CN1097815A - 太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种太阳能选择性吸收溅射涂层及其
工艺方法，涉及金属材料的扩散处理领域。本发明是
用氮加氧共同参加与铝阴极分子的反应，制成了由四
层膜构成的对太阳能有选择性吸收的涂层，对太阳能
的吸收率大，α＞93％，反射率ε＜0.06％，是太阳能选
择性吸收溅射涂层的又一新突破。
Description
本发明是一种太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法，涉及金属材料的扩散处理领域。
太阳能选择性吸收溅射涂层对太阳光谱具有强烈的吸收作用。它们大多是由红外线透过率高的外层和对红外线有高反射率，低发射率的金属膜层构成。
目前，太阳能有选择性吸收溅射涂层的工艺方法，多是采用磁控溅射镀膜，材料主要是碳、氧金属化合物和氮金属化合物。常选用二种金属为溅射靶，一个靶子在工作时，另一个靶（阴极）需遮蔽。这样不仅生产效率低，设备成本高，而且工艺复杂。若选择用乙炔气体为反应气体，制备金属碳化物涂层，需高温环境且要求基体材料耐高温。
本发明的目的就是在于克服了上述缺陷提出了一种新的太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法。
本发明的目的是这样实现的：用氮加氧（或氮氧化合物）两种气体共同参加与铝阴极分子的反应，制成四层膜构成的对太阳能有选择性吸收溅射涂层。它对太阳能的吸收率α＞93%以上，反射率ε＜0.06%左右，使之形成了折射率较高的有干涉效果的太阳能吸收层和最外层的阳光防反射膜层。
本发明的优点在于：对太阳能的吸收率高，反射率小，成本低生产效率高，工艺方法简单，是太阳能选择性吸收溅射涂层的新突破。
附图说明：图1是本发明涂层结构示意图。
图中：1是基体，2是底膜，3是红外线防反射膜，4是太阳能吸收层，5是太阳能防反射膜。
下面结合附图及实施例对本发明做进一步细述：
用氮加氧两种气体做为溅射铝靶（阴极）的分子反应气体，用氩气为背景气体，在基体1上镀一层氧加氮及铝底膜2，厚度为8×10-9m，再在底膜2上镀一层纯铝厚度大于0.1×10-6m的远红外线防反射膜3。在其铝原子数的比值加入一定比例的氮加氧混合反应气体，按经验公式从一个最值变到最大值，相对反应气体每一种流量对应一定的镀膜时间，从而形成了折射率较高的有干涉效果的太阳能吸收层4和最外层的太阳能防反射膜5，从而实现了太阳能选择性吸收溅射涂层的新的工艺方法。
Claims (1)
1、一种太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法，其特征在于：用氮加氧两种气体做为溅射出铝靶(阴极)的分子的反应气体以氩气为背景气体，在基体上镀一层氧加氮及铝的底膜，厚度为8×10-9m，再在底膜镀一层纯铝，厚度大于0.1×10-6m的的红外线防反射膜，在其铝原子数的比值加入一定比例的氮加氧混合反应气体按经验公式从一个最值变到最大值，相对反应气体每一种流量对应一定的镀膜时间，从而形成了折射率较高的有干涉效果的太阳能吸收层和最外层的阳光防反射膜。
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|---|---|---|---|
| CN 94105964 CN1097815A (zh) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | 太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN 94105964 CN1097815A (zh) | 1994-06-07 | 1994-06-07 | 太阳能选择性吸收溅射涂层及其工艺方法 |
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| CN1097815A true CN1097815A (zh) | 1995-01-25 |
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ID=5032291
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN1097815A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102032696A (zh) * | 2011-01-11 | 2011-04-27 | 皇明太阳能股份有限公司 | 一种太阳能集热器用防过热膜层 |
-
1994
- 1994-06-07 CN CN 94105964 patent/CN1097815A/zh active Pending
Cited By (2)
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| CN102032696A (zh) * | 2011-01-11 | 2011-04-27 | 皇明太阳能股份有限公司 | 一种太阳能集热器用防过热膜层 |
| CN102032696B (zh) * | 2011-01-11 | 2013-06-12 | 皇明太阳能股份有限公司 | 一种太阳能集热器用防过热膜层 |
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| C01 | Deemed withdrawal of patent application (patent law 1993) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |