感光乳化剂层表面，并从光掩模版一侧进行曝光处理，将微图形转印至菲林前体的感光乳化剂层，然后将菲林前体与光掩模版分离，对菲林前体进行显影、定影处理，经清洗、干燥即得带有微图形阵列图文的菲林；
所述曝光处理的具体过程为：采用强度为2kw-30kw的平行的紫外光通过所述光掩模版的透光区照射在菲林前体的感光乳化剂层上，受到紫外光照射的感光乳化剂发生反应，曝光时间2-180s，未受到紫外光照射的区域，即光掩模版微图形所对应区域不发生反应；
曝光结束后，将菲林前体置于烘箱，设置温度100-120℃，烘烤25-40min；
所述显影的方法为：将烘烤后的菲林前体放入显影液中浸泡至菲林正方两面黑色影像的颜色深度一致，停止浸泡，取出菲林前体，并用清水清洗菲林前体的表面；
所述定影的方法为：将显影后的菲林前体放入定影液中浸泡5-30min，用清水充分清洗菲林前体的表面后风干；
S3、微透镜防伪膜的制作
取上述S2步骤所制得的菲林，在其不含微图文的一面设置微透镜层，即得本发明所述的微透镜防伪膜。
2.根据权利要求1所述的微透镜防伪膜的菲林成型工艺，其特征在于，所述S3、微透镜防伪膜的制作：另取透明的薄膜为基材，在薄膜的其中一个表面制作微透镜层，形成微透镜基膜，再将微透镜基膜不含微透镜层的一面与所述菲林不含微图文的一面，通过软膜工艺粘合在一起，形成本发明所述的微透镜防伪膜。
3.根据权利要求1或2所述的微透镜防伪膜的菲林成型工艺，其特征在于，所述微透镜层的材质为丙烯酸类紫外光固化树脂，其折射率为1.40-1.70，25℃时的粘度不超过1000cps；所述微透镜层以一个微图文对应一个微透镜的规律制作而成。
4.用于上述微透镜防伪膜的菲林成型工艺的真空层压曝光装置，其特征在于，包括装置主体和压盖，所述装置主体包括工作台面、设置于工作台面底部两侧的若干组支撑脚、定位部件、压板和设置于工作台面的底面的若干相互平行的紫外灯，所述紫外灯的开启和关闭由外部开关控制；所述压盖包括压盖主体及其设置于压盖主体内表面的硅胶垫，所述硅胶垫的厚度为1-2cm；所述压盖可相对装置主体翻转270°，且压盖可停留在0°或270°位置；
在所述压盖主体的下沿边缘设有若干第一限位块和若干安装座内嵌槽，所述第一限位块与安装座内嵌槽交替设置，且所述第一限位块设有插销孔；
所述工作台面为上方敞口的长方体设计，包括设置于工作台面左、右两侧面内壁的长方形滑槽，内置于工作台面前侧面并与水平面相平行的纵向滚珠丝杠滑道，内置于工作台面右侧面的横向滚珠丝杠安装孔，设置在工作台面后侧面顶部的若干压盖安装座，以及内置于工作台面两侧面并贯通至长方形滑槽的抽真空孔，所述抽真空孔与所述吸附孔呈相通设置，且所述抽真空孔与外部抽真空机相连；
所述定位部件，水平设置在工作台面的内部，呈“H”型设计，包括滑轨、平行于滑轨设置的横向滚珠丝杠、套接在横向滚珠丝杠两端的第二限位块、架设在滑轨和横向滚珠丝杠上方的纵向滚珠丝杠滑槽、设置在纵向滚珠丝杠滑槽内部的纵向滚珠丝杠、固定设置在滑轨左端上表面的第一定位组件和套接在纵向滚珠丝杠上的第二定位组件；
所述压板为无色透明的钢化玻璃材质，呈长方形设计，且所述压板的长度和宽度均与工作台面的内长和内宽相一致，所述压板设置在所述长方形滑槽的上端，压板位于长方形滑槽所在的区域设有若干吸附孔。
5.根据权利要求4所述的真空层压曝光装置，其特征在于，所述长方形滑槽呈水平设置，且长方形滑槽的一端与工作台面的前侧面内壁固定在一起，另一端与工作台面的后侧面的内壁固定在一起，且所述长方形滑槽的顶端距工作台面顶端0.5-1cm。
6.根据权利要求4所述的真空层压曝光装置，其特征在于，所述滑轨沿所述工作台面前侧面的内壁水平设置，且所述滑轨靠近纵向滚珠丝杠滑道的下边缘处，所述滑轨的一端延伸至工作台面左侧的长方形槽的侧壁并与其固定在一起，滑轨的另一端延伸至工作台面右侧的长方形槽的侧壁并与其固定在一起，在所述滑轨的两侧设有侧槽，在滑轨的左端设有若干第一定位销孔；
所述第二限位块，紧靠长方形槽的侧壁以及工作台面后侧面的内壁设置并与其固定在一起，所述第二限位块设有第一通孔，所述第一通孔的孔径与横向滚珠丝杠的外直径相一致。
7.根据权利要求4所述的真空层压曝光装置，其特征在于，所述横向滚珠丝杠的一端设有横向滚珠丝杠手轮，所述横向滚珠丝杠的另一端穿过横向滚珠丝杠安装孔和第二限位块的第一通孔，从而使得横向滚珠丝杠架设在第二限位块和工作台面上，且所述横向滚珠丝杠可相对第二限位块和工作台面自由转动。
8.根据权利要求4所述的真空层压曝光装置，其特征在于，所述纵向滚珠丝杠滑槽包括纵向滚珠丝杠滑槽主体，设置在纵向滚珠丝杠滑槽主体一端下表面的第一滑块，以及设置在纵向滚珠丝杠滑槽主体另一端的第二滑块；所述第一滑块门框状设计，所述第一滑块的内宽与所述滑轨的宽度相一致，在第一滑块的两端设有向内的第三限位块，所述第三限位块的宽度与所述侧槽的深度相一致，所述第一滑块套接在滑轨上，并可沿滑轨左右移动；所述第二滑块设有第二通孔，所述第二通孔的孔径与横向滚珠丝杠的外直径相一致，所述第二通孔套接在横向滚珠丝杠上，位于第二限位块的中间；
所述纵向滚珠丝杠的一端设有纵向滚珠丝杠手轮，另一端穿过长方形滑槽，并使纵向滚珠丝杠嵌入所述纵向滚珠丝杠滑槽内，所述纵向滚珠丝杠可相对纵向滚珠丝杠滑槽自由转动。
9.根据权利要求4所述的真空层压曝光装置，其特征在于，所述第一定位组件，整体呈“L”型设计，包括第一磁力片、第一磁力座和第一定位底座；在所述第一定位底座上设有若干第二定位销孔，所述第二定位销孔与所述第一定位销孔相对应，所述第一定位底座通过固定销与所述第一定位销孔、第二固定销孔固定在所述滑轨上；所述第一磁力座包括第一磁力基座，在所述第一磁力基座上，间隔相同距离设有若干第一强磁铁，且相邻第一强磁铁的磁极交替设置；所述第一磁力片，与所述第一磁力座为相对应设计，所述第一磁力片设置在所述第一磁力座的正上方，包括第一磁力片基座，在所述第一磁力片基座上，与所述第一磁力座的第一强磁铁相对应的位置，设有若干第一强磁铁片，所述第一强磁铁片的磁极和与之相对应的第一强磁铁的磁极相一致，所述第一强磁铁片的厚度为2-5mm。
所述第二定位组件，整体呈“7”型设计，包括第二磁力片、第二磁力座和第二定位底座；在所述第二定位底座上设有第三通孔，所述第三通孔的孔径与所述纵向滚珠丝杠的外直径相一致；所述第二磁力座包括第二磁力基座，在所述第二磁力基座上，间隔相同距离设有若干第二强磁铁，且相邻第二强磁铁的磁极交替设置；所述第二磁力片，与所述第二磁力座为相对应设计，所述第二磁力片设置在所述第二磁力座的正上方，包括第二磁力片基座，在所述第二磁力片基座上，与所述第二磁力座的第二强磁铁相对应的位置，设有若干第二强磁铁片，所述第二强磁铁片的磁极和与之相对应的第二强磁铁的磁极相一致，所述第二强磁铁片的厚度与所述第一强磁铁片的厚度相同。
10.根据权利要求9所述的真空层压曝光装置，其特征在于，所述第一强磁铁、第一强磁铁片、第二强磁铁、第二强磁铁片均为汝铁硼材质，且所述第一强磁铁与所述第二强磁铁的厚度相同，均为1-3cm；
在所述第一磁力片基座和第二磁力片基座的里侧，沿其边缘分别设有第一斜面和第二斜面，所述第一斜面和第二斜面的边缘厚度为0.5mm；
在所述第一斜面和第二斜面的拐角处分别设有第一预留角和第二预留角，所述有第一预留角和第二预留角均为半圆角。
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