CN109814257B - 一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法 - Google Patents
一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109814257B CN109814257B CN201910136426.2A CN201910136426A CN109814257B CN 109814257 B CN109814257 B CN 109814257B CN 201910136426 A CN201910136426 A CN 201910136426A CN 109814257 B CN109814257 B CN 109814257B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- laser beam
- light intensity
- order light
- depth
- central zero
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000013461 design Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000035772 mutation Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002922 simulated annealing Methods 0.000 claims description 2
- 238000010606 normalization Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
技术领域
本发明涉及光学元件设计领域,具体涉及一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法,该器件为能将入射的单波长激光分成多束等光强激光的衍射光学元件。
背景技术
将单束激光转变为多束等光强的激光,在激光雷达、医学美容、光纤通信、光学信息处理等众多领域中,有着广泛的需求。1971年达曼提出了一种空间坐标调制型二值相位光栅,又称达曼光栅。由于这类器件为傅里叶变换型分束器,具有光斑阵列光强均匀性不受入射光强分布影响以及可以产生任意排布点阵的优点,被认为是目前最有效的分束器。
达曼光栅为两台阶结构,相邻位相突变点之间的位相差为π。当器件的刻蚀深度大于或者小于理论台阶高度时,都会造成较强的中心零级光,导致出射光束光强分布十分不均匀。当相邻两个台阶的横向间隔较大时,可以通过台阶仪等测量设备来测量台阶深度从而去调整刻蚀参数实现深度的准确控制。但是在当前的很多激光应用中,需要大角度的激光分束器,使得光栅周期内相邻两个台阶的横向间隔为数百纳米量级,从而台阶仪等仪器不能直接测量台阶深度,以致于当发现零级衍射光较强时,不能判断刻蚀深度与理论台阶深度相比是深了还是浅了,只能盲目地不断调整刻蚀参数去试,耗时耗力,严重限制了达曼光栅在大角度激光分束中的应用。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:克服现有的达曼光栅分束器中心零级光强不易控制的不足。
本发明提出的技术方案为:一种中心零级光强可控的激光分束器件。该器件是一维周期性光栅结构,在每一个周期内,存在着K个相位突变点,对应的归一化坐标为x1,x2,x3…xK。相邻相位突变点之间的位相差为其中
用于实现中心零级光强可控的激光分束器件按以下步骤实现:
(1)根据入射激光波长λ和光栅衍射级次m与零级的夹角θ确定光栅周期d=mλ/sin(θ)。
(2)根据所需的激光分束数N,确定光栅周期内的相位突变点个数K=2int[(N-1)/4]+2,其中int[]表示取中括号内的整数部分。
零级光强为:
级次m对应的光强为:
其中,该衍射器件对应的理论台阶高度为:
N1为材料在波长λ下的折射率。材料可以是塑料、石英、红外材料等。
本发明的有益效果在于:单色激光垂直照射在本发明中心零级光强可控的激光分束器件,当器件刻蚀深度略小于理论台阶深度时,出射的中心零级光会出现增强的情况,而当刻蚀深度略大于理论台阶深度时,中心零级光会出现减弱的情况。从而可以直接根据零级强弱判断器件刻蚀深度与理论台阶的偏差,有方向性地调整刻蚀参数实现等光强激光分束。
附图说明
图1为本发明中心零级光强可控的激光分束器的基本结构示意图;
图2为实施例中设计得到的激光分束器结构示意图;
图3为实施例中刻蚀深度等于理论台阶高度时的分束效果图;
图4为实施例中刻蚀深度小于理论台阶高度时的分束效果图;
图5为实施例中刻蚀深度大于理论台阶高度时的分束效果图。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施方式详细介绍本发明。但以下的实施例仅限于解释本发明,本发明的保护范围应包括权利要求的全部内容,而且通过以下实施例,本领域技术人员即可以实现本发明权利要求的全部内容。
实施例:
图1为本发明中心零级光强可控的激光分束器的基本结构示意图。以设计实现650纳米激光波长下的总夹角为20°的1×5分束器为例来详细阐述设计过程:
(1)根据入射激光波长λ和光栅衍射级次m与零级的夹角θ确定光栅周期d=7.486um。
(2)根据所需的激光分束数5,确定光栅周期内的相位突变点个数为K=4。
(3)采用模拟退火算法来优化光栅单周期内的突变点坐标x1,x2,x3,x4和位相差以实现等光强激光分束。最终优化得到的归一化突变点坐标值为:x1=0,x2=0.3,x3=0.63,x4=0.93,位相差为0.78π。根据光栅周期d最终得到各个台阶的相对位置和横向宽度,最终得到的单周期结构如图2所示。可以看出该衍射器件的横向最细线宽达到了524nm。选择石英作为材料,则理论的台阶高度为h=0.78×λ/2/(n1-1)=555nm。
当650nm单色波长垂直入射在该器件上后,最终出射的各衍射级次的归一化强度如图3所示。计算得到的-2、-1、0、+1、+2级次的归一化强度分别为:1、0.97、0.98、0.97、1。
在器件加工制作过程中,很难一次性做到刻蚀深度与理论台阶高度一致。图4给出了刻蚀深度为0.7π时对应的激光分束效果图。计算得到的-2、-1、0、+1、+2级次的归一化强度分别为:0.57、0.56、1、0.56、0.57。图5给出了刻蚀深度为0.86π时对应的激光分束效果图。计算得到的-2、-1、0、+1、+2级次的归一化强度分别为:1、0.97、0.52、0.97、1。可见,当刻蚀深度小于理论深度时,会出现零级增强的情况。而当刻蚀深度大于理论深度时,会出现零级减弱的情况。从而在实际加工过程中无需借助复杂的测量设备对深度进行测量,可直接通过观察零级的强弱变化来判断刻蚀深度与理论深度的偏差,使得加工难度大大减小。
本发明未详细阐述部分属于本领域技术人员的公知技术。
以上所述,仅为本发明的一种实施例,并非用以限定本发明的实施范围。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种中心零级光强可控的激光分束器件的设计方法,其特征在于:该器件是一维周期性光栅结构,在每一个周期内,存在着K个相位突变点,对应的归一化坐标为x1,x2,x3…xK,相邻相位突变点之间的位相差为其中该设计方法通过以下步骤实现:
步骤(1)、根据入射激光波长λ和光栅衍射级次m与零级的夹角θ确定光栅周期d=mλ/sin(θ);
步骤(2)、根据所需的激光分束数N,确定光栅周期内的相位突变点个数K=2int[(N-1)/4]+2,其中int[]表示取中括号内的整数部分;
零级光强为:
级次m对应的光强为:
当器件刻蚀深度略小于理论台阶深度时,中心零级光会出现增强的情况,而当刻蚀深度略大于理论台阶深度时,中心零级光会出现减弱的情况。
3.一种中心零级光强可控的激光分束器件,其特征在于:该器件由权利要求1-2任一项所述的设计方法设计得到。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910136426.2A CN109814257B (zh) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | 一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910136426.2A CN109814257B (zh) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | 一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109814257A CN109814257A (zh) | 2019-05-28 |
CN109814257B true CN109814257B (zh) | 2020-08-25 |
Family
ID=66607315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910136426.2A Active CN109814257B (zh) | 2019-02-25 | 2019-02-25 | 一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109814257B (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110729627A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-01-24 | 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 | 一种多光束泵浦的光参量振荡器装置 |
CN111679353B (zh) * | 2020-06-09 | 2021-09-07 | 厦门镌纹科技有限公司 | 一种亚波长光栅光学膜 |
CN112558314B (zh) * | 2020-12-01 | 2022-10-25 | 中国空间技术研究院 | 激光阵列分束器和光栅设计方法 |
CN112859215B (zh) * | 2020-12-31 | 2023-07-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种红外波段的准连续的超表面分束器件 |
CN115185093A (zh) * | 2022-07-25 | 2022-10-14 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种平顶激光光束整形方法 |
CN115185028A (zh) * | 2022-07-25 | 2022-10-14 | 深圳博升光电科技有限公司 | 零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5574597A (en) * | 1992-05-22 | 1996-11-12 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Light scanner and multi-beam generator using the same |
CN1343894A (zh) * | 2001-10-22 | 2002-04-10 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 用于光通信中的动态光耦合器 |
-
2019
- 2019-02-25 CN CN201910136426.2A patent/CN109814257B/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5574597A (en) * | 1992-05-22 | 1996-11-12 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Light scanner and multi-beam generator using the same |
CN1343894A (zh) * | 2001-10-22 | 2002-04-10 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 用于光通信中的动态光耦合器 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Iterative encoding of high-efficiency holograms for generation of spot arrays;Michael R;《Optics Letters》;19890515;第14卷(第10期);全文 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109814257A (zh) | 2019-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109814257B (zh) | 一种中心零级光强可控的激光分束器件及其设计方法 | |
KR101342847B1 (ko) | 2 차원 구조물들에 대한 회절 차수의 선택 방법, 광학 계측 시스템의 최적화 방법 및 광학 계측 시스템 | |
KR101664207B1 (ko) | 광빔의 파면을 분석하기 위한 방법, 위상 격자 및 장치 | |
US9523800B2 (en) | Computation efficiency by iterative spatial harmonics order truncation | |
CN103080729B (zh) | 折射率测定装置以及折射率测定方法 | |
CN101128835A (zh) | 光学计量中的形状粗糙度测量 | |
US10185303B2 (en) | Optimizing computational efficiency by multiple truncation of spatial harmonics | |
KR102291023B1 (ko) | 구조화된 광을 제공하는 회절 광학 장치 | |
KR20190019025A (ko) | 회절 광학 소자를 위한 다층 박막 스택 | |
CN102360091A (zh) | 等位相等光强分束达曼光栅及其制备方法 | |
WO2023098897A1 (zh) | 衍射光学元件及其制备方法、母版的微纳结构的设计方法 | |
CN103777263B (zh) | 亚波长矩形单周期光栅结构的制作方法及偶数分束器 | |
CN1441264A (zh) | 圆环形达曼光栅 | |
US20100042388A1 (en) | Computation efficiency by diffraction order truncation | |
US20200363574A1 (en) | Diffractive optical element and optical device comprising same diffractive optical element | |
US20200363569A1 (en) | Diffuser | |
Wang et al. | Design and implementation of a linear array laser emitting optical system based on diffractive principles | |
US6967714B2 (en) | Method for determining a refractive index | |
RU193853U1 (ru) | Дифракционный фазово-амплитудный фильтр | |
JP3551551B2 (ja) | 凹凸形状測定方法及び測定装置 | |
CN101750648A (zh) | 波长无关熔融石英透射1×2偏振无关分束光栅 | |
Bi et al. | Inverse symmetric Dammann gratings | |
Zou et al. | The study of various Dammann grating | |
CN201107422Y (zh) | 消除零级衍射谱点的等光强分束光栅 | |
Azarian et al. | Global sensitivity analyses of coherent beam combining of fiber amplifier arrays by the use of numerical space filling designs |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |