CN110382432A - 带有具有低可见光透射率的低e涂层的涂覆制品 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种包括低辐射率(低E)涂层的涂覆制品。在某些示例性实施方案中，所述低E涂层被设置在基板(例如，玻璃基板)上，并且包括由接触层(例如，NiCr基层)间隔开的至少第一红外(IR)反射层和第二红外反射层(例如，银基层)，以及诸如氮化硅之类的材料的介电层或包含所述材料的介电层。所述介电层被氧化锆的层或包含氧化锆的层分开以便改善耐久性。在某些示例性实施方案中，所述涂覆制品具有低可见光透射率(例如，不大于60％，更优选地不大于约55％，并且最优选地不大于约50％)。

Description

带有具有低可见光透射率的低E涂层的涂覆制品
本发明涉及一种包括低辐射率(低E)涂层的涂覆制品。在某些示例性实施方案中，低E涂层被设置在基板(例如，玻璃基板)上，并且包括由接触层(例如，NiCr基层)间隔开的至少第一红外(IR)反射层和第二红外反射层(例如，银基层)，以及诸如氮化硅之类的材料的介电层或包含该材料的介电层，和氧化锆(例如，ZrO2)的层或包含氧化锆的层。在某些示例性实施方案中，涂覆制品(单片形式和/或IG窗单元形式)具有低可见光透射率(例如，不大于60％，更优选地不大于约55％，并且最优选地不大于约50％)。在某些示例性实施方案中，涂覆制品可被热处理(例如，热回火和/或热弯曲)，并且设计成在热处理(HT)时基本上是热稳定的，因为由HT引起的其ΔE*值(玻璃侧反射)不大于5.0，并且更优选地不大于4.5。根据本发明的某些示例性实施方案的涂覆制品可在中空玻璃(IG)窗单元、车窗、其他类型的窗的上下文中，或者在任何其他合适的应用中使用。
背景技术
涂覆制品在本领域中已知用于窗应用，诸如中空玻璃(IG)窗单元、车窗等。已知在某些情况下，为了回火、弯曲等目的，期望对此类涂覆制品进行热处理(例如，热回火、热弯曲和/或热强化)。涂覆制品的热处理(HT)通常需要使用至少580摄氏度，更优选至少约600摄氏度，并且还更优选至少620摄氏度的温度。此类高温度(例如，持续5至10分钟或更长)经常导致涂层以不可预测的方式破坏和/或变质或变化。因此，如果需要，期望涂层能够以不会显著损坏涂层的可预测方式承受此类热处理(例如，热回火)。
在某些情况下，涂覆制品的设计者力求期望的可见光透射率、期望的颜色、低辐射率(或发射率)和低薄层电阻(Rs)的组合。低辐射率(低E)和低薄层电阻特性允许此类涂覆制品阻挡显著量的IR辐射以便减少例如车辆或建筑物内部的不期望加热。
通过引用并入本文的美国专利No.7,521,096公开了低E涂层，其在银基IR反射层下方使用氧化锌(ZnO)接触层，并且在底部银(Ag)基IR反射层上方使用NiCrOx接触层，接着是中心氧化锡(SnO2)介电层。虽然银IR反射层下面的ZnO接触层为银的生长提供了良好的结构性能，但已经发现了ZnO在某些情况下使涂层的化学、环境和机械耐久性劣化。此外，已经发现了厚的SnO2介电层在HT时表现出微结晶和应力，这导致SnO2、ZnO和Ag之间的粗糙界面，从而能够导致耐久性的劣化并影响透射颜色。
美国专利No.5,557,462公开了具有SiN/NiCr/Ag/NiCr/SiN/NiCr/Ag/NiCr/SiN的层堆叠的低E涂层。然而，′462专利的涂覆制品被设计用于至少63％的高可见光透射率。′462专利在第3栏第12至15行处教导了低于70％(单片涂覆制品)和低于63％(IG窗单元)的可见光透射率是不期望的。因此，′462专利直接教导远离可见光透射率低于63％的涂覆制品。此外，如在美国专利No.8，173，263中大量解释的那样，′462专利的涂覆制品是不可热处理的，因为在热处理时，薄层电阻(Rs)上升，诸如从约3至5到远超过10，浊度倾向于出现，并且玻璃侧反射ΔE*值是不期望的，因为它超过5.0。
美国专利文献2016/0185660公开了具有SiN/NiCr/Ag/NiCr/SiN/NiCr/Ag/NiCr/SiN/ZrO的层堆叠的低E涂层。然而，此处已经发现能够改善该层堆叠的耐久性。
因此，期望提供涂覆制品，该涂覆制品由以下各项中的一项或多项表征：(i)低可见光透射率、(ii)良好的耐久性、以及(iii)在HT时的热稳定性，以便实现不大于约5.0、更优选地不大于约4.5的玻璃侧反射ΔE*值。
在ASTM 2244-93中以及在Hunter等人的The Measurement of Appearance，2ndEd.Cptr.9，page 162 et seq.[John Wiley&Sons，1987](外观的测量，第2版，第9章，第162页及以下，约翰威利出版社，1987年)中报道的，术语ΔE*(和ΔE)连同用于确定其的各种技术在本领域中是众所周知的并且被报道。如本领域所用，ΔE*(和ΔE)是充分表达在热处理之后或由于热处理而引起的制品中反射率和/或透射率(以及因此颜色外观)的改变(或其缺乏)的方式。ΔE可以通过“ab”技术或通过Hunter技术(通过使用下标“H”表示)来计算。ΔE对应于Hunter Lab L、a、b标度(或Lh、ah、bh)。类似地，ΔE*对应于CIE LAB标度L*、a*、b*。两者都被认为是有用的，并且对于本发明的目的是等同的。例如，如上文引用的Hunter等人报道的那样，可以使用被称为L*、a*、b*标度的直角坐标/标度技术(CIE LAB1976)，其中：L*是(CIE 1976)亮度单位；a*是(CIE 1976)红绿单位；b*是(CIE 1976)黄蓝单位；并且L*0a*0b*0与L*1a*1b*1之间的距离ΔE*为：ΔE*＝[(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2]1/2，其中：ΔL*＝L*1-L*0；Δa*＝a*1-a*0；Δb*＝b*1-b*0；其中下标“o”表示热处理前的涂层(涂覆制品)，并且下标“1”表示热处理后的涂层(涂覆制品)；并且所采用的数字(例如，a*、b*、L*)是通过上述(CIE LAB 1976)L*、a*、b*坐标技术计算的数字。例如，在测量玻璃侧反射ΔE*值时，则使用玻璃侧反射a*、b*和L*值。以类似的方式，通过用Hunter Lab值ah、bh、Lh来替换a*、b*、L*，ΔE可以使用用于ΔE*的上述等式来计算，即ΔE*＝[(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2]1/2。同样在本发明的范围内，并且如果转换为通过采用与上文定义的ΔE*相同概念的任何其他技术计算的数字，则ΔE*的量化是等效数字。
发明内容
本发明涉及一种包括低辐射率(低E)涂层的涂覆制品。在某些示例性实施方案中，低E涂层被设置在基板(例如，玻璃基板)上，并且包括由接触层(例如，NiCr基层)间隔开的至少第一红外(IR)反射层和第二红外反射层(例如，银基层)，以及诸如氮化硅之类的材料的介电层或包含该材料的介电层，和氧化锆(例如，ZrO2)的介电非吸收层或包含氧化锆的介电非吸收层。已发现添加氧化锆(例如，ZrO2)的介电非吸收层或包含氧化锆的介电非吸收层改善耐久性。在某些示例性实施方案中，涂覆制品具有低可见光透射率(例如，不大于60％，更优选地不大于约55％，更优选地不大于约50％)。在某些示例性实施方案中，涂覆制品可被热处理(例如，热回火和/或热弯曲)，并且设计成在热处理(HT)时基本上是热稳定的，因为由HT引起的其ΔE*值(玻璃侧反射)不大于5.0，更优选地不大于4.5。如此低的ΔE*值表明了涂覆制品在热处理(例如，热回火)之前和之后都具有与肉眼观察到的大致相同的透射率和颜色特性。根据本发明的某些示例性实施方案的涂覆制品可在中空玻璃(IG)窗单元、车窗、其他类型的窗的上下文中，或者在任何其他合适的应用中使用。
此外，在本发明的某些示例性实施方案中，涂层包括氧化锆和/或氧氮化锆的层(例如，外涂层)或包含氧化锆和/或氧氮化锆的层。在某些示例性实施方案中，氧化锆和/或氧氮化锆的该层或包含氧化锆和/或氧氮化锆的该层基本上比每个在涂层中包含银的IR反射层更薄。
期望提供涂覆制品，该涂覆制品由以下各项中的一项、两项或全部三项来表征：(i)低可见光透射率、(ii)良好的耐久性、以及(iii)在HT时的热稳定性，以便实现不大于5.0、更优选地不大于4.5的玻璃侧反射ΔE*值。
在本发明的某些示例性实施方案中，提供了涂覆制品，该涂覆制品包括由玻璃基板支撑的涂层，该涂层包括：包含银的第一红外(IR)反射层和第二红外反射层，该第一IR反射层比第二IR反射层更靠近玻璃基板定位；包含NiCr的第一接触层，该第一接触层位于包含银的第一IR反射层上方并且直接接触该第一IR反射层；包含氮化硅的介电层，该介电层位于包含NiCr的第一接触层上方并且直接接触该第一接触层；其中包含氮化硅的介电层被包含氧化锆的介电层分开，使得包含氧化锆的介电层位于包含氮化硅的介电层的第一部分和包含氮化硅的介电层的第二部分之间，并且接触第一部分和第二部分；包含NiCr的第二接触层，该第二接触层位于包含氮化硅的层上方并且直接接触该层；该第二IR反射层包含银，位于包含NiCr的第二接触层上方并且直接接触该第二接触层；包含NiCr的第三接触层，该第三接触层位于第二IR反射层上方并且直接接触该第二IR反射层；以及包含氮化硅的另一个介电层，该介电层位于包括NiCr的第三接触层上方并且直接接触该第三接触层。任选地，可以提供包含氧化锆的外涂层，该外涂层位于包含氮化硅的另一个介电层上方并且直接接触另一个介电层。任选地，包含银的第二IR反射层可以比包含银的第一IR反射层更厚。任选地，包含银的第一IR反射层和第二IR反射层中的每个的厚度可以是包含氧化锆的外涂层的厚度的至少两倍。涂覆制品可以具有单片测量的不大于60％的可见光透射率。
附图说明
图1为根据本发明的示例性实施方案的涂覆制品的剖视图。
图2为示出根据本发明的示例性实施方案的设置在IG窗单元中的图1的涂覆制品的剖视图。
具体实施方式
本文的涂覆制品可用于诸如IG窗单元、层压窗单元(例如，用于车辆或建筑物应用中)、车窗、单片建筑窗、住宅窗之类的应用，以及/或者包括单个或多个玻璃基板的其他合适的应用中。
在本发明的某些示例性实施方案中，涂层包括双银堆叠。参见图1，例如，在本发明的某些示例性实施方案中，提供了涂覆制品，该涂覆制品包括由玻璃基板支撑的涂层，该涂层包括：包含银或基本上由银组成的第一红外(IR)反射层9和第二红外(IR)反射层19，该第一IR反射层9比第二IR反射层19更靠近玻璃基板1定位；包含NiCr的第一接触层7，该第一接触层位于包含银的第一IR反射层9下方并且直接接触该第一IR反射层；第二接触层11，该第二接触层位于包含银的第一IR反射层9上方并且直接接触该第一IR反射层；包含氮化硅的介电层14(该层14由下层部分14a和上层部分14b组成)，该介电层位于包含NiCr的第一接触层11上方并且直接接触该第一接触层；其中包含氮化硅的介电层14被包含氧化锆的介电非吸收层15分开，使得包含氧化锆(例如，ZrO2)的介电层15位于包含氮化硅的介电层的下部部分14a与包含氮化硅的介电层的上部部分14b之间，并且接触下部部分和上部部分；包含NiCr的第三接触层17，该第三接触层位于包含氮化硅的层14的上部部分14b上方并且直接接触该上部部分；该第二IR反射层19包含银，位于包含NiCr的第二接触层17上方并且直接接触该第二接触层；包含NiCr的第四接触层21，该第四接触层位于第二IR反射层19上方并且直接接触该第二IR反射层，并且其中包含银的第二IR反射层19至少与包含银的第一IR反射层9一样厚。在某些优选的实施方案中，已经发现，当包含银的第二IR反射层19比包含银的第一IR反射层9更厚时，更优选地当第二IR反射层19比包含银的第一IR反射层9厚至少10埃(更优选厚至少20埃)时，能够实现令人惊讶的有益结果。涂层包括氮化硅的三个介电层3、14和24或包含氮化硅的三个介电层3、14和24，如图1所示。已经发现，提供将氮化硅基层14分成两个相等或不相等部分的氧化锆(例如，ZrO2)的介电非吸收层或包含氧化锆的介电非吸收层15改善耐久性。此外，涂层包括氧化锆和/或氧氮化锆的层27(例如，外涂层)或包含氧化锆和/或氧氮化锆的层27。在某些示例性实施方案中，氧化锆和/或氧氮化锆的该层或包含氧化锆和/或氧氮化锆的该层27比在涂层中包含银的IR反射层9、19中的一个或两个更薄。在本发明的某些示例性实施方案中，包含银的IR反射层9和19中的每个比包含氧化锆和/或氧氮化锆的层27厚至少两倍，并且更优选地厚至少三倍。在本发明的某些示例性实施方案中，涂层包括银等的仅两个IR反射层或包含银等的仅两个IR反射层9、19。
为了改善耐久性以及光学和热性能，并避免HT前后的显著结构改变，根据本发明某些示例性实施方案的涂覆制品具有由氧化锆的层或包含氧化锆的层15分开的氮化硅的中心介电层或包含氮化硅的中心介电层14，并且下部接触层7、17基于NiCr(与ZnO相对)。还发现，对于层7、11、17和/或21使用金属或基本上金属的NiCr(可能部分氮化)改善了化学、机械和环境耐久性(与在银下方使用ZnO下部接触层和/或在银上方使用高度氧化的NiCr上部接触层相比)。还发现，以无定形状态溅射沉积含氮化硅层14，使得其在涂覆和HT状态下均是无定形的，有助于涂层的整体稳定性。例如，在65摄氏度下1小时的5％HCl将移除美国专利No.7,521，096的涂层，而图1和本文的示例中所示的涂层将在该HC1试验中存活。并且在高温和高湿度环境中，暴露十天后对图1和本文示例的涂层的损坏小于暴露两天后′096专利的涂层。并且对于诸如用于“砖洗”的高腐蚀性化学品，耐腐蚀性使得在某些示例性IG和层压实施方案中不需要执行边缘去除。类似地，对于机械磨损试验、热循环和盐雾试验，发现本文示例的涂层优于′096专利的涂层。此外，已经发现，使顶部Ag基IR反射层19比底部Ag基IR反射层9更厚改善了涂层的某些光学特性。由于本文讨论的相对较低的ΔE*值，涂层能够用作经涂覆或热处理的。例如，当涂层30位于IG窗单元的2号表面时(如图2所示)，由于热处理而产生的低玻璃侧反射ΔE*值表明了涂覆制品在热处理(例如，热回火)之前和之后都具有与肉眼观察到的大致相同的透射率和颜色特性，并且因此能够用作经涂覆或热处理的，而不会显著影响其光学特性。
在诸如图1的本发明的某些示例性实施方案中，具有多个IR反射层(例如，两个间隔开的银基层)的热处理或非热处理的涂覆制品能够实现小于或等于5.0(更优选地小于或等于4.0，甚至更优选地小于或等于3.0)的薄层电阻(Rs)。如本文所用，术语“热处理(heattreatment)”和“热处理(heat treating)”意指将制品加热到足以实现含玻璃制品的热回火、热弯曲和/或热强化的温度。该定义包括例如在烘箱或炉中在至少约580摄氏度，更优选地在至少约600摄氏度的温度下加热涂覆制品足够的周期以允许回火、弯曲和/或热强化。在某些情况下，HT可持续至少约4或5分钟。在本发明的不同实施方案中，涂覆制品可以或可以不被热处理。
图1为根据本发明的示例性非限制性实施方案的涂覆制品的侧剖视图。涂覆制品包括基板1(例如，厚度为约1.0mm至10.0mm，厚度更优选地为约1.0mm至3.5mm的透明、绿色、青铜色、或蓝绿色玻璃基板)，以及直接或间接设置在基板1上的低E涂层(或层系统)30。涂层(或层系统)30包括例如：底部氮化硅介电层3，在本发明的不同实施方案中，该介电层可以是Si3N4，或者具有富Si型氮化硅以用于浊度降低，或者具有任何其他合适的化学计量氮化硅；下部接触层7(其接触底部IR反射层9)；第一导电且优选金属或基本上金属的红外(IR)反射层9；上部接触层11(其接触层9)，基于氮化硅和/或包含氮化硅的介电层14，该介电层被氧化锆基层15分成两个部分；下部接触层17(其接触IR反射层19)；第二导电且优选金属或基本上金属的IR反射层19；上部接触层21(其接触层19)；氮化硅介电层24，在本发明的不同实施方案中，该介电层可以是Si3N4，具有富Si型以用于浊度降低，或者具有任何其他合适的化学计量氮化硅；以及诸如氧化锆(例如，ZrO2)和/或氧氮化锆之类的材料的外涂层27或包含该材料的外涂层27。“接触”层7、11、17和21各自接触IR反射层(例如，基于Ag的层)。上述层3至27构成低E(即，低辐射率)涂层30，该低E涂层设置在玻璃或塑料基板1上。在本发明的某些示例性实施方案中，层3至27可被溅射沉积在基板1上，其中每个层根据需要使用一个或多个靶在真空下溅射沉积(溅射靶可以是陶瓷或金属)。金属或基本上金属的层(例如，层7、9、11、17、19和21)可在包含氩气的气氛中溅射，而氮化层(例如，层3、7、11、14、17、21和24)可在包含氮气和氩气的混合物的气氛中溅射。在本发明的不同示例性实施方案中，接触层7、11、17和21可以或可以不被氮化。
在单片情况下，涂覆制品包括仅一个玻璃基板1，如图1所示。然而，本文的单片涂覆制品可用于诸如层压车辆挡风玻璃、IG窗单元等的设备中。对于IG窗单元，IG窗单元可包括两个间隔开的玻璃基板。示例性IG窗单元在例如美国专利文献No.2004/0005467中示出和描述，该专利的公开内容据此以引用方式并入本文。图2示出包括示于图1中的涂覆玻璃基板1的示例性IG窗单元，该玻璃基板通过间隔件、密封剂40等联接到另一个玻璃基板2，其中间隙50被限定在其间。在IG窗单元实施方案中，基板之间的该间隙50在某些情况下可填充有气体，诸如氩气(Ar)。示例性IG单元可包括一对间隔开的透明玻璃基板，其厚度各自为约3mm至4mm，其中一个在某些示例性情况下涂覆有本文的涂层30，其中基板之间的间隙50可为约5mm至30mm，更优选地为约10mm至20mm，并且最优选地为约16mm。在某些示例性情况下，低E涂层30可设置在任一基板的面向间隙的内部表面上(涂层被示为在图2中的基板1的面向间隙50的内部主表面上，但是相反，可以在基板2的面向间隙50的内部主表面上)。基板1或基板2可以是在建筑物外部处的IG窗单元的最外基板(例如，在图2中，基板1是最靠近建筑物外部的基板，并且涂层30被设置在IG窗单元的2号表面上)。
在本发明的某些示例性实施方案中，接触层7、11、17、21中的一个、两个、三个或全部四个可具有或包含NiCr(任何合适比率的Ni∶Cr)，并且可以或可以不被氮化(NiCrNx)。在某些示例性实施方案中，这些含NiCr层7、11、17、21中的一个、两个、三个或全部四个基本上或完全是非氧化的。在某些示例性实施方案中，层7、11、17和21可全部具有金属NiCr或基本上金属NiCr(但是可存在痕量的其他元素)。在某些示例性实施方案中，NiCr基层7、11、17、21中的一个、两个、三个或全部四个可包含0至10％的氧，更优选地为0至5％的氧，并且最优选地为0至2％的氧(原子％)。在某些示例性实施方案中，这些层7、11、17、21中的一个、两个、三个或全部四个可包含0至20％的氮，更优选地为1％至15％的氮，并且最优选地为约1％至12％的氮(原子％)。NiCr基层7、11、17和/或21可以或可以不掺杂有其他材料，诸如不锈钢、Mo等。已经发现，使用在银基IR反射层9、19下方的NiCr基接触层7和/或17改善涂覆制品的耐久性(与层7和17代替ZnO的情况相比)。
在本发明的某些实施方案中，介电层3、14(包括14a和14b)和24可具有或包含氮化硅。除了其他方面以外，氮化硅层3、14和24可改善涂覆制品的热处理性，并且在任选HT(诸如热回火等)期间保护其他层。在本发明的不同实施方案中，氮化硅层3、14、24中的一个或多个可具有化学计量型(即，Si3N4)，或作为另外一种选择具有富Si型的氮化硅。在富Si的含氮化硅层3和/或14中存在游离Si可例如允许在HT期间从玻璃1向外迁移的某些原子(诸如钠(Na))在它们能到达银并且损坏银之前被富Si的含氮化硅层更有效地停止。因此，据信在本发明的某些示例性实施方案中，富Si的SixNy能减少在HT期间对银层造成的损坏的量，从而允许薄层电阻(Rs)以令人满意的方式减小或保持大致相同。此外，据信，在本发明的某些示例性任选实施方案中，层3、14和/或24中富Si的SixNy能减少在HT期间对银和/或NiCr造成的损坏的(例如，氧化)的量。在某些示例性实施方案中，当使用富Si的氮化硅时，沉积的富Si的氮化硅层(3、14和/或24)可由SixNy层表征，其中x/y可为0.76至1.5，更优选地为0.8至1.4，还更优选地为0.82至1.2。在本发明的某些示例性实施方案中，本文所讨论的氮化硅层中的任一个或全部可掺杂有其他材料，诸如不锈钢或铝。例如，在本发明的某些示例性实施方案中，本文所讨论的任何和/或所有氮化硅层3、14、24可任选地包含约0至15％的铝，更优选约1％至10％的铝。在本发明的某些实施方案中，层3、14、24的氮化硅可通过在具有氩气和氮气的气氛中溅射Si或SiAl的靶来沉积。在某些情况下，还可以在氮化硅层中的任一个或全部中提供少量氧。
介电非吸收层15优选具有或包含氧化锆。层15中的氧化锆可以是ZrO2或任何其他合适的化学计量。已经发现，在将氮化硅基层14分成两个部分14a和14b的位置提供氧化锆基层15导致改善的耐久性。虽然在本发明的优选实施方案中，层15由ZrO2组成或者基本上由ZrO2组成，但是该层中可能存在其他材料。例如，在某些示例性情况下，层15可掺杂有其他材料(诸如氮)。在某些示例性实施方案中，氧化锆层15包含约0至10％氮，更优选地为约1％至7％氮。
红外(IR)反射层9和19优选地基本上或完全是金属和/或导电的，并且可包含银(Ag)、金或任何其他合适的IR反射材料或基本上由其组成。IR反射层9和19有助于允许涂层具有低E和/或良好的太阳控制特性。
还可提供所示涂层下方或上方的其他层。因此，当层系统或涂层“在基板1上”或“由基板1支撑”(直接或间接)时，其他层可设置在其间。因此，例如，图1的涂层可被认为是“在基板1上”或“由基板1支撑”，即使其他层被设置在层3和基板1之间。此外，在某些实施方案中可移除所示涂层的某些层，而在本发明的其他实施方案中，可以在各个层之间添加其他层，或者各个层可与在分离段之间添加的其他层分开而不脱离本发明某些实施方案的整体精神。
虽然在本发明的不同实施方案中可在层中使用各种厚度和材料，但是图1实施方案中的玻璃基板1上的相应层的示例性厚度和材料如下，从玻璃基板向外(所述的物理厚度)：
示例性材料/厚度；图1实施方案
在本发明的某些示例性实施方案中，氮化硅基层14的下部部分14a和上部部分14b具有基本相同的物理厚度(相同的厚度+/-10％)，但它们不必在本发明的替代性实施方案中。此外，在本发明的某些示例性实施方案中，氧化锆层15比银层9、19两者更薄，并且在本发明的某些示例性实施方案中也比两个氮化硅层14a、14b更薄。在本发明的某些示例性实施方案中，氧化锆层15比银层9、19两者薄至少10埃并且在本发明的某些示例实施方案中比两个氮化硅层14a、14b薄至少100埃。
包含银的第二IR反射层19至少与包含银的第一IR反射层9一样厚。在某些优选的实施方案中，已经发现，当包含银的第二IR反射层19比包含银的第一IR反射层9更厚时，更优选地当第二IR反射层19比包含银的第一IR反射层9厚至少10埃(更优选厚至少20埃)时，能够实现令人惊讶的有益结果。
在某些示例性实施方案中，氧化锆和/或氧氮化锆的外涂层27或包含氧化锆和/或氧氮化锆的外涂层27比在涂层30中包含银的IR反射层9、19中的每个更薄。在本发明的某些示例性实施方案中，包含银的IR反射层9和19中的每个比氧化锆和/或氧氮化锆的层27或包含氧化锆和/或氧氮化锆的层27厚至少两倍，并且更优选地厚至少三倍。
在某些示例性实施方案中，中心氮化硅基层14总厚度(14a+14b)厚于氮化硅层24厚度，优选地厚至少100埃，更优选地厚至少300埃，并且最优选地厚340埃。在某些示例性实施方案中，氮化硅层3比氮化硅层14a和14b中的每个厚至少200埃(更优选地厚至少300埃)。此外，在某些示例性实施方案中，氮化硅基层3、14和24中的每个比含氧化锆层27厚至少两倍，更优选地厚至少三倍，并且最优选地厚至少四倍或五倍。
与单银基低E涂层相比，涂层30提供良好的耐久性并允许较低的内部和外部反射。然而，ΔE*值通常在4至5范围内。涂层和包括涂层的涂覆制品可以被设计成透射和反射时呈浅蓝色，但在任选的HT后可以变得稍微更中性。
在本发明的某些示例性实施方案中，当单片测量时(在任选的HT之前和/或之后)，本文的涂覆制品可以具有表2中列出的以下光学和太阳特性。本文的薄层电阻(Rs)考虑了所有IR反射层(例如，银层9、19)。应当注意，“热处理之前”是指退火，但在高温热处理(诸如本文所述的热回火)之前。
光学/太阳特性(单片-热处理前)
光学/太阳特性(单片-热处理后)
从上面能够看出，热处理(例如，热回火)略微增加涂覆制品的可见光透射率。
在本发明的某些示例性层压实施方案中，任选地经过热处理至足以回火的程度，并且已经与另一玻璃基板联接以形成IG单元的本文的涂覆制品可以在如图2所示的结构中具有上述光学/太阳特性(例如，其中两个玻璃片各自是6mm厚的透明玻璃，其间具有16mm的间隙，该间隙填充有90/10的氩气/空气)。在本发明的某些示例性实施方案中，此类IG窗单元可以具有约20％至55％的可见光透射率。
虽然已经结合目前被认为是最实用和优选的实施方案描述了本发明，但应当理解，本发明不限于所公开的实施方案，而是相反，旨在涵盖包括在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。

Claims (30)

1.一种包括由玻璃基板支撑的涂层的涂覆制品，所述涂层包括：
包含银的第一红外(IR)反射层和包含银的第二红外(IR)反射层，所述第一IR反射层比所述第二IR反射层更靠近所述玻璃基板定位；
包含NiCr的第一接触层，所述包含NiCr的第一接触层位于包含银的所述第一IR反射层上方并且直接接触包含银的所述第一IR反射层；
包含氮化硅的介电层，所述包含氮化硅的介电层位于包含NiCr的所述第一接触层上方并且直接接触包含NiCr的所述第一接触层；
其中包含氮化硅的所述介电层被包含氧化锆的分离介电层分开，使得包含氧化锆的所述分离介电层位于包含氮化硅的所述介电层的第一部分和包含氮化硅的所述介电层的第二部分之间，并且接触包含氮化硅的所述介电层的第一部分和包含氮化硅的所述介电层的第二部分；
包含NiCr的第二接触层，所述包含NiCr的第二接触层位于包含氮化硅的所述层上方并且直接接触包含氮化硅的所述层；
包含银的所述第二IR反射层位于包含NiCr的所述第二接触层上方并且直接接触包含NiCr的所述第二接触层；
包含NiCr的第三接触层，所述包含NiCr的第三接触层位于所述第二IR反射层上方并且直接接触所述第二IR反射层；和
包含氮化硅的另一个介电层，所述包含氮化硅的另一个介电层位于包含NiCr的所述第三接触层上方并且直接接触包含NiCr的所述第三接触层。
2.根据权利要求1所述的涂覆制品，还包括包含氮化硅的基部层，所述包含氮化硅的基部层位于所述玻璃基板和所述第一IR反射层之间。
3.根据权利要求2所述的涂覆制品，其中包含氮化硅的所述基部层的厚度为600埃至1,000埃。
4.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离介电层的厚度为70埃至120埃。
5.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氮化硅的所述介电层的所述第一部分和所述第二部分具有相同厚度+/-10％。
6.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氮化硅的所述介电层的所述第一部分和所述第二部分的厚度各自为200埃至450埃。
7.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离介电层比两个包含银的所述IR反射层更薄。
8.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离介电层比包含氮化硅的所述层的所述第一部分和所述第二部分中的每个薄至少100埃。
9.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离层包含ZrO2。
10.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离层基本上由ZrO2组成。
11.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，还包括包含氧化锆的外涂层，所述包含氧化锆的外涂层位于包含氮化硅的所述另一个介电层上方并且直接接触包含氮化硅的所述另一个介电层。
12.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含银的所述第二IR反射层比包含银的所述第一IR反射层厚。
13.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有单片测量的不大于60％的可见光透射率。
14.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含银的所述第一IR反射层和包含银的所述第二IR反射层中的每个的厚度是包含氧化锆的外涂层的厚度的至少三倍。
15.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离层还包含氮。
16.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含银的所述第二IR反射层比包含银的所述第一IR反射层厚至少。
17.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中位于包含NiCr的所述第一接触层上方并且直接接触包含NiCr的所述第一接触层的包含氮化硅的所述介电层是无定形的。
18.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含NiCr的所述第一接触层是基本上金属或金属的，并且包含不超过约5％(原子％)的氧。
19.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含NiCr的所述第二接触层是基本上金属或金属的，并且包含不超过约5％(原子％)的氧。
20.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含NiCr的所述第三接触层是基本上金属或金属的，并且包含不超过约5％(原子％)的氧。
21.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中所述第一接触层、所述第二接触层和/或所述第三接触层还包含氮。
22.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品具有单片测量的20％至60％的可见光透射率。
23.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品未被热回火并且具有单片测量的20％至55％的可见光透射率。
24.根据权利要求1至23中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品被热回火。
25.根据权利要求24所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品被热处理并且由于热处理而具有不大于5.0的玻璃侧反射ΔE*值。
26.根据权利要求24所述的涂覆制品，其中所述涂覆制品被热处理并且由于热处理而具有不大于4.5的玻璃侧反射ΔE*值。
27.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中所述涂层具有小于或等于4.0欧姆/平方的薄层电阻(Rs)。
28.一种IG窗单元，所述IG窗单元包括根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，和联接到所述涂覆制品的另一个玻璃基板。
29.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆制品，其中包含氧化锆的所述分离介电层包含1％至7％的氮(原子％)。
30.一种包括由玻璃基板支撑的涂层的涂覆制品，所述涂层包括：
包含银的第一红外(IR)反射层和包含银的第二红外(IR)反射层，所述第一IR反射层比所述第二IR反射层更靠近所述玻璃基板定位；
第一接触层，所述第一接触层位于包含银的所述第一IR反射层上方并且直接接触包含银的所述第一IR反射层；
包含氮化硅的介电层，所述包含氮化硅的介电层位于包含NiCr的所述第一接触层上方并且直接接触包含NiCr的所述第一接触层；
其中包含氮化硅的所述介电层被包含氧化锆的分离介电层分开，使得包含氧化锆的所述分离介电层位于包含氮化硅的所述介电层的第一部分和包含氮化硅的所述介电层的第二部分之间，并且接触包含氮化硅的所述介电层的第一部分和包含氮化硅的所述介电层的第二部分；
第二接触层，所述第二接触层位于包含氮化硅的所述层上方并且直接接触包含氮化硅的所述层；
包含银的所述第二IR反射层位于所述第二接触层上方并且直接接触所述第二接触层；和
第三接触层，所述第三接触层位于所述第二IR反射层上方并且直接接触所述第二IR反射层。
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