CN109967388A - 检测装置和硅片分选设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种检测装置和硅片分选设备，检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构，第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面，第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面，每组检测机构均包括检测相机、反射机构和激光发射器，反射机构对激光发射器发射的激光进行至少一次反射，以使激光经过待测物体的被检测边缘反射后被对应的检测相机探测到，第一边缘和第二边缘为待测物体上相对的且与输送机构的输送方向垂直的两条边缘。本发明的硅片分选设备包括上述的检测装置。本发明中，检测待测物体的效率得以有效提高，设备制造成本低，结构简化，检测成本显著降低，检测过程连续性更好。

Description

检测装置和硅片分选设备
技术领域
本发明属于硅片检测领域，尤其涉及一种检测装置和硅片分选设备。
背景技术
硅片边缘检测和脏污检测是硅片检测过程中必不可少的步骤。
传统的硅片检测包括第一边缘检测装置、第二边缘检测装置以及脏污检测装置，第一边缘检测装置和第二边缘检测装置设置在输送线侧边，第一边缘检测装置用于检测与硅片输送方向平行的两个侧边，输送线将硅片输送到第二边缘检测装置工位后，将硅片旋转90°，第二边缘检测装置检测硅片余下的尚未被检测的两个侧边；脏污检测装置分别设置在输送线的上方和下方，以检测输送线所输送的硅片的上表面和下表面的脏污情况。
但是这种检测方式需要将硅片旋转、且需要的检测装置数量比较多，效率低下，成本比较高。
发明内容
本发明的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种高效自动低成本地进行全面检测的检测装置和硅片分选设备。
为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：
如本发明的一个方面，提供了一种检测装置，所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构，第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面，第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面，每组检测机构均包括检测相机、反射机构和激光发射器，所述反射机构对所述激光发射器发射的激光进行至少一次反射，以使激光经过所述待测物体的被检测边缘反射后被对应的检测相机探测到，所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘。
如本发明的一实施方式，所述第一组检测机构的检测相机位于所述输送机构的上方，所述第二组检测机构的检测相机位于所述输送机构的下方；
所述第一组检测机构的激光发射器位于所述输送机构的上方或下方，所述第二组检测机构的激光发射器位于所述输送机构的上方或下方。
如本发明的一实施方式，所述第一组检测机构的检测相机和激光发射器以及所述第二组检测机构的激光发射器和检测相机按照所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的前端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的后端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送。
如本发明的一实施方式，所述待测物体输送至所述第二组检测机构的检测相机的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面；所述待测物体输送至第一检测位时，所述第二组检测机构检测所述待测物体的后端边缘；所述待测物体输送至第二检测位时，所述第一组检测机构检测所述待测物体的前端边缘；所述待测物体输送至所述第一组检测机构的检测相机的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；所述第一检测位和所述第二检测位在所述输送机构上的位置相同或者不同。
如本发明的一实施方式，所述第二组检测机构的检测相机和激光发射器以及所述第一组检测机构的激光发射器和检测相机按照所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的后端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的前端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送。
如本发明的一实施方式，所述待测物体输送至所述第一组检测机构的检测相机的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；所述待测物体输送至第三检测位时，所述第一组检测机构检测所述待测物体的后端边缘；所述待测物体输送至第四检测位时，所述第二组检测机构检测所述待测物体的前端边缘；所述待测物体输送至所述第二组检测机构的检测相机的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面；所述第三检测位和所述第四检测位在所述输送机构上的位置相同或者不同。
如本发明的一实施方式，每组检测机构的反射机构均包括入射反光镜和由至少一个出射反光镜组成的出射反光镜组。
如本发明的一实施方式，
对于每组检测机构，所述检测机构中的激光发射器发射激光至所述检测机构对应的被检测边缘，所述入射反光镜接收所述被检测边缘反射的激光，并将所述激光反射至所述出射反光镜组，由所述出射反光镜组将所述激光反射至所述检测机构中的检测相机；
对于每组检测机构，所述入射反光镜接收所述检测机构中的激光发射器发射的激光，将所述激光反射至所述检测机构对应的被检测边缘，所述被检测边缘将所述激光反射至所述出射反光镜组，由所述出射反光镜组将所述激光反射至所述检测机构中的检测相机。
如本发明的一实施方式，所述检测装置还包括设置在所述输送机构两侧的侧边缘检测机构，分别对所述待测物体的两个侧边缘进行检测，所述侧边缘检测机构包括侧边激光发射器和侧边检测相机，所述侧边激光发射器向所述待测物体的侧边缘发射激光，所述侧边缘将所述激光经反射至所述侧边检测相机。
如本发明的一实施方式，所述输送机构包括输送带和驱动所述输送带输送的驱动部，所述输送机构上设置有供激光穿过的透射孔。
如本发明的一实施方式，所述待测物体为硅片。
如本发明的另一个方面，提供了一种硅片分选设备，所述硅片分选设备包括如上任一所述的检测装置，所述待测物体为硅片。
由上述技术方案可知，本发明的检测装置的优点和积极效果在于：
本发明中，第一组检测机构检测待测物体的第一边缘和上表面，第二组检测机构检测待测物体的第二边缘和下表面，待测物体在输送过程中无须停留和旋转即可被全面检测，检测效率得以有效提高，结构简化，设备制造成本低，检测成本显著降低，检测过程连续性更好，不易对待测物体造成损坏，具有很高的经济性，极为适合在业界推广使用。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一实施例检测装置的立体结构示意图。
图2为本发明一实施例检测装置的主视示意图。
图3为本发明第一实施例检测装置的一结构示意图。
图4为本发明第一实施例检测装置的另一结构示意图。
图5为本发明第一实施例检测装置的又一结构示意图。
图6为本发明第二实施例检测装置的一结构示意图。
图7为本发明第二实施例检测装置的另一结构示意图。
图8为本发明第二实施例检测装置的又一结构示意图。
其中，附图标记说明如下：
1、输送机构；11、支撑结构；111、支撑立架；112、支撑板；12、输送带；13、驱动部；2、第一组检测机构；3、第二组检测机构；41、检测相机；411、表面照明光源；42、激光发射器；43、反射机构；431、入射反光镜；432、出射反光镜组；4321、第一出射反光镜；4322、第二出射反光镜；4323、第三出射反光镜；44、第一检测位；45、第二检测位；46、第三检测位；47、第四检测位；5、待测物体；51、第一边缘；52、第二边缘；53、上表面；54、下表面。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。
在对本发明的不同示例的下面描述中，参照附图进行，所述附图形成本发明的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本发明的多个方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解，可以使用部件、结构、示例性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本发明范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“顶部”、“底部”、“前部”、“后部”、“侧部”等来描述本发明的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如如附图中所述的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本发明的范围内。
图1为本发明一实施例检测装置的立体结构示意图。
图2为本发明一实施例检测装置的主视示意图。
如图1和图2所示，该实施例的检测装置包括用于输送待测物体5的输送机构1和两组检测机构，第一组检测机构2被配置为检测待测物体5的第一边缘51和上表面53，第二组检测机构3被配置为检测待测物体5的第二边缘52和下表面54，每组检测机构均包括检测相机41、反射机构43和激光发射器42，反射机构43对激光发射器42发射的激光进行至少一次反射，以使激光经过待测物体5的被检测边缘反射后被对应的检测相机41探测到，第一边缘51和第二边缘52为待测物体5上相对的且与输送机构1的输送方向垂直的两条边缘。待测物体5为硅片，或是其他可采用激光检测的片状件，本实施例中以待测物体5为硅片为例。
该实施例中，输送机构1包括支撑结构11、输送带12和驱动输送带12输送的驱动部13，支撑结构11包括支撑板112和支撑立架111，支撑立架111用于安装支撑板112，支撑立架111可设置一个、两个或多个，支撑板112的形状可以为与输送带12形状相适应的概呈长条状的板，支撑板112可以是一个整体板，也可以是由多块板组合连接而成的组合板，支撑板112水平设置，输送带12通过带轮设置于支撑板112上，输送带12可设置为两条，两条输送带12相互平行且间隔预定距离设置，待测物体5水平放置于两条传输带上进行输送，输送机构1的支撑板112上设置有供激光穿过的透射孔，激光可穿过透射孔和两条传输带之间的间隔射至待测物体5；驱动部13可以是电机，驱动部13可安装在支撑立架111上，并通过带轮与输送带12传动连接。
该实施例中，检测装置还包括设置在输送机构1两侧的侧边缘检测机构，两个侧边缘检测机构分别对应输送带12上待测物体5的两个侧边缘设置，以分别对待测物体5的两个侧边缘进行检测，两个侧边缘为待测物体5上相对的且与输送机构1的输送方向平行的两条边缘，每一侧边缘检测机构包括侧边激光发射器42和侧边检测相机41，侧边激光发射器42向待测物体5的对应侧边缘发射激光，对应侧边缘将激光反射至侧边检测相机41，实现对待测物体5两个侧边缘的检测。
该实例中，第一组检测机构2的检测相机41位于输送机构1输送带12的上方，在第一组检测机构2的检测相机41下方、输送机构1上方之间设置有表面照明光源411，表面照明光源411为待测物体5的上表面53提供照明，以配合第一组检测机构2的检测相机41检测待测物体5上表面53是否存在脏污或其他瑕疵，第一组检测机构2的激光发射器42可设置于输送机构1输送带12的上方或下方，第二组检测机构3的检测相机41位于输送机构1输送带12的下方，在第二组检测机构3的检测相机41上方、输送机构1下方之间设置有表面照明光源411，表面照明光源411为待测物体5的下表面54提供照明，以配合第二组检测机构3的检测相机41检测待测物体5下表面54是否存在脏污或其他瑕疵，第二组检测机构3的激光发射器42可设置于输送机构1输送带12的上方或下方；每组检测机构的反射机构43均包括入射反光镜431和由至少一个出射反光镜组成的出射反光镜组432。以下结合两个实施例对两组检测机构相对输送机构1的设置进行详细说明，但以下所述并非穷举，两组检测机构的设置形式可视实际需求灵活调整。
第一实施例
该实施例中，第一组检测机构2的检测相机41和激光发射器42以及第二组检测机构3的激光发射器42和检测相机41按照输送机构1的输送方向前后依序设置，即第二组检测机构3的检测相机41所在方位为后，第一组检测机构2的检测相机41的所在方位为前，输送机构1将待测物体5从后向前输送，第一组检测机构2的检测相机41设置于输送机构1输送方向的前方且位于输送机构1上方，第二组检测机构3的检测相机41设置于输送机构1输送方向的后方且位于输送机构1下方，第一组检测机构2的激光发射器42和第二组检测机构3的激光发射器42设置于输送机构1输送方向上的第一组检测机构2的检测相机41和第二组检测机构3的检测相机41之间。
该实施例中，第一边缘51为待测物体5在输送机构1上输送时的前端边缘，第二边缘52为待测物体5在输送机构1上输送时的后端边缘；输送机构1上具有第一检测位44和第二检测位45，第一检测位44对应第一组检测机构2的检测相机41，第二检测位45对应第二组检测机构3的检测相机41，第一检测位44和第二检测位45在输送机构1上的位置相同或者不同，例如当两组检测机构的检测相机41相距较近时，第一检测位44和第二检测位45则相同或是部分重叠，当两组检测机构的检测相机41相距较远时，第一检测位44和第二检测位45则不相同。
图3为本发明第一实施例检测装置的一结构示意图。
图4为本发明第一实施例检测装置的另一结构示意图。
图5为本发明第一实施例检测装置的又一结构示意图。
如图3所示，在第一组检测机构2中，激光发射器42与检测相机41设置在同一侧，即同在输送机构1上方，反射机构43的入射反光镜431设置于激光发射器42与输送机构1之间，用于将激光发射器42发出的激光反射至输送机构1上的待测物体5，出射反光镜组432包括设置于输送机构1下方的第一出射反光镜4321、第二出射反光镜4322和第三出射反光镜4323，用于将待测物体5反射的激光依次反射至检测相机41，其中第二出射反光镜4322和第三出射反光镜4323的反射角均为45度。
在第二组检测机构3中，激光发射器42与检测相机41设置在同一侧，即同在输送机构1下方，反射机构43的入射反光镜431设置于激光发射器42与输送机构1之间，用于将激光发射器42发出的激光反射至输送机构1上的待测物体5，出射反光镜组432包括设置于输送机构1上方的第一出射反光镜4321、第二出射反光镜4322和第三出射反光镜4323，用于将待测物体5反射的激光依次反射至检测相机41，其中第二出射反光镜4322和第三出射反光镜4323的反射角均为45度。
待测物体5在输送机构1上从后向前输送的过程中首先进入第二组检测机构3的检测相机41的正上方，表面照明光源411对待测物体5下表面54进行照明，第二组检测机构3的检测相机41获取待测物体5下表面54的图像信息，从而第二组检测机构3实现对待测物体5下表面54的检测。
进一步，待测物体5进入第二检测位45，第一组检测机构2的激光发射器42发射激光，入射反光镜431接收激光发射器42发射的激光，并将激光反射至对应的被检测边缘即前端边缘，前端边缘将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第三出射反光镜4323，第三出射反光镜4323将激光反射至第一组检测机构2的检测相机41，从而第一组检测机构2实现对待测物体5前端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第一检测位44，第二组检测机构3的激光发射器42发射激光，入射反光镜431接收激光发射器42发射的激光，并将激光反射至对应的被检测边缘即后端边缘，后端边缘将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第三出射反光镜4323，第三出射反光镜4323将激光反射至第二组检测机构3的检测相机41，从而第二组检测机构3实现对待测物体5后端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第一组检测机构2的检测相机41的正下方，表面照明光源411对待测物体5上表面53进行照明，第一组检测机构2的检测相机41获取待测物体5上表面53的图像信息，从而第一组检测机构2实现对待测物体5上表面53的检测。
或者，如图4所示，在第一组检测机构2中，激光发射器42与检测相机41设置在不同侧，即分别设置于输送机构1下方和上方，反射机构43的入射反光镜431设置于检测相机41与输送机构1之间，用于将输送机构1上待测物体5反射的激光反射至出射反光镜组432，出射反光镜组432包括设置于输送机构1下方的第一出射反光镜4321和第二出射反光镜4322，用于将入射反光镜431反射的激光依次反射至检测相机41，第一出射反光镜4321和第二出射反光镜4322的反射角均为45度。
在第二组检测机构3中，激光发射器42与检测相机41设置在不同侧，即分别设置于输送机构1上方和下方，反射机构43的入射反光镜431设置于激光发射器42与输送机构1之间，用于将激光发射器42发出的激光反射至输送机构1上的待测物体5，出射反光镜组432包括设置于输送机构1下方的第一出射反光镜4321以及设置于输送机构1上方的第二出射反光镜4322和第三出射反光镜4323，用于将待测物体5反射的激光依次反射至检测相机41，其中第二出射反光镜4322和第三出射反光镜4323的反射角均为45度。
待测物体5在输送机构1上从后向前输送的过程中首先进入第二组检测机构3的检测相机41的正上方，表面照明光源411对待测物体5下表面54进行照明，第二组检测机构3的检测相机41获取待测物体5下表面54的图像信息，从而第二组检测机构3实现对待测物体5下表面54的检测。
进一步，待测物体5进入第二检测位45，第一组检测机构2的激光发射器42发射激光至对应的被检测边缘即前端边缘，前端边缘将激光反射至入射反光镜431，入射反光镜431将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第一组检测机构2的检测相机41，从而第一组检测机构2实现对待测物体5前端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第一检测位44，第二组检测机构3的激光发射器42发射激光，入射反光镜431接收激光发射器42发射的激光，并将激光反射至对应的被检测边缘即后端边缘，后端边缘将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第三出射反光镜4323，第三出射反光镜4323将激光反射至第二组检测机构3的检测相机41，从而第二组检测机构3实现对待测物体5后端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第一组检测机构2的检测相机41的正下方，表面照明光源411对待测物体5上表面53进行照明，第一组检测机构2的检测相机41获取待测物体5上表面53的图像信息，从而第一组检测机构2实现对待测物体5上表面53的检测。
或者，如图5所示，在第一组检测机构2中，激光发射器42与检测相机41设置在同一侧，即同在输送机构1上方，反射机构43的入射反光镜431、出射反光镜组432的第一出射反光镜4321和第二出射反光镜4322均设置于输送机构1下方，第一出射反光镜4321和第二出射反光镜4322的反射角均为45度。
在第二组检测机构3中，激光发射器42与检测相机41设置在同一侧，即同在输送机构1下方，反射机构43的入射反光镜431、出射反光镜组432的第一出射反光镜4321和第二出射反光镜4322均设置于输送机构1上方，第一出射反光镜4321和第二出射反光镜4322的反射角均为45度。
待测物体5在输送机构1上从后向前输送的过程中首先进入第二组检测机构3的检测相机41的正上方，表面照明光源411对待测物体5下表面54进行照明，第二组检测机构3的检测相机41获取待测物体5下表面54的图像信息，从而第二组检测机构3实现对待测物体5下表面54的检测。
进一步，待测物体5进入第二检测位45，第一组检测机构2的激光发射器42发射激光至对应的被检测边缘即前端边缘，前端边缘将激光反射至入射反光镜431，入射反光镜431将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第一组检测机构2的检测相机41，从而第一组检测机构2实现对待测物体5前端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第一检测位44，第二组检测机构3的激光发射器42发射激光至对应的被检测边缘即后端边缘，后端边缘将激光反射至入射反光镜431，入射反光镜431将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第二组检测机构3的检测相机41，从而第二组检测机构3实现对待测物体5后端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第一组检测机构2的检测相机41的正下方，表面照明光源411对待测物体5上表面53进行照明，第一组检测机构2的检测相机41获取待测物体5上表面53的图像信息，从而第一组检测机构2实现对待测物体5上表面53的检测。
第二实施例
该实施例中，第二组检测机构3的检测相机41和激光发射器42以及第一组检测机构2的激光发射器42和检测相机41按照输送机构1的输送方向前后依序设置，即第一组检测机构2的检测相机41所在方位为后，第二组检测机构3的检测相机41的所在方位为前，输送机构1将待测物体5从后向前输送，第一组检测机构2的检测相机41设置于输送机构1输送方向的后方且位于输送机构1上方，第二组检测机构3的检测相机41设置于输送机构1输送方向的前方且位于输送机构1下方，第一组检测机构2的激光发射器42和第二组检测机构3的激光发射器42设置于输送机构1输送方向上的第一组检测机构2的检测相机41和第二组检测机构3的检测相机41之间。
该实施例中，第一边缘51为待测物体5在输送机构1上输送时的后端边缘，第二边缘52为待测物体5在输送机构1上输送时的前端边缘；输送机构1上具有第三检测位46和第四检测位47，第三检测位46对应第二组检测机构3的检测相机41，第四检测位47对应第一组检测机构2的检测相机41，第三检测位46和第四检测位47在输送机构1上的位置相同或者不同，例如当两组检测机构的检测相机41相距较近时，第三检测位46和第四检测位47则相同或是部分重叠，当两组检测机构的检测相机41相距较远时，第三检测位46和第四检测位47则不相同。
图6为本发明第二实施例检测装置的一结构示意图。
图7为本发明第二实施例检测装置的另一结构示意图。
图8为本发明第二实施例检测装置的又一结构示意图。
如图6所示，两组检测机构中的激光发射器42、入射反光镜431、出射反光镜组432等的设置布局形式与第一实施例中图3所示的形式对应相同，区别之处在于：待测物体5在输送机构1上从后向前输送的过程中首先进入第一组检测机构2的检测相机41的正下方，表面照明光源411对待测物体5上表面53进行照明，第一组检测机构2的检测相机41获取待测物体5上表面53的图像信息，从而第一组检测机构2实现对待测物体5上表面53的检测。
进一步，待测物体5进入第四检测位47，第二组检测机构3的激光发射器42发射激光，入射反光镜431接收激光发射器42发射的激光，并将激光反射至对应的被检测边缘即前端边缘，前端边缘将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第三出射反光镜4323，第三出射反光镜4323将激光反射至第二组检测机构3的检测相机41，从而第二组检测机构3实现对待测物体5前端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第三检测位46，第一组检测机构2的激光发射器42发射激光，入射反光镜431接收激光发射器42发射的激光，并将激光反射至对应的被检测边缘即后端边缘，后端边缘将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第三出射反光镜4323，第三出射反光镜4323将激光反射至第一组检测机构2的检测相机41，从而第一组检测机构2实现对待测物体5后端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第二组检测机构3的检测相机41的正上方，表面照明光源411对待测物体5下表面54进行照明，第二组检测机构3的检测相机41获取待测物体5下表面54的图像信息，从而第二组检测机构3实现对待测物体5下表面54的检测。
或者，如图7所示，两组检测机构中的激光发射器42、入射反光镜431、出射反光镜组432等的设置布局形式与第一实施例中图4所示的形式对应相同，区别之处在于：待测物体5在输送机构1上从后向前输送的过程中首先进入第一组检测机构2的检测相机41的正下方，表面照明光源411对待测物体5上表面53进行照明，第一组检测机构2的检测相机41获取待测物体5上表面53的图像信息，从而第一组检测机构2实现对待测物体5上表面53的检测。
进一步，待测物体5进入第四检测位47，第二组检测机构3的激光发射器42发射激光，入射反光镜431接收激光发射器42发射的激光，并将激光反射至对应的被检测边缘即前端边缘，前端边缘将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第三出射反光镜4323，第三出射反光镜4323将激光反射至第二组检测机构3的检测相机41，从而第二组检测机构3实现对待测物体5前端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第三检测位46，第一组检测机构2的激光发射器42发射激光至对应的被检测边缘即后端边缘，后端边缘将激光反射至入射反光镜431，入射反光镜431将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第一组检测机构2的检测相机41，从而第一组检测机构2实现对待测物体5后端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第二组检测机构3的检测相机41的正上方，表面照明光源411对待测物体5下表面54进行照明，第二组检测机构3的检测相机41获取待测物体5下表面54的图像信息，从而第二组检测机构3实现对待测物体5下表面54的检测。
或者，如图8所示，两组检测机构中的激光发射器42、入射反光镜431、出射反光镜组432等的设置布局形式与第一实施例中图5所示的形式对应相同，区别之处在于：待测物体5在输送机构1上从后向前输送的过程中首先进入第一组检测机构2的检测相机41的正下方，表面照明光源411对待测物体5上表面53进行照明，第一组检测机构2的检测相机41获取待测物体5上表面53的图像信息，从而第一组检测机构2实现对待测物体5上表面53的检测。
进一步，待测物体5进入第四检测位47，第二组检测机构3的激光发射器42发射激光至对应的被检测边缘即前端边缘，前端边缘将激光反射至入射反光镜431，入射反光镜431将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第二组检测机构3的检测相机41，从而第二组检测机构3实现对待测物体5前端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第三检测位46，第一组检测机构2的激光发射器42发射激光至对应的被检测边缘即后端边缘，后端边缘将激光反射至入射反光镜431，入射反光镜431将激光反射至出射反光镜组432的第一出射反光镜4321，第一出射反光镜4321将激光反射至第二出射反光镜4322，第二出射反光镜4322将激光反射至第一组检测机构2的检测相机41，从而第一组检测机构2实现对待测物体5后端边缘的检测。
进一步，待测物体5进入第二组检测机构3的检测相机41的正上方，表面照明光源411对待测物体5下表面54进行照明，第二组检测机构3的检测相机41获取待测物体5下表面54的图像信息，从而第二组检测机构3实现对待测物体5下表面54的检测。
本发明还公开了一种硅片分选设备，该硅片分选设备包括如上任一所述的检测装置，待测物体5为硅片；硅片分选设备还可包括用于检测输送机构1上输送的硅片的外形尺寸是否合格的外形尺寸检测装置、用于检测硅片上是否存在隐裂的隐裂检测装置、用于检测硅片的厚度是否合格的厚度检测装置、用于检测硅片是P型还是N型的P/N型检测装置。
本发明中，第一组检测机构2检测待测物体5的第一边缘51和上表面53，第二组检测机构3检测待测物体5的第二边缘52和下表面54，待测物体5在输送过程中无须停留和旋转即可被全面检测，检测效率得以有效提高，结构简化，设备制造成本低，检测成本显著降低，检测过程连续性更好，不易对待测物体5造成损坏，具有很高的经济性，极为适合在业界推广使用。
本发明所属技术领域的普通技术人员应当理解，上述具体实施方式部分中所示出的具体结构和工艺过程仅仅为示例性的，而非限制性的。而且，本发明所属技术领域的普通技术人员可对以上所述所示的各种技术特征按照各种可能的方式进行组合以构成新的技术方案，或者进行其它改动，而都属于本发明的范围之内。

Claims (11)

1.一种检测装置，其特征在于，所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构，第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面，第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面，每组检测机构均包括检测相机、反射机构和激光发射器，所述反射机构对所述激光发射器发射的激光进行至少一次反射，以使激光经过所述待测物体的被检测边缘反射后被对应的检测相机探测到，所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘。
2.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述第一组检测机构的检测相机位于所述输送机构的上方，所述第二组检测机构的检测相机位于所述输送机构的下方；
所述第一组检测机构的激光发射器位于所述输送机构的上方或下方，所述第二组检测机构的激光发射器位于所述输送机构的上方或下方。
3.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述第一组检测机构的检测相机和激光发射器以及所述第二组检测机构的激光发射器和检测相机按照所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的前端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的后端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送。
4.如权利要求3所述的检测装置，其特征在于，所述待测物体输送至所述第二组检测机构的检测相机的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面；所述待测物体输送至第一检测位时，所述第二组检测机构检测所述待测物体的后端边缘；所述待测物体输送至第二检测位时，所述第一组检测机构检测所述待测物体的前端边缘；所述待测物体输送至所述第一组检测机构的检测相机的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；所述第一检测位和所述第二检测位在所述输送机构上的位置相同或者不同。
5.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述第二组检测机构的检测相机和激光发射器以及所述第一组检测机构的激光发射器和检测相机按照所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的后端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的前端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送。
6.如权利要求5所述的检测装置，其特征在于，所述待测物体输送至所述第一组检测机构的检测相机的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；所述待测物体输送至第三检测位时，所述第一组检测机构检测所述待测物体的后端边缘；所述待测物体输送至第四检测位时，所述第二组检测机构检测所述待测物体的前端边缘；所述待测物体输送至所述第二组检测机构的检测相机的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面；所述第三检测位和所述第四检测位在所述输送机构上的位置相同或者不同。
7.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，每组检测机构的反射机构均包括入射反光镜和由至少一个出射反光镜组成的出射反光镜组。
8.如权利要求7所述的检测装置，其特征在于，
对于每组检测机构，所述检测机构中的激光发射器发射激光至所述检测机构对应的被检测边缘，所述入射反光镜接收所述被检测边缘反射的激光，并将所述激光反射至所述出射反光镜组，由所述出射反光镜组将所述激光反射至所述检测机构中的检测相机；
对于每组检测机构，所述入射反光镜接收所述检测机构中的激光发射器发射的激光，将所述激光反射至所述检测机构对应的被检测边缘，所述被检测边缘将所述激光反射至所述出射反光镜组，由所述出射反光镜组将所述激光反射至所述检测机构中的检测相机。
9.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述输送机构包括输送带和驱动所述输送带输送的驱动部，所述输送机构上设置有供激光穿过的透射孔。
10.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述待测物体为硅片。
11.一种硅片分选设备，其特征在于，所述硅片分选设备包括如权利要求1-10任一所述的检测装置，所述待测物体为硅片。
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