CN109951047A - 一种基于机械导轨和平面电机的位移装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种基于机械导轨和平面电机的位移装置，包括：工作台、基座、中层运动机构、一套第一类导轨、一套第二类导轨、第一类光栅尺和第二类光栅尺，其中，一套第一类导轨包括两个平行的第一类导轨，配置在与磁体块系统平行的一个XY平面上，用于连接中层运动机构和所述工作台，为工作台相对于中层运动机构的运动提供导向；一套第二类导轨包括两个平行的第二类导轨，配置在与磁体块系统平行的另一个XY平面上，用于连接基座和中层运动机构，为中层运动机构相对于基座的运动提供导向；第一类光栅尺和第一类导轨平行配置，用于测量工作台相对于中层运动机构的位移；第二类光栅尺和第二类导轨平行配置，用于测量中层运动机构相对于基座的位移。
Description
技术领域
本发明涉及精密运动系统领域，尤其涉及一种基于机械导轨和平面电机的位移装置。
背景技术
现有的基于直线电机的机械导轨运动台是一个X方向直线电机运动台和一个Y方向直线度电机运动台在Z方向叠加而成的，即X方向直线电机做为执行器实现整个Y方向运动台在X方向上的运动；Y方向直线电机做为执行器实现负载在Y方向上的运动。叠加式的XY运动台的移动质量较大，难以同时实现负载在XY两个方向上的高加速度的运动，也就难以提高XY运动台的工作效率。发明专利CN201680039160.4提出的磁悬浮平面电机位移装置，需要6自由度的位移测量，成本很高。
发明内容
为了解决上述问题，本发明公开一种基于机械导轨和平面电机的位移装置，包括：工作台、基座、中层运动机构、一套第一类导轨、一套第二类导轨、第一类光栅尺和第二类光栅尺，其中，所述基座设计有一个工作区域，并且所述基座包括磁体块系统，所述磁体块系统包括：
多个第一类磁体块，每个所述第一类磁体块包括多个在第一方向(X)上大致线性延伸的第一磁体，每个所述第一磁体具有与所述第一方向(X)大致正交的磁化方向，而且至少两个所述第一磁体具有彼此不同的磁化方向；以及
多个第二类磁体块，每个所述第二类磁体块包括多个在第二方向(Y)上大致线性延伸的第二磁体，所述第二方向(Y)与所述第一方向(X)大致正交，每个所述第二磁体具有与所述第二方向(Y)大致正交的磁化方向，而且至少两个所述第二磁体具有彼此不同的磁化方向，
其中，所述工作台沿第三方向(Z)可移动地与所述基座邻接配置，所述第三方向(Z)与所述第一方向(X)和所述第二方向(Y)均大致正交，所述工作台包括电机线圈系统，所述电机线圈系统至少包括：
一组第一类三相线圈，每个所述第一类三相线圈包括多个第一类线圈，所述第一类线圈在所述第一方向(X)的尺寸大于其在所述第二方向(Y)的尺寸；以及
一组第二类三相线圈，每个所述第二类三相线圈包括多个第二类线圈，所述第二类线圈在所述第二方向(Y)的尺寸大于其在所述第一方向(X)的尺寸；
所述第一类三相线圈在所述第二方向(Y)上的尺寸大致等于n(m3+m4)，其中n＝1,2,3,…，且m3是特定的所述第一类磁体块在所述第二方向(Y)上的尺寸，而m4是与所述特定的所述第一类磁体块邻接配置的所述第二类磁体块在所述第二方向(Y)上的尺寸，并且所述第二类三相线圈在所述第一方向(X)上的尺寸大致等于n(m1+m2)，其中n＝1,2,3,…，且m1是特定的所述第一类磁体块在所述第一方向(X)上的尺寸，而m2是与所述特定的所述第一类磁体块邻接配置的所述第二类磁体块在所述第一方向(X)上的尺寸；
所述一套第一类导轨包括两个平行的第一类导轨，配置在与所述磁体块系统平行的一个XY平面上，用于连接所述中层运动机构和所述工作台，为所述工作台相对于所述中层运动机构的运动提供导向；所述一套第二类导轨包括两个平行的第二类导轨，配置在与所述磁体块系统平行的另一个XY平面上，用于连接所述基座和所述中层运动机构，为所述中层运动机构相对于所述基座的运动提供导向；
所述第一类光栅尺和所述第一类导轨平行配置，用于测量所述工作台相对于所述中层运动机构的位移；所述第二类光栅尺和所述第二类导轨平行配置，用于测量所述中层运动机构相对于所述基座的位移。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，所述第一类导轨与所述第一方向(X)平行；所述第二类导轨与所述第二方向(Y)平行。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置，可选地，所述电机线圈系统包括一个或多个额外的所述第一类三相线圈或/和所述第二类三相线圈。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，从所述第一方向(X)看，所述第一磁体的磁化方向形成一个磁场空间周期λy，而从所述第二方向(Y)看，所述第二磁体的磁化方向形成一个磁场空间周期λx。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，可选地，所述磁体块系统包括一个一维阵列，所述一维阵列包括具有多列的行，所述行包括由所述第一类磁体块组成的列与由所述第二类磁体块组成的列，这些列交替排列，所述行与所述第一方向(X)大致平行，且所述列中每一列均与所述第二方向(Y)大致平行。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，所有所述第一类磁体块在第一方向具有基本相等的尺寸m1，其中m1基本等于其中n＝1,2,3,…，而所有所述第二类磁体块在第一方向具有基本相等的尺寸m2，其中m2基本等于其中n＝1,2,3,…，而所述第二类磁体块在第二方向上的尺寸基本等于nλy，其中n＝1,2,3,…。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，所述第一类导轨和所述第二类导轨采用交叉滚柱导轨；所述电机线圈系统集成了用以提供电流相位信息的霍尔效应传感器；所述电机线圈系统集成了温度传感器。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，所述磁体块系统包括一个二维阵列，所述二维阵列由多行和多列构成，所述多行的每行和所述多列的每列包含一个所述第一类磁体块和一个所述第二类磁体块，这些第一类磁体块与第二类磁体块交替排列，其中在某一特定行的所述第一类磁体块具有相同的磁体排列，其中在某一特定列的所述第二类磁体块具有相同的磁体排列。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，所述电机线圈系统只包括一组第一类三相线圈和一组第二类三相线圈，两组三相线圈配置在两个平行的XY平面上，且在第三方向(Z)重叠，中心对准。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置中，优选为，所述第一类三相线圈在所述第一方向(X)的尺寸等于n(m1+m2),n＝1,2,3,…；所述第一类三相线圈在第二方向(Y)的尺寸等于n(m1+m2)+λy/6,n＝1,2,3,…；所述第二类三相线圈在第二方向(Y)的尺寸等于n(m3+m4),n＝1,2,3,…；所述第二类三相线圈在第一方向(X)的尺寸等于n(m3+m4)+λx/6,n＝1,2,3,…。
本发明的基于机械导轨和平面电机的位移装置降低了工作台的移动质量，从而提高了工作台的工作效率。同时，缩小了运动台的尺寸，更容易使用。另外，不需要六个自由度的位移测量，可以使用工业上标准的光栅尺，相对于磁悬浮平面电机位移装置，成本较低。
附图说明
图1A是根据本发明的一个具体实施例的基于机械导轨和平面电机的位移装置的X－Z平面视图；
图1B是根据本发明的一个具体实施例的基于机械导轨和平面电机的位移装置的Y－Z平面视图；
图1C是根据本发明的一个具体实施例的基于机械导轨和平面电机的位移装置的X－Y平面视图。
图2是根据本发明的一个具体实施例的基于机械导轨和平面电机的位移装置的磁体块系统和电机线圈系统的X－Y平面视图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“垂直”“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外，在下文中描述了本发明的许多特定的细节，例如器件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术，以便更清楚地理解本发明。但正如本领域的技术人员能够理解的那样，可以不按照这些特定的细节来实现本发明。除非在下文中特别指出，器件中的各个部分可以由本领域的技术人员公知的材料构成，或者可以采用将来开发的具有类似功能的材料。
图1A是根据本发明的一个具体实施例的基于机械导轨和平面电机的位移装置的X－Z平面视图；图1B是基于机械导轨和平面电机的位移装置的Y－Z平面视图；图1C是基于机械导轨和平面电机的位移装置的X－Y平面视图。基于机械导轨和平面电机的位移装置包括基座110、工作台120、中层运动机构130、一套第一类导轨、一套第二类导轨、第一类光栅尺和第二类光栅尺(图中未示出)。工作台120沿Z方向(又称作第三方向)可移动地与基座110邻接配置，二者相对彼此运动。基座110设计有一个工作区域，并且基座包括磁体块系统。工作台120包括电机线圈系统121。
一套第一类导轨包括两个平行的第一类导轨140，配置在与磁体块系统111平行的一个XY平面上，用于连接中层运动机构130和工作台120，为工作台120相对于中层运动机构130的运动提供导向。一套第二类导轨包括两个平行的第二类导轨150，配置在与磁体块系统111平行的另一个XY平面上，用于连接基座110和中层运动机构130，为中层运动机构130相对于基座110的运动提供导向。
第一类光栅尺和第一类导轨140平行配置，用于测量工作台120相对于中层运动机构130的位移；第二类光栅尺和第二类导轨150平行配置，用于测量中层运动机构130相对于基座110的位移。
作为优选的一例，第一类导轨140与X方向(又称作第一方向)平行；第二类导轨150与Y方向(又称作第二方向)平行。
第一类导轨140和第二类导轨150采用交叉滚柱导轨。电机线圈系统集成了用以提供电流相位信息的霍尔效应传感器。电机线圈系统集成了温度传感器。
磁体块系统包括：多个第一类磁体块，每个第一类磁体块包括多个在X方向上大致线性延伸的第一磁体，每个第一磁体具有与X方向大致正交的磁化方向，而且至少两个第一磁体具有彼此不同的磁化方向；以及多个第二类磁体块，每个第二类磁体块包括多个在Y方向上大致线性延伸的第二磁体，每个第二磁体具有与Y方向大致正交的磁化方向，而且至少两个第二磁体具有彼此不同的磁化方向。
在具体的一例中，如图2所示，磁体块系统111即磁体块112X、112Y(统称为磁体块112)。磁体块系统111包括二维磁体块112阵列，该阵列具有多个相互正交的行与列。该行与X方向平行，而该列与Y方向平行。每行和每列交替性地包含磁体块112X和磁体块112Y。
在图1所示的实施例中，所有行具有基本相等的X尺寸，所有列具有基本相等的Y尺寸。此为优选的实施方式，因其可以降低基座110的制造成本，但并非必须。在一些实施例中，第一列(如图2中m1所示)的X尺寸可以与位于第一列旁边的第二列(如图2中m2所示)的X尺寸不同。在一些实施例中，第一行(如图2中m3所示)的Y尺寸可以与位于第一行旁边的第二行(如图2中m4所示)的Y尺寸不同。单一列中的所有磁体块112具有基本相等的X尺寸，单一行中的所有磁体块112具有基本相等的Y尺寸。因此，m1可为多个磁体块112Y的X尺寸，m2可为多个磁体块112X的X尺寸，m3可为多个磁体块112Y的Y尺寸，而m4可为多个磁体块112X的Y尺寸。
每个磁体块112X包括多个(例如在所示实施例中为四个)磁体113X，这些磁体在X方向上相邻配置，大致沿着Y方向延伸。每个磁体块112Y包括多个(例如在所示实施例中为四个)磁体113Y，这些磁体在Y方向上相邻配置，大致沿着X方向延伸。磁体113X的磁化方向大致垂直于Y方向，而磁体113Y的磁化方向大致垂直于X方向。磁体113X、113Y(统称为磁体113)拥有三种类型：N型、S型及H型，分别称作N型磁体、S型磁体、H型磁体。每个磁体块112的磁体113以所谓的海尔贝克(Halbach)排列布置，这样工作台120所处的磁场得到强化。每个N型磁体和S型磁体的磁化方向与Z方向平行，N型磁体的磁化方向指向工作台120，S型磁体的磁化方向背离工作台120，如图1B中的箭头所示。磁体块112X的H型磁体的磁化方向大致与X方向平行，指向磁体块112X的相邻N型磁体、背离磁体块112X的相邻S型磁体。磁体块112Y的H型磁体的磁化方向大致与Y方向平行，指向磁体块112Y的相邻N型磁体、背离磁体块112Y的相邻S型磁体。
在所示的实施例(如图2所示)中，磁体113X包括四个不同的磁化方向：+Z、－X、－Z、+X，它们一起提供磁场空间周期λx，而磁体113Y包括四个不同的磁化方向：+Z、－Y、－Z、+Y，它们一起提供磁场空间周期λy。此为根据海尔贝克(Halbach)排列进行布置的，是优选的实施方式，但并非必须。在一些实施例中，磁体块112可只包括两个具有不同磁化方向的磁体113来提供磁场空间周期，而在一些实施例中，磁体块112可包括超过四个具有不同磁化方向的磁体113来提供磁场空间周期。
在所示实施例(如图2所示)中，属于单个磁体块112的磁体113拥有相等的长度(磁体113延伸方向的尺寸)。此为优选实施方式，但并非必须。在一些实施例中，属于单个磁体块112的磁体113可拥有不相等的长度。在所示实施例(如图2所示)中，属于单个磁体块112X的磁体113X的质心点在Y方向上具有相同的位置，属于单个磁体块112Y的磁体113Y的质心点在X方向上具有相同的位置。此为优选实施方式，但并非必须。在一些实施例中，属于单个磁体块112X的磁体113X的质心点在Y方向上可以具有不同的位置，属于单个磁体块112Y的磁体113Y的质心点在X方向上可以具有不同的位置。
在所示的实施例(如图2所示)中，磁体块112X的磁体113X具有相同或基本相同的X尺寸，而磁体块112Y的磁体113Y具有相同或基本相同的Y尺寸。此为优选实施方式，但并非必须。在一些实施例中，磁体块112X的Z尺寸可以等于磁体块113X的X尺寸，磁体块112Y的Z尺寸可以等于磁体块113Y的Y尺寸。此为优选实施方式，但并非必须。这些优选实施例的优点在于所产生的磁场更接近正弦波，因为这样谐波失真更少。许多早期公布文本对该优点已有描述，例如，国际公布文本WO2009/083889。在一些实施例中，H型磁体可与N型磁体和S型磁体具有不同的尺寸。在一些实施例中，可以不含H型磁体。在一些实施例中，磁体块112Y的Z尺寸可为其他值。
磁体块112X的X尺寸m2等于或基本等于nλx/2，其中n＝1,2,3,…(在图1A所示的实施例中，n选为2)，磁体块112Y的Y尺寸m3等于或基本等于nλy/2，其中n＝1,2,3,…(在图2所示的实施例中，n选为2)。本优选实施例的优点之一在于可以降低磁体块112的系统111的制造成本。在一些实施例中，m2可以为大于λx/2的任意值，而m3可以为大于λy/2的任意值。
在所示的实施例(如图2所示)中，所有磁体块112X具有相同的磁体113X排列，而所有磁体块112Y具有相同的磁体113Y排列。此实施方式并非必须。在一些实施例中，其可设计为，仅位于同一列的磁体块112X具有相同的磁体113X排列，仅位于同一行的磁体块112Y具有相同的磁体113Y排列。在一些实施例中，磁体块112的磁体113的排列可以与任何其他磁体块112的排列不同。
在一些实施例中，磁体块系统也可以是包括一个一维阵列，一维阵列包括具有多列的行，行包括由第一类磁体块组成的列与由第二类磁体块组成的列，这些列交替排列，行与第一方向(X)大致平行，且列中每一列均与第二方向(Y)大致平行。
电机线圈系统121至少包括一组第一类三相线圈，每个第一类三相线圈包括多个第一类线圈，第一类线圈在X方向的尺寸大于其在Y方向的尺寸；以及一组第二类三相线圈，每个第二类三相线圈包括多个第二类线圈，第二类线圈在Y方向的尺寸大于其在X方向的尺寸。第一类三相线圈在Y方向上的尺寸大致等于n(m3+m4)，其中n＝1,2,3,…，并且第二类三相线圈在X方向上的尺寸大致等于n(m1+m2)，其中n＝1,2,3,….。
作为优选实施例，如图2所示，电机线圈系统121只包括一组第一类三相线圈121X和一组第二类三相线圈121Y，两组三相线圈配置在两个平行的XY平面上，且在Z方向重叠，中心对准。第一类三相线圈121X在X方向的尺寸等于n(m1+m2),n＝1,2,3,…；第一类三相线圈121X在Y方向的尺寸等于n(m1+m2)+λy/6,n＝1,2,3,…；第二类三相线圈121Y在Y的尺寸等于n(m3+m4),n＝1,2,3,…；第二类三相线圈121Y在方向的尺寸等于n(m3+m4)+λx/6,n＝1,2,3,…。
在一些实施例中，电机线圈系统还可以包括一个或多个额外的第一类三相线圈或者第二类三相线圈。在一些实施例中，电机线圈系统还可以包括一个或多个额外的第一类三相线圈和第二类三相线圈
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
包括：工作台、基座、中层运动机构、一套第一类导轨、一套第二类导轨、第一类光栅尺和第二类光栅尺，
其中，所述基座设计有一个工作区域，并且所述基座包括磁体块系统，所述磁体块系统包括：
多个第一类磁体块，每个所述第一类磁体块包括多个在第一方向(X)上大致线性延伸的第一磁体，每个所述第一磁体具有与所述第一方向(X)大致正交的磁化方向，而且至少两个所述第一磁体具有彼此不同的磁化方向；以及
多个第二类磁体块，每个所述第二类磁体块包括多个在第二方向(Y)上大致线性延伸的第二磁体，所述第二方向(Y)与所述第一方向(X)大致正交，每个所述第二磁体具有与所述第二方向(Y)大致正交的磁化方向，而且至少两个所述第二磁体具有彼此不同的磁化方向，
其中，所述工作台沿第三方向(Z)可移动地与所述基座邻接配置，所述第三方向(Z)与所述第一方向(X)和所述第二方向(Y)均大致正交，所述工作台包括电机线圈系统，所述电机线圈系统至少包括：
一组第一类三相线圈，每个所述第一类三相线圈包括多个第一类线圈，所述第一类线圈在所述第一方向(X)的尺寸大于其在所述第二方向(Y)的尺寸；以及
一组第二类三相线圈，每个所述第二类三相线圈包括多个第二类线圈，所述第二类线圈在所述第二方向(Y)的尺寸大于其在所述第一方向(X)的尺寸；
所述第一类三相线圈在所述第二方向(Y)上的尺寸大致等于n(m3+m4)，其中n＝1,2,3,…，且m3是特定的所述第一类磁体块在所述第二方向(Y)上的尺寸，而m4是与所述特定的所述第一类磁体块邻接配置的所述第二类磁体块在所述第二方向(Y)上的尺寸，并且所述第二类三相线圈在所述第一方向(X)上的尺寸大致等于n(m1+m2)，其中n＝1,2,3,…，且m1是特定的所述第一类磁体块在所述第一方向(X)上的尺寸，而m2是与所述特定的所述第一类磁体块邻接配置的所述第二类磁体块在所述第一方向(X)上的尺寸；
所述一套第一类导轨包括两个平行的第一类导轨，配置在与所述磁体块系统平行的一个XY平面上，用于连接所述中层运动机构和所述工作台，为所述工作台相对于所述中层运动机构的运动提供导向；所述一套第二类导轨包括两个平行的第二类导轨，配置在与所述磁体块系统平行的另一个XY平面上，用于连接所述基座和所述中层运动机构，为所述中层运动机构相对于所述基座的运动提供导向；
所述第一类光栅尺和所述第一类导轨平行配置，用于测量所述工作台相对于所述中层运动机构的位移；所述第二类光栅尺和所述第二类导轨平行配置，用于测量所述中层运动机构相对于所述基座的位移。
2.根据权利要求1所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述第一类导轨与所述第一方向(X)平行；所述第二类导轨与所述第二方向(Y)平行。
3.根据权利要求1所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述电机线圈系统包括一个或多个额外的所述第一类三相线圈或/和所述第二类三相线圈。
4.根据权利要求1所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
从所述第一方向(X)看，所述第一磁体的磁化方向形成一个磁场空间周期λy，而从所述第二方向(Y)看，所述第二磁体的磁化方向形成一个磁场空间周期λx。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述磁体块系统包括一个一维阵列，所述一维阵列包括具有多列的行，所述行包括由所述第一类磁体块组成的列与由所述第二类磁体块组成的列，这些列交替排列，所述行与所述第一方向(X)大致平行，且所述列中每一列均与所述第二方向(Y)大致平行。
6.根据权利要求4所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所有所述第一类磁体块在第一方向具有基本相等的尺寸m1，其中m1基本等于其中n＝1,2,3,…，而所有所述第二类磁体块在第一方向具有基本相等的尺寸m2，其中m2基本等于其中n＝1,2,3,…，而所述第二类磁体块在第二方向上的尺寸基本等于nλy，其中n＝1,2,3,…。
7.根据权利要求4或6所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述第一类导轨和所述第二类导轨采用交叉滚柱导轨；所述电机线圈系统集成了用以提供电流相位信息的霍尔效应传感器；所述电机线圈系统集成了温度传感器。
8.根据权利要求4或6所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述磁体块系统包括一个二维阵列，所述二维阵列由多行和多列构成，所述多行的每行和所述多列的每列包含一个所述第一类磁体块和一个所述第二类磁体块，这些第一类磁体块与第二类磁体块交替排列，其中在某一特定行的所述第一类磁体块具有相同的磁体排列，其中在某一特定列的所述第二类磁体块具有相同的磁体排列。
9.根据权利要求1或2所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述电机线圈系统只包括一组第一类三相线圈和一组第二类三相线圈，两组三相线圈配置在两个平行的XY平面上，且在第三方向(Z)重叠，中心对准。
10.根据权利要求9所述的基于机械导轨和平面电机的位移装置，其特征在于，
所述第一类三相线圈在所述第一方向(X)的尺寸等于n(m1+m2),n＝1,2,3,…；所述第一类三相线圈在第二方向(Y)的尺寸等于n(m1+m2)+λy/6,n＝1,2,3,…；所述第二类三相线圈在第二方向(Y)的尺寸等于n(m3+m4),n＝1,2,3,…；所述第二类三相线圈在第一方向(X)的尺寸等于n(m3+m4)+λx/6,n＝1,2,3,…。
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| WO2021238119A1 (zh) * | 2020-05-28 | 2021-12-02 | 复旦大学 | 平面电机位移装置 |
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- 2019-04-09 CN CN201910279397.5A patent/CN109951047A/zh active Pending
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