CN110049218A - 柔性传感器的成像方法、装置、系统及可读存储介质 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种柔性传感器的成像方法、装置、系统及可读存储介质。该成像方法包括：步骤1：获取被摄物的预览图像；步骤2：依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。该成像方法可提高图像的外围图像区域的解析力。
Description
技术领域
本发明涉及传感器成像领域，尤其涉及一种柔性传感器的成像方法、装置、系统及可读存储介质。
背景技术
传感器在对被摄物进行成像的时候，图像的外围图像区域的解析力总是要低于中心图像区域的解析力，且随着镜头的FOV越大，外围图像区域的解析力下降得越厉害，尤其是四个角的解析力特别差。
发明内容
为了解决上述现有技术的不足，本发明提供一种柔性传感器的成像方法、装置、系统及可读存储介质，可提高图像的外围图像区域的解析力。
本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：
一种柔性传感器的成像方法，该柔性传感器包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；成像方法包括：
步骤1：获取被摄物的预览图像；
步骤2：依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。
进一步地，步骤2包括：
步骤2.1：调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化；
步骤2.2：计算所述预览图像的外围图像区域在所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化的过程中的解析力曲线；
步骤2.3：在所述解析力曲线上获取解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度；
步骤2.4：调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度为解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度。
进一步地，所述外围成像区域至少包括所述柔性传感器的四角成像区域。
一种柔性传感器的成像装置，该柔性传感器包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；成像装置包括：
预览模块，用于获取被摄物的预览图像；
调节模块，用于依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。
进一步地，所述调节模块包括：
第一调节单元，用于调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化；
计算单元，用于计算所述预览图像的外围图像区域在所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化的过程中的解析力曲线；
获取单元，用于在所述解析力曲线上获取解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度；
第二调节单元，用于调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度为解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度。
进一步地，所述外围成像区域至少包括所述柔性传感器的四角成像区域。
一种柔性传感器的成像系统，包括：
柔性传感器，用于对被摄物进行成像，包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；
弧度调节装置，用于带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲；
上述的成像装置，用于控制所述柔性传感器对被摄物进行成像，然后控制所述弧度调节装置带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
进一步地，所述弧度调节装置包括一压电薄膜或压电陶瓷片，设于所述柔性传感器的外围成像区域的背面上，所述压电薄膜或压电陶瓷片通电可产生形变，以带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
进一步地，所述弧度调节装置包括电磁线圈和磁石，所述电磁线圈设于所述柔性传感器的外围成像区域的背面上；所述电磁线圈通电后可产生可变磁场，所述电磁线圈的可变磁场和所述磁石的恒磁场之间的相互作用力驱动所述电磁线圈带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
一种可读存储介质，其储存有供处理器执行的计算机程序，所述处理器执行该计算机程序时，进行上述的柔性传感器的成像方法。
本发明具有如下有益效果： 该成像方法、装置、系统及可读存储介质通过调节所述柔性传感器的外围成像区域的形变弧度，来提高图像的外围图像区域的解析力。
附图说明
图1为本发明提供的柔性传感器的成像方法的步骤框图；
图2为本发明提供的柔性传感器的成像系统的原理框图；
图3为本发明提供的柔性传感器的成像系统的结构示意图；
图4为本发明提供的柔性传感器的另一成像系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。
实施例一
如图1所示，一种柔性传感器的成像方法，该柔性传感器包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；成像方法包括：
步骤1：获取被摄物的预览图像；
在该步骤1中，所述柔性传感器在预览模式下获取被摄物的预览图像；所述预览图像包括中心图像区域和外围图像区域，所述预览图像的中心图像区域对应于所述柔性传感器的中心成像区域，所述预览图像的外围图像区域对应于所述柔性传感器的外围成像区域。
其中，所述外围成像区域至少包括所述柔性传感器的四角成像区域，当然还可包括所述柔性传感器的四侧成像区域。
步骤2：依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。
在该步骤2中，通过对所述预览图像的外围图像区域的灰度信息进行分析计算，得到所述外围图像区域对应于所述柔性传感器的外围成像区域在各个弯曲弧度上的解析力值，形成所述预览图像的外围图像区域的解析力曲线，然后获取所述解析力曲线上的解析力最大值或预定值对应的所述外围成像区域的弯曲弧度，最后将所述柔性传感器的外围成像区域调节至解析力最大值或预定值对应的弯曲弧度上。
具体的，该步骤2包括：
步骤2.1：调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化；
在该步骤2.1中，由于所述柔性传感器的外围成像区域在各个弯曲弧度上时，成像光线到所述外围区域上的传播距离和入射角度均有所不同，因此所述预览图像的外围图像区域的灰度信息也会有所变化。
步骤2.2：计算所述预览图像的外围图像区域在所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化的过程中的解析力曲线；
在该步骤2.2中，对所述外围图像区域的灰度信息进行分析计算形成的解析力曲线可以但不限于为MTF曲线。
步骤2.3：在所述解析力曲线上获取解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度；
在该步骤2.3中，解析力的预定值为一可接受的范围值，可以但不限于为解析力最大值±10%。
步骤2.4：调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度为解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度。
实施例二
如图2所示，一种柔性传感器的成像系统，包括：
柔性传感器，用于对被摄物进行成像，包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；
弧度调节装置，用于带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲；
成像装置，用于控制所述柔性传感器对被摄物进行成像，然后控制所述弧度调节装置带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
其中，所述成像装置包括：
预览模块，用于获取被摄物的预览图像；
调节模块，用于依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。
具体的，所述调节模块包括：
第一调节单元，用于调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化；
计算单元，用于计算所述预览图像的外围图像区域在所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化的过程中的解析力曲线；
获取单元，用于在所述解析力曲线上获取解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度；
第二调节单元，用于调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度为解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度。
所述外围成像区域至少包括所述柔性传感器的四角成像区域，当然还可包括所述柔性传感器的四侧成像区域。如图3和4所示，对于所述柔性传感器1的中心成像区域11，可通过一承载台3进行装配固定，将所述柔性传感器1的中心成像区域11粘接固定在所述承载台3上作为固定件，所述柔性传感器1的外围成像区域12在形变弯曲时相对于所述中心成像区域11运动。
其中，所述弧度调节装置可以基于电磁力、电场力、热胀冷缩、气压等外力或外场等作用来带动所述柔性传感器的外围城乡区域进行形变弯曲。
在一实施例中，如图3所示，所述弧度调节装置包括一压电薄膜/压电陶瓷片21，设于所述柔性传感器1的外围成像区域12的背面上，所述压电薄膜/压电陶瓷片21通电可产生形变，以带动所述柔性传感器1的外围成像区域12形变弯曲。
所述压电薄膜/压电陶瓷片21的数量有四片，分布于所述外围成像区域12的四个角上，所述外围成像区域12的四个角的形变弯曲分开单独调节；或者，所述压电薄膜/压电陶瓷片21的数量有一片，呈环形或框形，位于所述外围成像区域12的四侧和四个角上，所述外围成像区域12的四侧和四个角的形变弯曲一起调节。
在另一实施例中，如图4所示，所述弧度调节装置包括电磁线圈22和磁石23，所述电磁线圈22设于所述柔性传感器1的外围成像区域12的背面上；所述电磁线圈22通电后可产生可变磁场，所述电磁线圈22的可变磁场和所述磁石23的恒磁场之间的相互作用力驱动所述电磁线圈22带动所述柔性传感器1的外围成像区域12形变弯曲。
所述电磁线圈22的数量有四个，分布于所述外围成像区域12的四个角上，所述外围成像区域12的四个角的形变弯曲分开单独调节；或者，所述电磁线圈22的数量有一个，呈环形或框形，位于所述外围成像区域12的四侧和四个角上，所述外围成像区域12的四侧和四个角的形变弯曲一起调节。所述电磁线圈22的极性方向垂直于所述中心成像区域11。
所述磁石23的数量有四块，呈90°等角偏置方式排列于所述外围成像区域12的后方圆周上，或者，所述磁石23的数量有一块，呈环形或框形，位于所述外围成像区域12的后方圆周上。所述磁石23的极性方向垂直于所述中心成像区域11。
实施例三
一种可读存储介质，其储存有供处理器执行的计算机程序，所述处理器执行该计算机程序时，进行实施例一所述的柔性传感器的成像方法。
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种柔性传感器的成像方法，其特征在于，该柔性传感器包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；成像方法包括：
步骤1：获取被摄物的预览图像；
步骤2：依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。
2.根据权利要求1所述的头型传感器的成像方法，其特征在于，步骤2包括：
步骤2.1：调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化；
步骤2.2：计算所述预览图像的外围图像区域在所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化的过程中的解析力曲线；
步骤2.3：在所述解析力曲线上获取解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度；
步骤2.4：调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度为解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度。
3.根据权利要求1或2所述的头型传感器的成像方法，其特征在于，所述外围成像区域至少包括所述柔性传感器的四角成像区域。
4.一种柔性传感器的成像装置，其特征在于，该柔性传感器包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；成像装置包括：
预览模块，用于获取被摄物的预览图像；
调节模块，用于依据所述预览图像的外围图像区域的解析力，调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使所述预览图像的外围图像区域的解析力达到最大值或预定值。
5.根据权利要求4所述的柔性传感器的成像装置，其特征在于，所述调节模块包括：
第一调节单元，用于调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化；
计算单元，用于计算所述预览图像的外围图像区域在所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度由最大向最小变化或者由最小向最大变化的过程中的解析力曲线；
获取单元，用于在所述解析力曲线上获取解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度；
第二调节单元，用于调节所述柔性传感器的外围成像区域的弯曲弧度，使之弯曲弧度为解析力达到最大值或预定值时对应的弯曲弧度。
6.根据权利要求4或5所述的柔性传感器的成像装置，其特征在于，所述外围成像区域至少包括所述柔性传感器的四角成像区域。
7.一种柔性传感器的成像系统，其特征在于，包括：
柔性传感器，用于对被摄物进行成像，包括中心成像区域和外围成像区域，其中至少外围成像区域的弯曲弧度可变；
弧度调节装置，用于带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲；
权利要求4-6中任一所述的成像装置，用于控制所述柔性传感器对被摄物进行成像，然后控制所述弧度调节装置带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
8.根据权利要求7所述的柔性传感器的成像系统，其特征在于，所述弧度调节装置包括一压电薄膜或压电陶瓷片，设于所述柔性传感器的外围成像区域的背面上，所述压电薄膜或压电陶瓷片通电可产生形变，以带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
9.根据权利要求7所述的柔性传感器的成像系统，其特征在于，所述弧度调节装置包括电磁线圈和磁石，所述电磁线圈设于所述柔性传感器的外围成像区域的背面上；所述电磁线圈通电后可产生可变磁场，所述电磁线圈的可变磁场和所述磁石的恒磁场之间的相互作用力驱动所述电磁线圈带动所述柔性传感器的外围成像区域形变弯曲。
10.一种可读存储介质，其储存有供处理器执行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行该计算机程序时，进行权利要求1-3中任一所述的柔性传感器的成像方法。
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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