CN110094415A - 微型滑座构造及线性滑轨 - Google Patents
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
Abstract
本发明为一种微型滑座构造及线性滑轨,该线性滑轨包含该滑座与一轨件,该滑座跨置在该轨件上,如此,该滑座可在该轨件上作往复运动。其中,该轨件沿一方向延伸;该滑座则包括一平台以及由该平台延伸的二脚部,该滑座凭借该脚部跨置在该滑轨上,而该平台有一安装面用一安装一工作平台,凭借对该平台的安装面进行镜面加工,控制该安装面的粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间,可减少安装该工作平台时,该脚部的变形量。
Description
技术领域
本发明涉及一种有脚部的微型滑座构造,可供运用于线性滑轨或其他领域当滑座及安装面微小时,对滑座的平台的安装面进行镜面加工,控制该安装面的粗糙度,以减少安装工作平台后,滑座的脚部产生变形量的发明。本发明也是一种线性滑轨,该线性滑轨包含该微型滑座与一轨件,该微型滑座跨置于该轨件作往复运动
背景技术
参阅图2所示,线性滑轨是由一延伸长度的轨件1,以及一滑座2跨置在该轨件1上,使得该滑座2可在该轨件1上作往复式运动,再根据工作环境所需,在该滑座2的一平台21的一安装面211上再安装一工作平台3,使得该工作平台3可随着该滑座2运动,进行所需要的加工。
其中,一般而言,该滑座2制作完成时,会对该平台21的安装面211进行研磨,但研磨的方式对于粗糙度Ra的控制大约只能控制在最低0.2微米左右。
发明人发现,当该工作平台3安装在该滑座2的平台21的安装面211上且该安装面211缩小到一定程度时,该滑座2用以跨置在该轨件1上的脚部22会因为该工作平台3锁入该安装面211的力量而产生些微变形。例如图3及图4所示,根据不同的安装状况,该滑座2的脚部22会略为内缩或张开,图式中,二脚部22的原始间距为D,当该脚部22因该安装面211锁上该工作平台3而变形后的间距为d(为了能示意该滑座的脚部22的变形状况,图式中以较为夸大的变形量绘制,不代表实际产品的变形量),并且当该滑座2及该安装面211越小,则安装上该工作平台3后,该安装面211的粗糙度对于该脚部22的变形量影响越大。
参阅图5A及图5B所示,为另一种呈现该滑座2的脚部22变形所造成的影响。图5A呈现未变形的形态,当一滚动件4置入该滑座2与该轨件1之间时,该滚动件4与该滑座2的脚部22的内面之间隙为t,此间隙t是经过设计使得该滚动件4可顺畅滚动,且不会造成该滑座2震动/摇晃或运行不顺畅的现象的宽度;再如图5B所示,当该滑座2的脚部22产生变形时,例如该二脚部22变形张开,因此当该滚动件4置入该滑座2与该轨件1之间时,该滚动件4与该滑座2的脚部22的内面之间隙变大或变小为t’,因而具有间隙变化量Δt=t’-t,过大之间隙变化量Δt将造成该滑座2运行产生类似震动或摇晃的现象,造成该工作平台3的工作误差变大,影响工作精度,而过小之间隙会使滑座运行不顺畅而影响工作精度。
参阅图6所示,此种现象的原因在于,该安装面211的表面粗糙,使该工作平台3与该滑座2的平台21的安装面211之间形成多点接触,当该安装面211越小时,其粗糙度的不均匀性越明显,因此使该安装面211固锁在该工作平台3时,该安装面211受到极大应力,并且由于粗糙度的不均匀性使得力量不平均分配,造成该脚部22的变形。
对于较大的滑座有较大的安装面而言,此种表面粗糙度不均匀性会降低,且因脚部刚性变大,不易因安装面表面粗糙度而变形,所以产生的变形量可以忽略,但是对于微型滑座及安装面,此种变形量在应用上会造成精度上一定的影响,例如微型线性滑轨,此种些微的变形量便会影响工作精度的表现。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种微型滑座构造及线性滑轨,解决现有技术中存在的上述技术问题。
基于上述原因,为了克服该缺失,本发明提出一种微型滑座构造,其特征是包括:
一平台,以及由该平台延伸相对的二脚部,该平台有一安装面,该安装面的粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间。
其中,该平台的安装面是以抛光制程控制其粗糙度Ra。
本发明再提出一种线性滑轨,其特征是包括:
一轨件,沿一方向延伸;
一滑座,包括一平台,以及由该平台延伸相对的二脚部,该滑座凭借该脚部跨置在该轨件上,其中,该平台有一安装面,该安装面的粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间。
其中,该平台的安装面是以抛光制程控制其粗糙度Ra。
根据上述技术特征可达成以下功效:
经由更精密的抛光制程,控制该平台的安装面的粗糙度且不改变安装面的平面度,使得该安装面安装工作平台后,该脚部的变形量可以减少,提高该工作平台工作时的精度。
附图说明
图1是现有线性滑轨中,滑座的平台的安装面经过研磨制程,其粗糙度Ra一般大于等于0.2微米,当安装面锁上工作平台时,以及本发明的线性滑轨中,滑座的平台的安装面经过抛光制程,控制其粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间,当安装面锁上工作平台时,滑座的脚部的变形量实验数据比较图(图中:具有剖面线的块体表示未抛光平台,黑色填充块体表示抛光平台,间隙变化量=安装面锁工作平台的间隙-安装面未锁工作平台的间隙)。
图2是现有线性滑轨的构造图。
图3是现有线性滑轨的滑座的安装面在安装工作平台后,脚部变形示意图一。
图4是现有线性滑轨的滑座的安装面在安装工作平台后,脚部变形示意图二。
图5A是现有线性滑轨的滑座的安装面在安装工作平台后,正常状况下,滚动件与滑座的脚部的内面具有间隙t。
图5B是现有线性滑轨的滑座的安装面在安装工作平台后,当脚部受应力而变形张开时,滚动件与滑座的脚部的内面具有间隙t’。
图6是现有线性滑轨的滑座的安装面与工作平台之间形成多点接触的示意图。
附图标记说明:1-轨件;2-滑座;21-平台;211-安装面;22-脚部;3-工作平台;4-滚动件;D-二脚部原始间距;d-因安装面锁上工作平台后,二脚部变形后的间距;t-正常状况下滚动件与滑座的脚部的内面之间隙;t’-脚部受应力变形张开时滚动件与滑座的脚部的内面之间隙。
具体实施方式
综合上述技术特征,本发明的微型滑座构造及线性滑轨的主要功效将可于下述实施例清楚呈现,其中下列实施例虽以线性滑轨做说明,但本发明的微型滑座并非仅限于使用在线性滑轨。
本发明有关线性滑轨的实施例包括有:
一轨件,沿一方向延伸;一滑座,包括:一平台,以及由该平台延伸相对的二脚部,该滑座凭借该脚部跨置在该滑轨上,其中,该平台有一安装面,该安装面的粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间。其中,该平台的安装面是进一步以抛光制程控制其粗糙度Ra。
前述轨件与滑座的配置关系在本案背景技术已经介绍,在本实施例中,仅会呈现根据本发明的滑座的平台的安装面的粗糙度所实际实验,未锁上工作平台时与锁上工作平台后,该滑座的脚部的变形量。同时并提供现有滑座的平台的安装面,未锁上工作平台时与锁上工作平台后,该滑座的脚部的变形量,以供比对,以说明本发明的功效。
参阅图1所示,先以现有研磨方法控制其安装面的粗糙度Ra为0.2微米的一批量滑座进行实验,并以model1、model2、model3、model4不同尺寸,其中滑座安装面尺寸大小分别为160mm2,120mm2,90mm2,50mm2进行。由图中可看出,当该滑座的安装面锁上工作平台后,该滑座的脚部的变形量无规则性的分散在4微米~16微米之间。对于微型线性滑轨而言,如图5A及图5B所示,△t差异值将会产生,其中如前述Δt=t’-t是该工座平台3锁入该滑座2前该滚动件4与该滑座2的脚部22的内面之间隙t与该工座平台3锁入该滑座2后该滚动件4与该滑座2的脚部22的内面之间隙t’的差异值,因而造成间隙过大或过小,这样的差异值△t已经足以影响工作平台工作的精度。
再以本发明将此一批量model1、model2、model3、model4经过抛光制程控制其安装面的粗糙度并保持原平面度。由图中可看出,该平台的安装面经过抛光处理后,当该安装面锁上工作平台,该滑座的脚部的变形量落于0.3微米~1.2微米的内,△t差异值将变得极微小,如此可以大大提升微型线性滑轨承载工作平台后的工作精度。
以上说明对本发明而言只是说明性的,而非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下,可作出许多修改、变化或等效,但都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种微型滑座构造,其特征是包括:
一平台,以及由该平台延伸相对的二脚部,该平台有一安装面,该安装面的粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间。
2.根据权利要求1所述的微型滑座构造,其特征在于,该平台的安装面是以抛光制程控制其粗糙度Ra。
3.一种线性滑轨,其特征是包括:
一轨件,沿一方向延伸;
一滑座,包括一平台,以及由该平台延伸相对的二脚部,该滑座凭借该脚部跨置在该轨件上,其中,该平台有一安装面,该安装面的粗糙度Ra介于0.01微米至0.1微米之间。
4.根据权利要求3所述的线性滑轨,其特征在于,该平台的安装面是以抛光制程控制其粗糙度Ra。
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