CN110170515A - 修复建筑物底板蒸汽和土壤的方法及其系统 - Google Patents

Abstract

提供一种用于处理建筑物的底板下方区域中蒸汽和浅层土壤中的污染物的方法，以使底板位于第一碎石层和第二土壤层上方。该方法包括提供臭氧单元、提升管和导管。首先检测底板下方需要处理污染物的区域，然后在底板中形成孔以限定注入位置。该方法还包括将提升管定位在注入位置处的孔内，并且将导管耦接在臭氧单元与提升管之间。该方法进一步包括从臭氧单元分配臭氧流过导管和提升管，以处理底板的下方区域中蒸汽和浅层土壤中的污染物。

Description

修复建筑物底板蒸汽和土壤的方法及其系统

相关申请

本申请要求2018年2月19日提交的序号为No.62/632,236的美国临时专利申请的权益，该申请的公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本公开涉及用于修复建筑物的底板蒸汽和浅层底板土壤中的氯化溶剂和石油碳氢化合物的方法和系统。

技术背景

长期以来，工业上一直使用氯化溶剂和石油碳氢化合物，包括军用，干洗店和其他企业。它们的使用导致释放到环境中污染土壤和地下水，其产生这些污染物的蒸汽，这些污染物的蒸汽通过渗流区、公用沟渠和下水道迁移并积聚在建筑物下方，并迁移到或威胁迁移到这些建筑物的室内空气中，同时也经由下水道蒸汽漏孔侵入到建筑物的内部，从而危及居民的健康。

氯化溶剂在环境中存在了几十年，并且其蒸汽对人类健康的威胁是其污染环境的首要问题。这些氯化溶剂及其降解产物对人体健康有毒，并且许多也致癌。虽然石油碳氢化合物在环境中的持久性与氯化溶剂不同，但它们也是有毒的，并且有些是致癌的。

虽然已知适用于由氯化溶剂和石油碳氢化合物污染的土壤和地下水的修复技术和过程，但目前没有修复工艺可用于由此类污染物产生的蒸汽，这些蒸汽在建筑物下积聚并威胁其居民的健康。通常情况下，存在于建筑物的底板中的此类含氯的蒸汽是通过缓解措施被解决的，通过降低底板空间的压力而不是通过修复消除这些蒸汽，将其排放到大气中。石油类化合物也是如此。

当前使用的底板蒸汽缓解工艺和系统由于对其应用原则和适用性的固有问题而不可靠，因为实际上它们没有修复污染，而是将其从一个地方转移到另一个地方。在设计、安装、操作和维护以及测量有效性方面，也存在严重问题。因此，安装蒸汽缓解系统不能保证建筑物居民的健康风险降低到可接受的水平。

此外，即使是有效的缓解措施，也需要对底板蒸汽和室内空气进行长期运行、维护和监控，并在物业契约上订立限制性契约，以确保该建筑物在任何时候都需要有一个运作的蒸汽缓解系统。

发明内容

在本公开的一个实施例中，可以在建筑物的受污染的底板中施加臭氧，旨在通过破坏底板中存在的氯化溶剂蒸汽和其降解产物的蒸汽以及石油蒸汽，以及破坏建筑物的底板中的上层碎石/土壤(gravel/soil)中的这些混合物来修复。

在氯化溶剂和石油污染的许多情况下，来自建筑物的底板中的这些污染物的蒸汽的存在是由于这些建筑物下面氯化溶剂和石油的释放，并在建筑物底板空间中截留了它们的蒸汽，以及建筑物底板中最上层的碎石/土壤上氯化溶剂和石油的吸收的结果。多年来一直在评估臭氧对有机污染物的破坏，并已应用于受污染的地下水和土壤，但不适用于建筑物下的污染蒸汽。

臭氧的施加可以单独进行，也可以基于存在于建筑物底板的蒸汽和上层碎石/土壤地层中的有机污染物在氢氧自由基(OH)和/或UV光的存在下进行，以便通过这两种技术产生协同效应。如果需要，也可以引入水分。

将臭氧以及臭氧/OH/UV光组合应用于建筑物的底板以破坏底板中的有机污染物的蒸汽，并破坏存在于浅层碎石/土壤层中此类有机污染物，是一种新颖的应用。

在另一个实施例中，一种修复系统，其用于执行处理建筑物的底板下方区域内的污染物的修复过程，该修复系统包括用于生成一定量臭氧的臭氧单元；限定在底板区域中的多个注入位置，其中多个注入位置中的每个与多个注入位置的另一个间隔预定距离；定位在多个注入位置的每个处的提升管，提升管具有限定的长度，该限定的长度配置为从底板的上表面延伸到底板下方的位置，其中提升管包括在底板下方的位置处的出口；以及耦接在臭氧单元和所述提升管之间的导管；其中在修复过程中，臭氧单元被设置在其启用位置，以分配臭氧通过导管和提升管；此外，其中，臭氧在注入分区的每个处离开提升管的出口，并在底板下方的区域中扩散，以处理位于那附近的污染物。

在该实施例的第一个示例中，该系统可以包括通过臭氧扩散区域限定在每个注入分区的多个施加分区，其中多个施加分区的每个与多个施加分区的另一个至少部分重叠。在第二个示例中，筛管可以耦接在提升管的出口附近。在第三个示例中，该系统可以包括用于发射UV光的UV光单元，该UV光单元耦接到多个注入分区的每个上，用于在多个注入分区的每个处连同臭氧发射UV光。在第四个示例中，UV光单元耦接到提升管，用于在底板下方的区域内与臭氧单元分配臭氧的同时发射UV光。

在第五个示例中，该系统可以包括用于生成氢氧自由基的氢氧基(OH)单元，该氢氧基单元耦接到多个注入分区的每个，用于在多个注入分区的每个处连同臭氧供应氢氧自由基。在第六个示例中，该系统可以包括用于发射UV光的UV光单元和用于生成氢氧自由基的氢氧基(OH)单元，该UV光单元被耦接到多个注入分区的每个，用于在多个注入分区的每个处连同臭氧发射UV光，该氢氧基单元耦接到多个注入分区的每个，用于在多个注入分区的每个处连同臭氧供应氢氧自由基，其中，UV光单元与氢氧基单元可操作地耦接到提升管，以在臭氧单元分配臭氧至多个注入位置的每个的同时发射UV光和氢氧基。

在本公开的另一个实施例中，提供了一种用于处理建筑物的底板下方区域内的污染物的方法，其中底板位于第一碎石层和第二土壤层上方。该方法包括提供臭氧单元、提升管和导管；检测需要处理污染物的底板的下方区域；在底板内形成孔以限定注入位置；在注入位置处的孔内定位提升管；在臭氧单元和提升管之间耦接导管；从臭氧单元分配臭氧流过导管和提升管，以处理底板下方的区域内的污染物。

在该实施例的一个示例中，定位步骤包括将提升管的第一端定位在底板的上表面处或上方，并且将第二端定位在底板的下方位置。在第二个示例中，该方法可以包括将第二端设置在第一碎石层内或第二土壤层内。在第三个示例中，形成步骤包括在底板下方的区域内限定多个注入位置。

在第四个示例中，该方法可以包括将多个注入位置中的每一个彼此隔开预定距离。在第五个示例中，分配步骤可以包括在多个注入位置的每个处形成臭氧施加分区，其中，形成在多个注入位置的每个处的施加分区与形成在多个注入位置的另一个位置处的另一个施加分区至少部分地重叠。在另一个示例中，该方法可以包括通过耦接在底板下方的区域中的提升管的出口处的筛网扩散臭氧。在另一个示例中，该方法可以包括提供UV光单元；将UV光单元耦接到注入位置；并且从UV光单元发射UV光到底板下方的区域内。在另一个示例中，该方法可以包括提供氢氧自由基生成单元；将氢氧基单元耦接到注入位置；从氢氧基单元供应氢氧自由基到底板下方的区域内。

在本公开的另一个实施例中，提供了一种处理建筑物的底板下方区域内的污染物的方法，其中底板位于第一碎石层和第二土壤层上方。该方法包括提供臭氧单元、UV光单元、氢氧基单元和提升管；检测底板下方的区域是否需要修复位于其周围的任何污染物；如果检测到污染物，确定处理底板下方的区域所需的注入位置的数量和位置；在底板中形成孔以限定每个注入位置；将提升管定位在每个注入位置的孔中；将臭氧单元、UV光单元和氢氧基单元连接到每个注入位置；在底板下方的区域中通过从臭氧单元分配臭氧、从UV光单元发射UV光以及从氢氧基单元供应氢氧自由基来处理污染物。

在本实施例的一个示例中，处理步骤可以包括同时地从臭氧单元分配臭氧、从UV光单元发射UV光以及从氢氧基单元供应氢氧自由基。在另一个示例中，该方法可以包括将多个注入位置中的每一个彼此隔开预定距离，以使在一个注入位置处分配的臭氧、发射的UV光以及供应的氢氧自由基与相邻的注入位置处分配的臭氧、发射的UV光以及供应的氢氧自由基重叠。在另一个示例中，该方法可以包括将导管从臭氧单元、UV光单元和氢氧基单元耦接至每个注入位置处的提升管。

附图说明

通过结合附图参考本公开的实施例的以下描述，本公开的上述方面和获得它们的方式将变得更加明显，并且将更好地理解本公开本身，其中：

图1是根据本公开的待处理的建筑物和底板的横截面示意图；

图2是建筑物平面图的示意图，其中底板下方的区域用臭氧和OH和/或UV光处理；以及

图3是用于处理建筑物的混凝土板下方的污染区域的修复过程的一个实施例的流程图。

具体实施方式

以下描述的本公开的实施例并非旨在穷举或将本公开限制为以下详细描述中的精确形式。而是，这些实施例的选用和描述，使得本领域其他技术人员可以领会和理解本公开的原理和实践。

在本公开中，提出了一种用于在建筑物的底板区域中施加臭氧或结合的臭氧和UV线(ultraviolet)修复或臭氧和氢氧自由基(OH)的方法。为此，该方法包括要执行修复的多个方块或步骤。有必要了解或分析底板中存在的污染物以及业主对在底板中施加臭氧或臭氧/UV或臭氧/OH修复的修复需求。该方法涉及评估底板前方(upfront)中存在的污染物类型、其浓度，以及建筑物底板中蒸汽和浅层土壤中的含量。

例如，参考图1，图示说明的建筑物102的实施例示出了应用于建筑物中的、用于处理建筑物下方发现的污染物的修复系统100。具体地，示出建筑物102具有支撑结构104，如图所示，支撑结构104包括支脚。建筑物102进一步建造在混凝土板106上，混凝土板106设置在碎石108和底板土壤区域上方。碎石108可以位于填土110或泥土区域上方，填土110或泥土可以相对于围绕建筑物的原生土(native soil)112堆积。

系统100可以进一步包括臭氧单元或臭氧单元/UV光单元的组合或臭氧单元/OH单元的组合114，用于执行至少一部分修复方法。该臭氧或臭氧/UV光或臭氧/OH单元114可以是任意市场上可买到的臭氧单元，例如，来自H20工程公司的OSU20-52 or MOSU20-52，其辅以任意市场上可买到的UV光生成单元136或OH生成单元138。臭氧单元114以及任意补充的UV光和/或OH单元可以经由导管或管道128将臭氧、UV光和/或OH自由基提供到给定区域。

在图1中图示的实施例中，系统100可以包括可以实施臭氧或臭氧与UV光和/或OH的组合的多个注入点位。例如，系统100可以包括第一注入位置118、第二注入位置120、第三注入位置122、第四注入位置124和第五注入位置126。可以有额外的注入位置，或者在其他实施例中，可以有较少的位置。然而，经由修复过程可确定在每个位置处在底板106下方的区域包含需要待处理的携载污染物的蒸汽。为了到达这些位置，可以在每个位置处钻孔，并且可以将提升管130定位到该孔内。提升管130可以具有从底板106的上表面延伸到底板下方的区域的长度。例如，在第一位置116处，提升管130可以从混凝土板106延伸到碎石108下方的填土110。另一方面，在第二位置118处，对应的提升管130从混凝土板106的顶端延伸到碎石和底板土壤区108。

在提升管130的端部可以设置筛网132，以允许臭氧气体134从管道130扩散到周围区域内。如图所示，气体134可以扩散通过碎石区108和填土区110以处理任何有毒蒸汽。实际上，可以经由图1所示的臭氧单元114、臭氧传送导管128、提升管130和筛网132执行修复过程。然而，UV光单元136和/或OH单元138可以可选地与臭氧单元114组合。

在图2中，示出了类似的建筑物200的实施例。该建筑物200可以与图1的建筑物102类似。在图2中，建筑物200代表了以前的干洗建筑，其包括外部周界202和至少一个进入门204。建筑物200包括具有以前的干洗机器区域的内部220，在图2中，干洗机器区域由虚线214限定。如图所示，修复过程的第一部分是检测建筑物的底板的下方位置处是否有污染物。在图2的实施例中，示出了多个检测或采样位置。例如，示出了第一采样位置206、第二采样位置208、第三采样位置210和第四采样位置212。这些采样位置位于干洗机器区域214内。为了本公开的目的，干洗机器区域214可以被指代为污染区域。

当对底板区域采样并且确定污染区域需要修复时，图2的实施例进一步图示出了可以实施臭氧或臭氧与UV光和/或OH自由基的组合的多个注入点位或位置216。在这里，臭氧/UV光/OH点位或位置216可以被巧妙地隔开，以允许臭氧、UV光和/或OH在每个位置都被扩散并且充分地覆盖污染区域214。在图2中，臭氧、UV光和/或OH自由基可以覆盖确定的施加分区或半径218。每个注入位置可以与相邻的注入位置间隔的较近，以便于相邻半径彼此部分重叠。这种情况下，修复过程可以降低或消除位于建筑物200的底板下方的有毒蒸汽和其他污染物。

参考图3，示出了修复过程300的一个实施例。在这个过程300中，多个方块或步骤可以被执行。例如，在第一个方块或步骤302中，可以执行检测和采样过程以确定是否存在污染，如果有，该位置是污染区域。也就是说，可能有必要获得并查看当前或过去在建筑物中容纳的商业/制造实体的过去和当前操作记录。例如，这可以包括现在和过去使用的化学品、材料安全数据表、使用的设备和位置、产生的材料和废物、废物管理和处置做法和记录、环境许可证、示出用于原材料、中间物、产品和废物的管道线路的完工建筑图表，以及公用设施，地下和地上储存罐、脱脂设备和操作，干洗机、原料化学品和废物储存区，以及可以指示对建筑物的底板可能释放污染物的位置的任何其他信息。

除了获取前述信息之外，指定人员还可以进行实地考察，以评估有机污染物释放到底板的实际和潜在位置的存在。在这样做时，可以在建筑物及其直接邻接区域中执行公共和私人公用设施位置评估。可能还需要了解业主的修复需求，包括建筑物的现在和将来的使用，这将确定底板蒸汽和室内空气所需的清理目标。评估还可以包括对底板的已知或可疑释放邻近的多个位置和不同时间收集成对的底板蒸汽和室内空气样品，同时考虑到底板蒸汽和室内空气采样固有的空间和时间变化。该步骤的一个示例如图2所示，其中不同的采样位置在一个确定的区域内。

在第二方块或后续方块304中，可以在建筑物处执行先导测试以评估可能阻碍臭氧、UV光和/或OH注入成功的底板障碍物的存在。在此，可以确定处理污染区域的适当修复步骤。在制定适当的修复策略时，了解障碍和类似问题可能很重要。

在第三方块306中，可以设计修复系统来处理污染区域。为了配置整个系统的适当设计，可以评估许多因素。例如，但不限于此，在设计适当的修复系统来处理污染区域时，可考虑以下因素：

需要修复的底板的区域；

臭氧、UV光和/或OH注入点位216的影响半径218；

注入点位的深度；

所需的臭氧和/或OH的质量；

臭氧、UV光和/或OH施加率(application rate)；

臭氧、UV光和/或OH注入模式(连续地或脉冲地以及间隔时间)；

所需的臭氧、UV光和/或OH生成设备的类型；

所需的钻井设备类型；

所需的用于注入点位的导管类型和导管及相关筛网的尺寸；

所需的管道、歧管、电线和电功率；

是否需要UV光和/或OH对臭氧注入的协同效应，以及UV光所需的波长及其施加区域(如果需要UV光)和所需的OH施加率(如果需要OH注入)；

底板和室内空气中所需的臭氧监测；

完成修复所需的时间；以及

适当的确认采样。

在方框306中设计的修复系统中，可以实施修复系统并且可以执行修复过程。这里，注入点位216可以在期望的位置钻孔并且钻到期望的深度。可以安装臭氧单元114和导管128，并且可以在每个注入点位处设置提升管130和筛网132。一旦安装了设备，就可以在每个注入位置对应于先前确定的所需的臭氧质量、施加率和完成臭氧修复所需时间施加臭氧，以及UV光和OH(如果需要的话)。

修复过程可以取决于建筑物类型或尺寸。此外，污染物类型可能会影响整个过程。现在将描述在干洗建筑物上实施的修复系统和过程的示例，以进一步说明如何针对给定污染区域执行系统和过程。

示例

在一个示例中，底板场地勘察(SSI：Sub-Slab Site Investigation)鉴定了先前用于高浓度氯化挥发性有机化合物(cVOCs)干洗建筑物下的渗流土壤，特别是在以前的干洗机器区域。在底板蒸汽侵入采样(即土壤气体)中所报告的，建筑物下的底板和土壤中的cVOCs可能是升高浓度的主要来源。考虑到处理建筑物下的渗流土壤的难度以及建筑物占用情况，修复人员评估了多种可选修复方案，以处理建筑物下渗流土壤中的cVOCs污染。作为评估建筑物的一部分，工作人员建议安装臭氧注入系统，以有利地攻击以前源区域以下的cVOCs。臭氧注入系统将针对原有干洗机器所在的底板蒸汽和浅层渗流土壤。臭氧注入系统的目标是将浅层土壤/土壤气体中的cVOCs减少到一定水平，以使场地关闭不需要建筑物的蒸汽缓解系统或连续监测。

至于该项目的范围，过去对建筑物下的底板蒸汽进行采样，报告为四氯乙烯(PCE)的浓度远高于监管蒸汽暴露室内空气(IA)筛选水平(SLs)，当调整为通过底板衰减，适用于本场地的商业/工业用途场景。根据这一数据评估和监管指导，确定必须对建筑物下方的底板蒸汽和浅层渗流土壤进行修复。

接下来考虑使用臭氧注入系统来进行污染区域的修复。为此，建议对干洗机器所在的建筑物下的底板材料和土壤进行“热点”(hot-spot)处理。所提出的用于处理底板材料和土壤的修复方法包括将臭氧气体注入建筑物底板下方的cVOCs影响的土壤中。通过这种方法，臭氧将直接氧化气态的、游离的、被吸附的和被溶解的cVOCs，并将其转化为二氧化碳和水。臭氧能够与土壤和土壤气体中的cVOCs反应，并提供快速的处理时间和处理高浓度污染物的能力。

对于建筑物下方的处理，柜式臭氧发生单元位于建筑物内。虽然较大的单元可以在市场上买到，但是设计处理占地面积的臭氧单元具有产生53克/小时(或2.75磅/天)臭氧的能力。该单元的最大压力为50磅/平方英寸(psi)，且最大流量可达每分钟4立方英尺(CFM)。注入的气体是臭氧和氧气，或臭氧、氧气和环境空气的混合物。使用原位(in-situ)臭氧注入点位(OIPs)，该单元经由计算机控制的阀门歧管以受控的持续时间和顺序释放臭氧气体多达20个OIP(例如，每个OIP注射30分钟)。在每个OIP的注入后(一个循环)，操作暂停，然后重复OIP注入循环。循环规范是现场确定的。柜式臭氧装置的占地面积约为2x4英尺(英尺)，高度为5英尺。操作所需的唯一公用设施连接是电气(即，230VAC，30安培)。

在修复过程中，在建筑物内安装了总共20个OIP，并完成按照渗透土壤点位，安装在底板平面下方3英尺深处。OIP的设计和数量基于底板填充材料的特定场地(site-specific)特征，臭氧单元的容量和建筑物的使用。OIP(中心间距5至6英尺，深度1至3英尺)以前机器所在的底板和浅层土壤cVOCs为目标。OIP位置和筛网深度需要根据遇到的现场条件进行调整。

每个OIP使用6英寸不锈钢筛网、直径为1/4英寸的刚性导管和连接到地面上的柔性导管的压力接头构建。将一包玻璃珠放置在筛网周围并稍微高于筛网，然后是膨润土-水泥浆(bentonite-cement grout)封条，然后是混凝土将OIP密封在地板表面。OIP不锈钢提升管和接头连接到1/2英寸臭氧兼容的柔性导管，而导管连接到臭氧单元上的歧管。将柔性导管捆扎并沿着壁的底部运行到位于建筑物的东/东北部分的臭氧单元，该臭氧单元用于储存。

对于臭氧处理，总共20个OIP连接到臭氧单元歧管并配置用于臭氧注入。臭氧单元的操作是24小时/天，7天/周，持续一个月。在一个月的处理期间，这种操作场景导致每个OIP中大约总共36小时的间歇性臭氧注入。如上所述，图2中示出了OIP布局的示例。

在启动臭氧系统安装之前，使用电磁(EM)和地面穿透雷达(GPR)设备进行地球物理调查，以试图验证在所提出的注入点位置中是否存在公用设施。

启动后，操作、维护和监控(OM&M)阶段被启动。为供应商提供的手册编写了OM&M手册补充，其中描述了特定场地的设置和操作。在运行的第一周，每天由合适的现场工程师检查臭氧系统操作，以确保其按照规范运行。在运营期间，每五到七天持续一次检查。根据需要进行臭氧装置的维护，包括更换过滤器和其他供应商提供的消耗品。

在每次检查期间，对该系统进行泄漏、建筑物内部中的臭氧浓度、系统的操作流程和压力以及整体功能监控。系统设计包括可编程逻辑控制器(PLC)，其监控和控制系统操作，系统操作包括检测建筑物内的臭氧泄漏，以及在室内空气水平升高(臭氧水平>0.01ppm)时自动关闭系统。臭氧水平升高的检测还包括频闪灯(strobe lamp)、可听喇叭(audible horn)和蜂窝遥测系统(cellular telemetry)通知。在操作的第一周期间，每天检查系统是否发生臭氧泄漏，然后在整个操作期间至少每周检查一次。使用能够检测到(0.001ppm)的手持式臭氧监测装置完成臭氧泄漏检查。臭氧的OSHA PEL和NIOSH REL为0.1ppm。

通过对底板和室内空气样品的成对蒸汽侵入取样确定了底板表面的臭氧注入的处理效果。在系统启动(基线条件)之前进行采样，然后在运行两周之后进行采样，最后在关闭处理操作之后进行采样。在臭氧系统关闭两天后进行两周和最后的取样事件，并从四个底板蒸汽点位加一个室内样品和一个外部样品(六个样品)收集样品。使用方法TO-15收集样品并分析cVOCs。

在处理操作期间和操作后的底板蒸汽取样评估之后，编写了临时修复总结报告。该报告总结了底板处理系统的设备、安装、操作和取样结果。摘要报告包括指示设备和监测点位置的数字，以及总结操作和处理结果的表格。总结报告是作为用于监管提交和关闭臭氧处理系统的独立报告编写的。

底板处理系统计划运行一个月。达到一个月后，所有设备的使用都被停止。处理系统的平衡被关闭，断开/加盖，并存储在待处理后的取样和评估。OIPs已关闭但未被放弃，以防需要额外的臭氧注入。在所有注入结束时，OIP将被废弃，并且混凝土地板和其他受干扰的区域恢复到预安装条件。

设计完成和安装处理系统(即臭氧系统和相关设备)大约需要四周。系统启动在一天进行，进行定期监控，故障排除和操作调整。臭氧注入发生一个月，每周检查一次。臭氧系统的停运(decommissioning)在一天内完成。在每一天进行底板和蒸汽侵入采样事件(处理前，中期和后处理)(每个事件8小时)。通过比较前，中和后修复采样事件的分析结果，已观察到底板采样位置中cVOCs的显著降解。在预修复采样事件期间，在四个底板采样位置报告了高于商业/工业筛选水平的底板PCE浓度。在一个月的臭氧处理后，两个取样位置的PCE浓度已成功降至商业/工业筛选水平以下。一个月的臭氧处理已经实现了这些区域中的修复目标。在其他两个底板取样位置报告的修复后PCE浓度显示预处理值减少了约50％。

提供前面的示例仅用于说明如何实施修复过程和系统以处理底板污染物。可以执行附加因素或步骤作为整个过程的一部分。例如，可能需要在一个或多个位置重复施加臭氧。而且，可以确定需要额外的注入位置来充分地处理整个污染区域。可能需要进一步采样和检测处理后的污染，以确定先前处理的有效性。可以执行随后的修复过程，直到污染区域被完全处理，或者至少处理到确定满足政府指导方针的程度。无论如何，已经发现臭氧修复是处理底板有毒蒸汽和其他污染物的有效工具。同样，臭氧修复可用于其他区域，例如底板上方建筑物空间的内部。或者，它可以与处理位于混凝土底板下面和/或附近的水下地下水和土壤结合使用。在某些情况下，它可用于处理位于主要居住空间或居住空间下方的窄小空间(crawl space)、地下室或其他区域。

虽然已经在上文中描述了结合本公开的原理的实施例，但是本公开不限于所描述的实施例。相反，本申请旨在涵盖使用其一般原理的本公开的任何变化、使用或改编。此外，本申请旨在覆盖本公开内容的这种偏离，这些偏离属于本公开所属领域的已知或惯常实践，并且落入所附权利要求的限制内。

Claims (20)

1.一种修复系统，其用于执行处理建筑物的底板下方区域内的污染物的修复过程，所述修复系统包括：

用于生成一定量臭氧的臭氧单元；

限定在所述底板区域内的多个注入位置，其中所述多个注入位置的每个与所述注入位置的另一个间隔预定距离；

定位在所述多个注入位置的每个处的提升管，所述提升管具有限定长度，所述限定长度配置为从所述底板的上表面延伸到所述底板下方的位置，其中所述提升管包括在所述底板下方的位置处的出口；以及

耦接在所述臭氧单元和所述提升管之间的导管；

其中，在所述修复过程中，所述臭氧单元被设置在其启用位置，以分配臭氧通过所述导管和所述提升管；

此外，其中，所述臭氧在所述多个注入分区的每个处离开所述提升管的所述出口，并在所述底板的下方区域中扩散以处理位于其附近的污染物。

2.根据权利要求1所述的修复系统，进一步包括通过所述臭氧扩散区域限定在所述每个注入分区的多个施加分区，其中所述多个施加分区的每个与所述多个施加分区的另一个至少部分重叠。

3.根据权利要求1所述的修复系统，进一步包括耦接在所述提升管的所述出口附近的筛网。

4.根据权利要求1所述的修复系统，进一步包括用于发射UV光的UV光单元，所述UV光单元耦接至所述多个注入分区的每个上，用于在所述多个注入分区的每个处连同所述臭氧发射UV光。

5.根据权利要求4所述的修复系统，其中所述UV光单元耦接至所述提升管，用于在所述底板的下方区域内与所述臭氧单元分配臭氧的同时发射UV光。

6.根据权利要求1所述的修复系统，进一步包括用于生成氢氧自由基的氢氧自由基(OH)单元，所述氢氧基单元耦接到所述多个注入分区的每个，用于在所述多个注入分区的每个处连同所述臭氧供应氢氧自由基。

7.根据权利要求1所述的修复系统，进一步包括：

用于发射UV光的UV光单元，所述UV光单元被耦接到所述多个注入分区的每个，用于在所述多个注入分区的每个处连同臭氧发射UV光；

用于生成氢氧自由基的氢氧基(OH)单元，所述氢氧基单元耦接到所述多个注入分区的每个，用于在所述多个注入分区的每个处连同所述臭氧供应氢氧自由基；

其中，所述UV光单元与氢氧基单元可操作地耦接到所述提升管，以与所述臭氧单元分配臭氧至所述多个注入位置的每个的同时发射UV光和氢氧自由基。

8.一种处理建筑物的底板下方区域内的污染物的方法，其中所述底板位于第一碎石层和第二土壤层的上方，所述方法包括：

提供臭氧单元、提升管和导管；

检测需要处理污染物的所述底板下方的区域；

在所述底板内形成孔以限定注入位置；

在所述注入位置处的所述孔内定位所述提升管；

在所述臭氧单元和所述提升管之间耦接所述导管；以及

从所述臭氧单元分配臭氧流过所述导管和所述提升管，以处理所述底板的下方区域内的污染物。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述定位步骤包括将所述提升管的第一端定位在所述底板的上表面处或上方，并且将第二端定位在所述底板下方的位置。

10.根据权利要求9所述的方法，进一步包括将所述第二端设置在所述第一碎石层内或所述第二土壤层内。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，所述形成步骤包括在所述底板的下方区域内限定多个注入位置。

12.根据权利要求11所述的方法，进一步包括将所述多个注入位置中的每个彼此隔开预定距离。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述分配步骤可以包括在所述多个注入位置的每个处形成臭氧施加分区，其中形成在所述多个注入位置的每个处的所述施加分区与形成在所述多个注入位置的另一个处的另一个施加分区至少部分地重叠。

14.根据权利要求8所述的方法，进一步包括通过耦接在所述底板的下方区域中的所述提升管的出口处的筛网扩散臭氧。

15.根据权利要求8所述的方法，进一步包括：

提供UV光单元；

将所述UV光单元耦接到所述注入位置；以及

从所述UV光单元发射UV光到所述底板的下方区域内。

16.根据权利要求8所述的方法，进一步包括：

提供氢氧基单元；

将所述氢氧基单元耦接到所述注入位置；

从所述氢氧基单元供应氢氧自由基到所述底板的下方区域内。

17.一种处理建筑物的底板下方区域内的污染物的方法，其中所述底板位于第一碎石层和第二土壤层的上方，所述方法包括：

提供臭氧单元、UV光单元、氢氧基单元和提升管；

检测所述底板下方的区域是否需要修复位于其周围的任何污染物；

如果检测到污染物，确定处理所述底板下方的区域所需的注入位置的数量和位置；

在所述底板中形成孔以限定每个注入位置；

在所述注入位置处的所述孔内定位所述提升管；

将所述臭氧单元、所述UV光单元和所述氢氧基单元耦接到每个注入位置；以及

在所述底板的下方区域中通过从所述臭氧单元分配臭氧、从所述UV光单元发射UV光以及从所述氢氧基单元供应氢氧自由基来处理所述污染物。

18.根据权利要求17所述的方法，其中所述处理步骤包括同时地从所述臭氧单元分配臭氧、从所述UV光单元发射UV光以及从所述氢氧基单元供应氢氧自由基。

19.根据权利要求17所述的方法，进一步包括将每个注入位置彼此隔开预定距离，以使在一个注入位置处分配的臭氧、发射的UV光以及供应的氢氧自由基与相邻的注入位置处分配的臭氧、发射的UV光以及供应的氢氧自由基重叠。

20.根据权利要求17所述的方法，进一步包括将导管从所述臭氧单元、所述UV光单元和所述氢氧基单元耦接至每个注入位置处的所述提升管。