CN110166676B - 一种成像设备、成像控制方法、电子装置和介质 - Google Patents

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Abstract

一种成像设备、成像控制方法、电子装置和介质，其中，成像设备包括：液晶透镜组件、图像传感组件和处理组件，图像传感组件位于液晶透镜组件的出光侧；图像传感组件用于根据液晶透镜组件射出的光线成像，还用于采集自身每一时刻接收到的光线量；处理组件，分别与图像传感组件和液晶透镜组件连接，用于根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量，根据光线总量获得电压信号，并将电压信号加载在液晶透镜组件上，以调整液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。本申请通过调节图像传感组件的光效率提高图像传感组件的动态范围，从而改善了拍摄照片的拍摄效果。

Description

一种成像设备、成像控制方法、电子装置和介质
技术领域
本文涉及成像技术领域，具体涉及一种成像设备、成像控制方法、电子装置和介质。
背景技术
现代人们的生活喜爱用拍照的形式记录生活，摄影无论作为职业还是一种兴趣越来越受到重视。相关技术中，用户采用成像设备进行拍摄，成像设备包括：图像传感器和液晶透镜，液晶透镜用于将光线聚焦到图像传感器上。
经发明人研究发现，相关技术中的成像设备中的图像传感器的光效率极易达到饱和，进而使得图像传感器的动态范围降低，从而影响了拍摄照片的拍摄效果。
发明内容
本申请提供了一种成像设备、成像控制方法、电子装置和介质，能够通过调节图像传感器的光效率调节图像传感器的动态范围，进而改善了拍摄照片的拍摄效果。
第一方面，本申请提供了一种成像设备，包括：液晶透镜组件、图像传感组件和处理组件，所述图像传感组件位于所述液晶透镜组件的出光侧；
所述图像传感组件用于根据所述液晶透镜组件射出的光线成像，还用于采集自身每一时刻接收到的光线量；
所述处理组件，分别与所述图像传感组件和所述液晶透镜组件连接，用于根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量，根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。
可选地，所述液晶透镜组件包括：第一液晶透镜阵列和第二液晶透镜阵列，所述第一液晶透镜阵列和所述第二液晶透镜阵列均包括：液晶分子；
所述第二液晶透镜阵列位于所述第一液晶透镜阵列靠近所述图像传感组件的一侧，所述第一液晶透镜阵列的液晶分子取向与所述第二液晶透镜阵列的液晶分子取向相互垂直。
可选地，所述处理组件，分别与所述第一液晶透镜阵列和所述第二液晶透镜阵列连接，用于将所述电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列和/或所述第二液晶透镜阵列上。
可选地，所述液晶透镜组件射出的光线包括：第一光线和第二光线；所述图像传感组件包括：感应区和非感应区，所述非感应区围绕所述感应区；
所述处理组件具体用于判断所述光线总量是否小于阈值总量，在所述光线总量小于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，将所述第一电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以将所述第一光线的聚焦位置调整至所述感应区，将所述第二电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以将所述第二光线的聚焦位置调整至所述感应区。
可选地，所述处理组件具体还用于在所述光线总量大于或者等于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第三电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以使得第一光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第四电压信号，并将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离。
第二方面，本申请还提供一种成像控制方法，应用于上述成像设备中，所述方法包括：
根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量；
根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。
可选地，所述根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置包括：
判断所述光线总量是否小于阈值总量，在所述光线总量小于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，并将所述第一电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以将所述第一光线的聚焦位置调整至所述感应区，将所述第二电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以将所述第二光线的聚焦位置调整至所述感应区。
可选地，所述根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置还包括：
在所述光线总量大于或者等于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第三电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以使得第一光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第四电压信号，并将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离。
第三方面，本申请提供一种电子装置，包括：上述成像设备。
第四方面，本申请还提供一种介质，其上存储有可在处理器上运行的计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时实现上述成像控制方法的步骤。
本申请提供一种成像设备、成像控制方法、电子装置和介质，其中，成像设备包括：液晶透镜组件、图像传感组件和处理组件，图像传感组件位于液晶透镜组件的出光侧；图像传感组件用于根据液晶透镜组件射出的光线成像，还用于采集自身每一时刻接收到的光线量；处理组件，分别与图像传感组件和液晶透镜组件连接，用于根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量，根据光线总量获得电压信号，并将电压信号加载在液晶透镜组件上，以调整液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。本申请通过设置处理组件根据图像传感组件接收到的光线总量调整液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置，调整了图像传感组件的光效率，进而能够通过调节图像传感组件的光效率提高图像传感组件的动态范围，从而改善了拍摄照片的拍摄效果。
本申请的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本申请而了解。本申请的其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所描述的方案来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本申请技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本申请的技术方案，并不构成对本申请技术方案的限制。
图1为本申请实施例提供的成像设备的结构示意图一；
图2为本申请实施例提供的成像设备的结构示意图二；
图3为本申请实施例提供的成像设备的光路图一；
图4为本申请实施例提供的成像设备的光路图二；
图5为本申请实施例提供的成像设备的光路图三；
图6为本申请实施例提供的成像设备的光路图四；
图7为本申请实施例提供的成像设备的光路图五；
图8为本申请实施例提供的成像设备的光路图六；
图9为本申请实施例提供的图像传感组件的俯视图；
图10为本申请实施例提供的成像控制方法的流程图。
具体实施方式
本申请描述了多个实施例，但是该描述是示例性的，而不是限制性的，并且对于本领域的普通技术人员来说显而易见的是，在本申请所描述的实施例包含的范围内可以有更多的实施例和实现方案。尽管在附图中示出了许多可能的特征组合，并在具体实施方式中进行了讨论，但是所公开的特征的许多其它组合方式也是可能的。除非特意加以限制的情况以外，任何实施例的任何特征或元件可以与任何其它实施例中的任何其他特征或元件结合使用，或可以替代任何其它实施例中的任何其他特征或元件。
本申请包括并设想了与本领域普通技术人员已知的特征和元件的组合。本申请已经公开的实施例、特征和元件也可以与任何常规特征或元件组合，以形成由权利要求限定的独特的发明方案。任何实施例的任何特征或元件也可以与来自其它发明方案的特征或元件组合，以形成另一个由权利要求限定的独特的发明方案。因此，应当理解，在本申请中示出和/或讨论的任何特征可以单独地或以任何适当的组合来实现。因此，除了根据所附权利要求及其等同替换所做的限制以外，实施例不受其它限制。此外，可以在所附权利要求的保护范围内进行各种修改和改变。
此外，在描述具有代表性的实施例时，说明书可能已经将方法和/或过程呈现为特定的步骤序列。然而，在该方法或过程不依赖于本文所述步骤的特定顺序的程度上，该方法或过程不应限于所述的特定顺序的步骤。如本领域普通技术人员将理解的，其它的步骤顺序也是可能的。因此，说明书中阐述的步骤的特定顺序不应被解释为对权利要求的限制。此外，针对该方法和/或过程的权利要求不应限于按照所写顺序执行它们的步骤，本领域技术人员可以容易地理解，这些顺序可以变化，并且仍然保持在本申请实施例的精神和范围内。
除非另外定义，本发明实施例公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述的对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
本申请的一些实施例提供了一种成像设备，图1为本申请实施例提供的成像设备的结构示意图一，如图1所示，本申请实施例提供的成像设备包括：液晶透镜组件10、图像传感组件20和处理组件30，图像传感组件20位于液晶透镜组件10的出光侧。
具体的，图像传感组件20用于根据液晶透镜组件10射出的光线成像，还用于采集自身每一时刻接收到的光线量；处理组件30，分别与图像传感组件20和液晶透镜组件10连接，用于根据图像传感组件20每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件20在阈值时间段内接收到的光线总量，根据光线总量获得电压信号，并将电压信号加载在液晶透镜组件10上，以调整液晶透镜组件10射出的光线的聚焦位置。
可选地，图像传感组件20包括：补金属氧化物半导体(Complementary MetalOxide Semiconductor，简称CMOS)图像传感器或者电荷耦合器件(Charge CoupledDevice，简称CCD)图像传感器。
可选地，处理组件30可以通过执行逻辑运算的处理器实现，例如中央处理器(Central Processing Unit，简称CPU)、现场可编程逻辑阵列(Field-Programmable GateArray，简称FPGA)、数字信号处理器(Digital Signal Processing，简称DSP)、单片机(Microcontroller Unit，简称MCU)等具有数据处理能力和/或程序执行能力的器件。
在具体实施时，通常可将液晶透镜组件10与图像传感组件20所在平面平行设置，可简化液晶透镜组件的成像光路，或者，根据需要将液晶透镜组件10与图像传感组件20所在平面呈预设角度倾斜设置，在此不做限定。
具体的，本申请实施例中，液晶透镜组件10射出的光线的聚焦位置调整了，图像传感组件20的光效率也会随之发生变化，进而能够改变图像传感组件20的动态范围。
可选地，阈值时间段可以为任意时间范围，本申请实施例对此不作任何限定，具体根据实际情况确定。
本申请实施例提供的成像设备包括：液晶透镜组件、图像传感组件和处理组件，图像传感组件位于液晶透镜组件的出光侧；图像传感组件用于根据液晶透镜组件射出的光线成像，还用于采集自身每一时刻接收到的光线量；处理组件，分别与图像传感组件和液晶透镜组件连接，用于根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量，根据光线总量获得电压信号，并将电压信号加载在液晶透镜组件上，以调整液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。本申请通过设置处理组件根据图像传感组件接收到的光线总量调整液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置，调整了图像传感组件的光效率，进而能够通过调节图像传感组件的光效率调节图像传感组件的动态范围，进而改善了拍摄照片的拍摄效果。
可选地，图2为本申请实施例提供的成像设备的结构示意图二，如图2所示，本申请实施例提供的成像设备中的液晶透镜组件10包括：第一液晶透镜阵列11和第二液晶透镜阵列12，第一液晶透镜阵列11和第二液晶透镜阵列12均包括：液晶分子。
其中，第二液晶透镜阵列12位于第一液晶透镜阵列11靠近图像传感组件20的一侧，第一液晶透镜阵列11的液晶分子取向与第二液晶透镜阵列12的液晶分子取向相互垂直。
具体的，射入液晶透镜组件10的光线先经过第一液晶透镜阵列11，再经过第二液晶透镜阵列12，从第二液晶透镜阵列12射出的光线入射到图像传感组件20中。
可选地，第一液晶透镜阵列11和第二液晶透镜阵列12均有多个子液晶透镜组成。各子液晶透镜包括：第一透明电极、第二透明电极和设置在第一透明电极和第二透明电极之间的液晶层，处理组件各子液晶透镜的第一透明电极和第二透明电极之间施加电压信号，可以使得位于第一透明电极和第二透明电极之间的液晶分子偏转，使得各子液晶透镜的曲率发生变化，进而调整了液晶透明组件的射出的光线的聚焦位置。
可选地，在具体实施时，在本申请实施例提供的成像设备中，组成第一液晶透镜阵列和第二液晶透镜阵列的各子液晶透镜所占面积可以相同，也可以不同。各子液晶透镜所占面积一致，便于对各子液晶透镜对应的子电极编辑施加的电压信号，本申请实施例对此不作任何限定。
可选地，如图2所示，本申请实施例提供的成像组件中的处理组件30，分别与第一液晶透镜阵列11和第二液晶透镜阵列12连接，用于将电压信号加载在第一液晶透镜阵列11和/或第二液晶透镜阵列12上。
具体的，当光线经过第一液晶透镜阵列11后，其被分成寻常光和非寻常光，其中，经过第一液晶透镜阵列11后产生的非寻常光的聚焦位置能被加载在第一液晶透镜阵列11上的电压信号所调节，由于第二液晶透镜阵列12的液晶分子取向方向与第一液晶透镜阵列11垂直，因此，第一液晶透镜阵列11的射出的寻常光经过第二液晶透镜阵列12之后形成非寻常光，其中，经过第一液晶透镜阵列11后产生的寻常光的聚焦位置能被加载在第二液晶透镜阵列12上的电压信号所调节，这样通过液晶分子取向方向相互垂直的双层液晶透镜阵列就能任意调节从液晶透镜阵列射出的光线的聚焦位置。
可选地，图3为本申请实施例提供的成像设备的光路图一，图4为本申请实施例提供的成像设备的光路图二，图5为本申请实施例提供的成像设备的光路图三，图6为本申请实施例提供的成像设备的光路图四，图7为本申请实施例提供的成像设备的光路图五，图8为本申请实施例提供的成像设备的光路图六，图9为本申请实施例提供的图像传感组件的俯视图，如图3～9所示，本申请实施例提供的成像设备中的液晶透镜组件射出的光线包括：第一光线A1和第二光线A2，本申请实施例提供的成像设备中的图像传感组件20包括：感应区AA和非感应区BB，非感应区BB围绕感应区AA设置。
其中，第一光线A1为非寻常光，第二光线A2为寻常光。
具体的，处理组件30具体用于判断光线总量是否小于阈值总量，在光线总量小于阈值总量的状态下，根据光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，将第一电压信号加载在第一液晶透镜阵列11上，以将第一光线A1的聚焦位置调整至感应区AA，将第二电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以将第二光线A2的聚焦位置调整至感应区AA。
需要说明的是，图3是以光线总量小于阈值总量为例进行说明的，当光线总量小于阈值总量时，将第一光线A1和第二光线A2的聚焦位置调整至感应区AA，以增大图像传感组件20的光效率。
可选地，处理组件30具体用于在光线总量大于或者等于阈值总量的状态下，根据光线总量获得第三电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列11上，以使得第一光线A1的聚焦位置与液晶透镜组件10之间的距离H大于或者小于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h。
或者，根据光线总量获得第四电压信号，并将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列12上，以使得第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件10之间的距离H大于或者小于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h。
或者，根据光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离h。
具体的，本申请实施例中将第一光线和/或第二光线的聚焦位置调整至第一光线和/或第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离h，能够减小液晶透镜组件对第一光线和第二光线的汇聚作用，进而降低图像传感组件的光效率。
需要说明的是，图4～8均是以光线总量大于或者等于阈值总量为例进行说明的，本申请实施例通过当图像传感组件在阈值时间内的光线总量超过阈值总量时，处理组件调节加载在第一液晶透镜阵列和/或第二液晶透镜阵列上的电压信号，能够使得第一光线和/或第二光线的聚焦位置远离感应区AA，进而降低图像传感组件的光效率，从而提高了图像传感组件的动态范围，需要说明的是，图3至图8中的任意两个图之间的变化过程是一个连续的过程。
需要说明的是，图4是以处理组件30根据光线总量获得第三电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列11上，以使得第一光线A1的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H大于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h为例进行说明的，需要说明的是，还可以通过调整第三电压信号，使得第一光线A1的聚焦位置与液晶透镜组件10之间的距离H小于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h。
需要说明的是，图5是以处理组件30根据光线总量获得第四电压信号，并将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列12上，以使得第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H大于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h为例进行说明的，需要说明的是，还可以通过调整第四电压信号，使得第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件10之间的距离H小于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h。
需要说明的是，图6是以处理组件30根据光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列11上，将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列12上，以使得第一光线A1和第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H均大于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h为例进行说明的，图6提供的成像设备的光路图通过增大第一光线A1和第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H从而减小了液晶透镜组件对第一光线A1和第二光线A2的汇聚作用，第一光线和第二光线照射到图像传感组件上形成的光斑将会变大，只有照射到感应区的光线的能量被收集，图像传感组件的光效率变小，此时，图像传感组件的光效率等于(感应区面积/第一光线的光斑面积+感应区面积/第二光线的光斑面积)/2。
图7是以第一光线A1和第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H均小于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h为例进行说明的。图7提供的成像设备的光路图通过减小第一光线A1和第二光线A2的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H，从而减小了液晶透镜组件对第一光线和第二光线的汇聚作用，此时第一光线和第二光线照射到图像传感组件上形成的光斑将会变大，只有照射到感应区的光线的能量被收集，图像传感组件的光效率变小，此时图像传感组件的光效率等于(感应区面积/第一光线的光斑面积+感应区面积/第二光线的光斑面积)/2。
需要说明的是，图8是以第一光线A1和第二光线A2中的其中一个光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H小于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h，另一个光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离H大于液晶透镜组件10与图像传感组件20之间的距离h为例进行说明的，图8提供的成像设备的光路图减小了液晶透镜组件对第一光线和第二光线的汇聚作用，此时，第一光线和第二光线照射到图像传感组件上形成的光斑将会变大，只有照射到感应区的光能量被收集，此时图像传感组件的光效率等于(感应区面积/第一光线的光斑面积+感应区面积/第二光线的光斑面积)/2。
下面进一步说明本申请实施例提供的成像设备的工作方法，具体说明如下：
在成像初始阶段，获得图像传感组件在阈值时间内的光线总量，根据光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，将第一电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，以将第一光线的聚焦位置调整至感应区，将第二电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以将第二光线的聚焦位置调整至感应区，判断光线总量是否小于阈值总量，在光线总量小于阈值总量的状态下，根据光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，将第一电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，将第二电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以将第一光线和第二光线的聚焦位置继续调整至感应区，在光线总量大于或者等于阈值总量的状态下，根据光线总量获得第三电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，以使得第一光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；或者，根据光线总量获得第四电压信号，并将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以使得第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；或者，根据光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离。
基于同一发明构思，本申请一些实施例还提供一种成像控制方法，应用于前述的成像设备中，图10为本申请实施例提供的成像控制方法的流程图，如图10所示，本申请实施例还提供的成像控制方法具体包括以下步骤：
步骤S1、根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得阈值时间段内接收到的光线总量。
可选地，阈值时间段可以为任意时间范围，本申请实施例对此不作任何限定，具体根据实际情况确定。
步骤S2、根据光线总量获得电压信号，并将电压信号加载在液晶透镜组件上，以调整液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。
本申请实施例提供的成像控制方法应用于前述实施例提供的成像设备中，其实现原理和实现效果类似，在此不再赘述。
可选地，本申请实施例提供的成像控制方法的步骤S2包括：判断光线总量是否小于阈值总量，在光线总量小于阈值总量的状态下，根据光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，并将第一电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，以将第一光线的聚焦位置调整至感应区，将第二电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以将第二光线的聚焦位置调整至感应区。
可选地，本申请实施例提供的成像控制方法的步骤S2还包括：在光线总量大于或者等于阈值总量的状态下，根据光线总量获得第三电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，以使得第一光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；或者，根据光线总量获得第四电压信号，并将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以使得第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；或者，根据光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将第三电压信号加载在第一液晶透镜阵列上，将第四电压信号加载在第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离。
基于同一发明构思，本申请一些实施例还提供一种电子装置，该电子装置包括：成像设备。
其中，成像设备为前述实施例提供的成像设备，其实现原理和实现效果类似，在此不再赘述。
基于同一发明构思，本申请一些实施例还提供一种介质，其上存储有可在处理器上运行的计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现成像控制方法的步骤。
其中，成像控制方法为前述实施例提供的成像控制方法，其实现原理和实现效果类似，在此不再赘述。
本发明实施例附图只涉及本发明实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种成像设备，其特征在于，包括：液晶透镜组件、图像传感组件和处理组件，所述图像传感组件位于所述液晶透镜组件的出光侧；
所述图像传感组件用于根据所述液晶透镜组件射出的光线成像，还用于采集自身每一时刻接收到的光线量；
所述处理组件，分别与所述图像传感组件和所述液晶透镜组件连接，用于根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量，根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。
2.根据权利要求1所述的成像设备，其特征在于，所述液晶透镜组件包括：第一液晶透镜阵列和第二液晶透镜阵列，所述第一液晶透镜阵列和所述第二液晶透镜阵列均包括：液晶分子；
所述第二液晶透镜阵列位于所述第一液晶透镜阵列靠近所述图像传感组件的一侧，所述第一液晶透镜阵列的液晶分子取向与所述第二液晶透镜阵列的液晶分子取向相互垂直。
3.根据权利要求2所述的成像设备，其特征在于，所述处理组件，分别与所述第一液晶透镜阵列和所述第二液晶透镜阵列连接，用于将所述电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列和/或所述第二液晶透镜阵列上。
4.根据权利要求3所述成像设备，其特征在于，所述液晶透镜组件射出的光线包括：第一光线和第二光线；所述图像传感组件包括：感应区和非感应区，所述非感应区围绕所述感应区；
所述处理组件具体用于判断所述光线总量是否小于阈值总量，在所述光线总量小于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，将所述第一电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以将所述第一光线的聚焦位置调整至所述感应区，将所述第二电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以将所述第二光线的聚焦位置调整至所述感应区。
5.根据权利要求4所述的成像设备，其特征在于，所述处理组件具体还用于在所述光线总量大于或者等于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第三电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以使得第一光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第四电压信号，并将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离。
6.一种成像控制方法，其特征在于，应用于如权利要求1～5任一项所述的成像设备中，所述方法包括：
根据图像传感组件每一时刻接收到的光线量，获得图像传感组件在阈值时间段内接收到的光线总量；
根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述液晶透镜组件包括：第一液晶透镜阵列和第二液晶透镜阵列；所述液晶透镜组件射出的光线包括：第一光线和第二光线；所述图像传感组件包括：感应区和非感应区，所述非感应区围绕所述感应区；
所述根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置包括：
判断所述光线总量是否小于阈值总量，在所述光线总量小于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第一电压信号和第二电压信号，并将所述第一电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以将所述第一光线的聚焦位置调整至所述感应区，将所述第二电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以将所述第二光线的聚焦位置调整至所述感应区。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述根据所述光线总量获得电压信号，并将所述电压信号加载在所述液晶透镜组件上，以调整所述液晶透镜组件射出的光线的聚焦位置还包括：
在所述光线总量大于或者等于所述阈值总量的状态下，根据所述光线总量获得第三电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，以使得第一光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第四电压信号，并将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离；
或者，根据所述光线总量获得第三电压信号和第四电压信号，并将所述第三电压信号加载在所述第一液晶透镜阵列上，将所述第四电压信号加载在所述第二液晶透镜阵列上，以使得第一光线和第二光线的聚焦位置与液晶透镜组件之间的距离大于或者小于所述液晶透镜组件与图像传感组件之间的距离。
9.一种电子装置，其特征在于，包括：如权利要求1～5任一项所述的成像设备。
10.一种介质，其特征在于，其上存储有可在处理器上运行的计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时实现如权利要求6～8任一项所述的成像控制方法的步骤。
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