CN110189884A - 一种平面微小极距多极充磁方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种平面微小极距多极充磁方法,包括以下步骤:将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。本发明的优点是:采用齿形导磁模具进行充磁,利用磁场传导的方式对部分区域进行反向充磁,获得相反磁极,形成多极充磁,并且不用在模具的齿上布置导线,从而可以极大的降低导磁模具齿形的宽度,可以适应磁极宽度小于2mm的磁面充磁。
Description
技术领域
本发明涉及一种平面微小极距多极充磁方法。
背景技术
现有的多磁极充磁方式,都是采用导线镶嵌的方法对磁极分割,通过电流产生磁场,形成平面多极充磁,但是在微小极距的情况下,没有足够的空间来布置导线和绝缘,使得微小极距情况下的多磁极充磁非常困难。
发明内容
本发明的目的在于提供一种平面微小极距多极充磁方法,能够有效解决现有微小极距多极充磁困难的问题。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:一种平面微小极距多极充磁方法,包括以下步骤:
A、将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;
B、在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;
C、平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。
优选的,所述步骤B中,P个区域的每个区域宽度为0.3-2mm,导磁模具对应的宽度为该区域宽度的50%-90%。
优选的,所述步骤A中采用电容式充磁机配适当的空心线圈,进行单向充磁。
与现有技术相比,本发明的优点是:采用齿形导磁模具进行充磁,利用磁场传导的方式对部分区域进行反向充磁,获得相反磁极,形成多极充磁,并且不用在模具的齿上布置导线,可以满足极距微小产品的多极充磁要求。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
一种平面微小极距多极充磁方法,包括以下步骤:
A、将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;
B、在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;
C、平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。
其中步骤A中采用电容式充磁机配空心线圈进行单向饱和充磁,或者其他方式进行充磁,而步骤B中P个区域的宽度为0.3-2mm,齿形导磁模具中每一个齿的端面宽度为磁极宽度的50%-90%,采用齿形导磁模具利用磁场传导的方式对部分区域进行反向充磁,获得相反磁极,形成多极充磁,并且不用在模具的齿上布置导线,可以满足0.3-2mm极距微小产品的多极充磁要求。
具体实施例,产品外径117mm,内径109mm,厚度2mm,材料粘结钕铁硼,平面296极充磁,极宽1.16-1.24mm
A、先将磁体用D120*80空心线圈,电容式充磁机3000uf 2000V沿轴向单向充磁;
B、将N极平面贴在148齿形导磁模具工装上,齿宽为磁极宽度的75%;用电磁铁20A,1.5T进行148个区域局部反向充磁;
C、平面形成296极。
以上所述仅为本发明的具体实施例,但本发明的技术特征并不局限于此,任何本领域的技术人员在本发明的领域内,所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围之中。
Claims (3)
1.一种平面微小极距多极充磁方法,其特征在于:包括以下步骤:
A、将需要充磁的磁体放入充磁线圈进行单向饱和充磁,在磁体待充磁面形成单一磁极;
B、在磁体待充磁面上放置齿形导磁模具,对与齿形导磁模具接触的P个区域进行反向充磁,其余没接触的P个区域磁极不变;
C、平面形成2P个磁极,完成平面多极充磁。
2.如权利要求1所述的一种平面微小极距多极充磁方法,其特征在于:所述步骤B中,P个区域的每个区域宽度为0.3-2mm,导磁模具对应的宽度为该区域宽度的50%-90%。
3.如权利要求1所述的一种平面微小极距多极充磁方法,其特征在于:所述步骤A中采用电容式充磁机配适当的空心线圈,进行单向充磁。
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