CN109696298A - 角度依赖成像测量系统及方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种角度依赖成像测量系统及方法，角度依赖成像测量系统沿同一光轴依次布置的物镜、光学透镜A、光学透镜C、光学透镜B和成像设备；满足以下条件：0≤d1≤2fA，fA＜D＝d5+d3+d4≤2fB+fA；其中，d1为物镜后的物镜后焦平面M0与光学透镜A之间的距离，fA为光学透镜A的焦距，D为光学透镜A与光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与光学透镜C之间的距离，d4为光学透镜C与光学透镜B之间的距离，fB为光学透镜B的焦距。可实现实空间分辨和动量空间分辨，表征具有角度依赖材料的光学性质，弥补相应的光学测量技术空缺。

Description

角度依赖成像测量系统及方法
技术领域
本发明涉及空间成像技术领域，特别涉及一种角度依赖成像测量系统及方法。
背景技术
随着光学的不断发展，为了对光进行更好的调制和更深入的性质研究，人们设计制作出新的光学材料、结构和显示屏，以及自然界中能产生丰富颜色的材料，如光子晶体、表面等离子体激元、超构材料、结构色材料等，并逐渐发展出一个新学科——微纳光子学。微纳光子学材料通过可操控的结构设计，使人们对光的调控能力达到一个新的水平。该材料具有许多不同于传统均匀材料的光学性质，如非线性效应、拓扑特性、特殊的光输运特性等。
微纳光子学材料往往具有与作用波长相比拟的周期性结构，可微小化、集成化，在各类光电器件中具有广阔的应用前景。晶体中原子有序的排列分布对电子的运动具有调制作用。与之类似，微纳光子学材料中不同折射率材料的交替排列对电磁波的传播也具有调制作用，能够形成不同于自由空间中的光的色散关系、光子能带、光子带隙等特殊的光学性质。而这些性质都与其动量空间性质密切相关。
近年来，微纳光子学发展十分迅速，不断出现新的材料结构，发现新的光学现象，这也对相应的光学测量技术提出了新的要求。目前，市面上已有一些用于测量微纳光子学材料光学特性的专利技术，如光电探测设备、显微成像系统等。但这些技术仅能满足部分测量需求：
1、光电探测设备。光电探测设备由多个感光元件组成，感光元件可以将入射光信号转换为电信号，然后经过电路处理后产生图像信号。单独使用光电探测设备可以对宏观样品进行成像测量，然而，微纳光子学材料的尺寸通常属于介观(微米及亚微米尺度)范围，光电探测设备无法满足其所需要的微区测量要求。
2、显微成像技术。将光电探测设备与显微镜结合，利用显微镜的显微分辨能力和光电探测设备的成像能力，可以实现对小尺度微纳光子结构的成像探测。这种方法是在样品空间上而非在动量空间上进行分辨，无法得到微纳光子学材料诸如能带信息等重要的动量空间光学性质，因此具有一定的局限性。
因此，有必要提供一种方案，弥补相应的光学测量技术空缺。
发明内容
为了弥补相应的光学测量技术空缺，本发明提供了一种角度依赖成像测量系统及方法。
本发明提供的角度依赖成像测量系统，包括物镜、光学透镜A、光学透镜B、成像设备和可切换的光学透镜C，所述物镜、所述光学透镜A、所述光学透镜C、所述光学透镜B和所述成像设备沿同一光轴依次布置，所述成像设备位于所述光学透镜B后的后焦平面第一次成像面M1处或所述光学透镜B后的样品面第二次成像面S2处；
角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为所述物镜后的物镜后焦平面M0与所述光学透镜A之间的距离，fA为所述光学透镜A的焦距，D为所述光学透镜A与所述光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离，d4为所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离，fB为所述光学透镜B的焦距。
本发明用于微纳光子学材料，具有角度依赖性材料光学性质测量，能够对介观尺度的微纳光子学材料进行光学分析测量，实现显微分辨和光学测量，并可以通过一个探测器实现实空间分辨和动量空间分辨，表征具有角度依赖材料的光学性质，弥补相应的光学测量技术空缺。
本发明角度依赖成像测量系统的进一步改进在于，d1＝d5＝fA。
本发明角度依赖成像测量系统的进一步改进在于，所述样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离、所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离满足以下条件：
0≤d3≤2fC
fC<d4≤2fB+fC
其中，fC为所述光学透镜C的焦距。
本发明角度依赖成像测量系统的更进一步改进在于，d3＝fC和/或d4＝fC+fB。
本发明角度依赖成像测量系统的进一步改进在于，满足以下条件：
d2＝fB
其中，d2为所述光学透镜B与所述成像设备之间的距离。
本发明角度依赖成像测量系统的更进一步改进在于，所述光学透镜B与所述成像设备之间还沿所述光轴设置有n(n>0)个光学透镜组，第i(0<i≤n)个所述光学透镜组包括光学透镜Cxi和光学透镜Cyi，所述光谱探测设备位于n个所述光学透镜组后的后焦平面成像面Mn+1处；
所述角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤dxi≤2fCxi
fCxi<dxyi≤2fCyi+fCxi
dyi＝fCyi
其中，n为自然数，i为自然数，dxi为所述光学透镜Cxi前的后焦平面第i次成像面Mi与所述光学透镜Cxi之间的距离，fCxi表示所述光学透镜Cxi的焦距，dxyi为第i个所述光学透镜组内的所述光学透镜Cxi与所述光学透镜Cyi之间的距离，fCyi表示所述光学透镜Cyi的焦距，dyi为所述光学透镜Cyi与所述光学透镜Cyi后的后焦平面第i+1次成像面Mi+1之间的距离。
本发明角度依赖成像测量系统的更进一步改进在于，于所述样品面第一次成像面S1处放置有遮光片。
本发明角度依赖成像测量系统的更进一步改进在于，样品与所述物镜之间的距离为所述物镜的焦距。
此外，本发明还提供一种角度依赖成像测量方法，包括步骤：
提供样品；
放置物镜，使所述物镜后形成物镜后焦平面M0；
沿所述物镜的光轴放置光学透镜A，使所述光学透镜A后形成样品面第一次成像面S1；
沿所述光轴放置光学透镜B，使所述光学透镜B后形成后焦平面第一次成像面M1；
沿所述光轴放置成像设备，使所述成像设备接收所述后焦平面第一次成像面M1；
于所述光学透镜A和所述光学透镜B之间的所述光轴上放置光学透镜C，使所述光学透镜B后形成样品面第二次成像面S2；
使所述成像设备接收所述样品面第二次成像面S2；
其中，角度依赖成像测量方法满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为所述物镜后的物镜后焦平面M0与所述光学透镜A之间的距离，fA为所述光学透镜A的焦距，D为所述光学透镜A与所述光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离，d4为所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离，fB为所述光学透镜B的焦距。
本发明角度依赖成像测量方法的进一步改进在于，所述样品与所述物镜之间的距离为所述物镜的焦距。
附图说明
图1为本发明实施例的角度依赖成像测量系统的结构示意图；其中，1为物镜，2为光学透镜A，3为光学透镜B，4为成像设备，5为光学透镜C，6为光学透镜或光学透镜组，7为光源，8为半透半反片或膜，I为样品的位置，II为物镜的后焦平面M0的位置，III为样品面第一次成像面S1的位置，IV为后焦平面第一次成像面M1的位置、样品面第二次成像面S2的位置，d1为光学透镜A与物镜的后焦平面的距离，d2为光学透镜B与光电探测器的距离，d3为光学透镜C与样品面第一次成像面S1的距离，d4为光学透镜B与光学透镜C的距离，d5为光学透镜A与光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离。
图2为本发明实施例的角度依赖成像测量方法的流程图。
图3a为电子显示屏实空间像。
图3b为电子显示屏动量空间像。
图3c为样品的发光强度与角度的关系。
图3d为图3c中的水平分布曲线和Lambert曲线。
图3e为图3c中的垂直分布曲线和Lambert曲线。
图4a为孔雀羽毛。
图4b为图4a中Q处孔雀羽毛绿色小羽枝。
图4c为图4a中Q处孔雀羽毛绿色小羽枝颜色与观测角度的关系。
具体实施方式
为了弥补相应的光学测量技术空缺，本发明提供了一种角度依赖成像测量系统及方法。
下面结合附图和具体实施例对本发明角度依赖成像测量系统及方法的较佳实施例作进一步说明。本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。
结合图1所示，本发明角度依赖成像测量系统包括物镜、光学透镜A、光学透镜B、成像设备和可切换的光学透镜C，物镜、光学透镜A、光学透镜C、光学透镜B和成像设备沿同一光轴依次布置，成像设备位于光学透镜B后的后焦平面第一次成像面M1处或光学透镜B后的样品面第二次成像面S2处；
角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为物镜后的物镜后焦平面M0与光学透镜A之间的距离，fA为光学透镜A的焦距，D为光学透镜A与光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与光学透镜C之间的距离，d4为光学透镜C与光学透镜B之间的距离，fB为光学透镜B的焦距。
物镜由一个光学透镜或一个反射镜组成，或者是多个光学透镜或多个反射镜的组合。
本发明中，物镜位于I位置，将光学透镜C切出光路，光信号通过物镜并于II位置形成物镜后焦平面M0，通过光学透镜A并于位置III形成样品面第一次成像面S1，通过光学透镜B并于位置IV形成后焦平面第一次成像面M1；成像设备位于位置IV并接收后焦平面第一次成像面M1的光信号，得到样品动量空间像。
将光学透镜C切入光路，光信号通过物镜并于II位置形成物镜后焦平面M0，通过光学透镜A并于位置III形成样品面第一次成像面S1，之后通过光学透镜C、光学透镜B并于位置IV形成样品面第二次成像面S2；成像设备位于位置IV并接收样品面第二次成像面S2的光信号，得到样品实空间像。
切换光学透镜C，可以在位置IV，实现后焦平面第一次成像面M1和样品面第二次成像面S2的切换，在距光学透镜B后d2的位置IV探测接收。
进一步地，d1＝d5＝fA。
本实施例中，物镜后的物镜后焦平面M0与光学透镜A之间的距离d1，数值上等于光学透镜A的焦距；样品面第一次成像面S1与光学透镜A之间的距离，数值上等于光学透镜A的焦距。
在其他实施例中，光学透镜A为厚透镜时，则前后成像面焦距一般不同，故d1的数值不等于d5的数值。要实现本发明的技术效果，只要保证物镜后焦平面M0与光学透镜A之间的距离为光学透镜A的前焦距、光学透镜A与样品面第一次成像面S1之间的距离为光学透镜A的后焦距即可。
进一步地，样品面第一次成像面S1与光学透镜C之间的距离、光学透镜C与光学透镜B之间的距离满足以下条件：
0≤d3≤2fC
fC<d4≤2fB+fC
其中，fC为光学透镜C的焦距。
更进一步地，d3＝fC和/或d4＝fC+fB。
进一步地，满足以下条件：
d2＝fB
其中，d2为光学透镜B与成像设备之间的距离。
更进一步地，光学透镜B与成像设备之间还沿光轴设置有n(n>0)个光学透镜组，第i(0<i≤n)个光学透镜组包括光学透镜Cxi和光学透镜Cyi，光谱探测设备位于n个光学透镜组后的后焦平面成像面Mn+1处；
角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤dxi≤2fCxi
fCxi<dxyi≤2fCyi+fCxi
dyi＝fCyi
其中，n为自然数，i为自然数，dxi为光学透镜Cxi前的后焦平面第i次成像面Mi与光学透镜Cxi之间的距离，fCxi表示光学透镜Cxi的焦距，dxyi为第i个光学透镜组内的光学透镜Cxi与光学透镜Cyi之间的距离，fCyi表示光学透镜Cyi的焦距，dyi为光学透镜Cyi与光学透镜Cyi后的后焦平面第i+1次成像面Mi+1之间的距离。
若设置两个光学透镜组(n＝2)，即光学透镜B和成像设备之间设有第一光学透镜组、第二光学透镜组，具体地，即光学透镜B和成像设备之间设有一个光学透镜Cx1、一个光学透镜Cy1、一个光学透镜Cx2和一个光学透镜Cy2。
n＝2且光学透镜C切出光路时，位置IV(后焦平面第一次成像面M1)与光学透镜Cx1之间的距离为dx1，光学透镜Cx1与光学透镜Cy1之间的距离之间的距离为dxy1；光学透镜Cy1之后形成后焦平面第二次成像面M2，二者之间相距dy1；后焦平面第二次成像面M2与光学透镜Cx2之间的距离为dx2，光学透镜Cx2与光学透镜Cy2之间的距离之间的距离为dxy2；光学透镜Cy2之后形成后焦平面第三次成像面M3，二者之间距离为dy2；成像设备接收后焦平面第三次成像面M3。
n＝2且光学透镜C切入光路时，位置IV(样品面第二次成像面S2)与光学透镜Cx1之间的距离为dx1，光学透镜Cx1与光学透镜Cy1之间的距离之间的距离为dxy1；光学透镜Cy1之后形成样品面第三次成像面S3，二者之间距离为dy1；样品面第三次成像面S3与光学透镜Cx2之间的距离为dx2，光学透镜Cx2与光学透镜Cy2之间的距离之间的距离为dxy2；光学透镜Cy2之后形成样品面第四次成像面S4，二者之间距离为dy2；成像设备接收样品面第四次成像面S4。
进一步地，于样品面第一次成像面S1处放置有遮光片或不同的用途的光学元件。
进一步地，样品与物镜之间的距离为物镜的焦距。
本发明公开了一种测量结构色及角度依赖的系统及其应用。该系统至少包括下述部件：物镜、光学透镜A、光学透镜B和成像设备。光信号依次通过的物镜、的光学透镜A、的光学透镜B后由的成像设备接收。本发明的测量结构色以及角度依赖的系统可以用来测量结构色的颜色分布，测量具有角度依赖关系样品，如发光样品的光强随角度的关系，样品的透射角度与颜色的关系，反射角度与颜色的关系等。该系统可以实现微观区域的测量，能够对样品精确选择，可以清晰的观察测量的样品和角度与强度，角度与颜色的关系。
本发明提供了一种角度依赖成像测量系统，该系统可以通过多个光学元件实现样品实空间信息与动量空间信息之间的相互转化，并通过光学透镜的切换实现样品空间信息和动量空间信息呈现在相同位置，利用光电探测设备进行动量空间和样品空间的成像与测量。该系统可以对角度依赖材料进行动量空间光学信息的探测与表征。
本发明中，通过切换光学透镜C，实现样品实空间和样品动量空间像的探测。将光学透镜C切出，从而实现将物镜后第一次成像面M0，成像在光学透镜B后第一次成像面M1，在光学透镜B后焦面第一次成像面放置光电探测器，探测样品动量空间信息；将样品切入，从而实现将光学透镜A后样品第一次成像面S1成像在光学透镜B后焦面样品第二次成像面S2，在光学透镜B后焦面第二次样品成像面放置光电探测器，探测样品空间信息。
结合图2所示，此外，本发明还提供一种角度依赖成像测量方法，包括步骤：
步骤101：提供样品；
步骤102：放置物镜，使物镜后形成物镜后焦平面M0；
步骤103：沿物镜的光轴放置光学透镜A，使光学透镜A后形成样品面第一次成像面S1；
步骤104：沿光轴放置光学透镜B，使光学透镜B后形成后焦平面第一次成像面M1；
步骤105：沿光轴放置成像设备，使成像设备接收后焦平面第一次成像面M1；
步骤106：于光学透镜A和光学透镜B之间的光轴上放置光学透镜C，使光学透镜B后形成样品面第二次成像面S2；
步骤107：使成像设备接收样品面第二次成像面S2；
其中，角度依赖成像测量方法满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为物镜后的物镜后焦平面M0与光学透镜A之间的距离，fA为光学透镜A的焦距，D为光学透镜A与光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与光学透镜C之间的距离，d4为光学透镜C与光学透镜B之间的距离，fB为光学透镜B的焦距。
进一步地，样品与物镜之间的距离为物镜的焦距。
结合图3a至图4c所示，下面使用本发明对电子显示屏和孔雀羽毛进行测试。
第一实施例
电子显示屏的显示效果的重要评判标准，就是显示屏的发光强度与角度的关系。本发明的角度依赖成像系统可以测量显示屏微观区域发光强度与角度的关系。图3a至图3e展示了AMOLED屏的微观区域发光强度和角度的关系，图3a为电子显示屏实空间像，图3b为电子显示屏动量空间像，图3c为样品的发光强度与角度的关系，图3d为图3c中的水平分布曲线和Lambert曲线，图3e为图3c中的垂直分布曲线和Lambert曲线。
图3c中的水平分布曲线和垂直分布曲线，指的是图3b中对应的圆取水平和竖直两条线，再经过角度定标后，得到的发光强度和角度的分布关系；其中Lambert曲线指的是理想的发光元件发光强度与角度的分布关系。
第二实施例
结构色材料样品通常具有虹彩效应，也就是颜色会随着观察角度而改变。本发明的角度依赖成像系统可以测量光照射情况下该样品的颜色与角度的关系。图4a至图4c分别展示了孔雀羽毛、孔雀羽毛绿色小羽枝、孔雀羽毛绿色小羽枝颜色与观测角度的关系。
本发明提出的角度依赖成像测量系统在测量角度依赖材料、微纳光子材料、发光材料和结构色材料的光学性质方面的应用。
本发明的有益效果在于：本发明角度依赖成像测量系统可用于测量和表征角度依赖材料在动量空间中的光学信息，如样品的色域范围、样品的颜色与观测角度的关系、样品的发光强度与角度的分布等。该系统可以实现显微区域样品的光学测量，最小测量范围可达1微米；还可以实现动量空间的选择测量。角度依赖成像测量系统能够对样品的测量区域进行精确选择，并可进一步用于样品动量空间信息的选择与探测。角度依赖成像测量系统可以实现一个探测器探测样品信息和样品动量空间信息，从而获得样品观测角度的光学性质。
以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
需要说明的是，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。

Claims (10)

1.一种角度依赖成像测量系统，其特征在于：包括物镜、光学透镜A、光学透镜B、成像设备和可切换的光学透镜C，所述物镜、所述光学透镜A、所述光学透镜C、所述光学透镜B和所述成像设备沿同一光轴依次布置，所述成像设备位于所述光学透镜B后的后焦平面第一次成像面M1处或所述光学透镜B后的样品面第二次成像面S2处；
角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为所述物镜后的物镜后焦平面M0与所述光学透镜A之间的距离，fA为所述光学透镜A的焦距，D为所述光学透镜A与所述光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离，d4为所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离，fB为所述光学透镜B的焦距。
2.如权利要求1所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：d1＝d5＝fA。
3.如权利要求1所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于，所述样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离、所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离满足以下条件：
0≤d3≤2fC
fC<d4≤2fB+fC
其中，fC为所述光学透镜C的焦距。
4.如权利要求3所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：d3＝fC和/或d4＝fC+fB。
5.如权利要求1所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于，满足以下条件：
d2＝fB
其中，d2为所述光学透镜B与所述成像设备之间的距离。
6.根据权利要求5所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：所述光学透镜B与所述成像设备之间还沿所述光轴设置有n(n>0)个光学透镜组，第i(0<i≤n)个所述光学透镜组包括光学透镜Cxi和光学透镜Cyi，所述光谱探测设备位于n个所述光学透镜组后的后焦平面成像面Mn+1处；
所述角度依赖成像测量系统满足以下条件：
0≤dxi≤2fCxi
fCxi<dxyi≤2fCyi+fCxi
dyi＝fCyi
其中，n为自然数，i为自然数，dxi为所述光学透镜Cxi前的后焦平面第i次成像面Mi与所述光学透镜Cxi之间的距离，fCxi表示所述光学透镜Cxi的焦距，dxyi为第i个所述光学透镜组内的所述光学透镜Cxi与所述光学透镜Cyi之间的距离，fCyi表示所述光学透镜Cyi的焦距，dyi为所述光学透镜Cyi与所述光学透镜Cyi后的后焦平面第i+1次成像面Mi+1之间的距离。
7.如权利要求1至6中任一项所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：于所述样品面第一次成像面S1处放置有遮光片。
8.如权利要求1至6中任一项所述的角度依赖成像测量系统，其特征在于：样品与所述物镜之间的距离为所述物镜的焦距。
9.一种角度依赖成像测量方法，其特征在于，包括步骤：
提供样品；
放置物镜，使所述物镜后形成物镜后焦平面M0；
沿所述物镜的光轴放置光学透镜A，使所述光学透镜A后形成样品面第一次成像面S1；
沿所述光轴放置光学透镜B，使所述光学透镜B后形成后焦平面第一次成像面M1；
沿所述光轴放置成像设备，使所述成像设备接收所述后焦平面第一次成像面M1；
于所述光学透镜A和所述光学透镜B之间的所述光轴上放置光学透镜C，使所述光学透镜B后形成样品面第二次成像面S2；
使所述成像设备接收所述样品面第二次成像面S2；
其中，角度依赖成像测量方法满足以下条件：
0≤d1≤2fA
fA<D＝d5+d3+d4≤2fB+fA
其中，d1为所述物镜后的物镜后焦平面M0与所述光学透镜A之间的距离，fA为所述光学透镜A的焦距，D为所述光学透镜A与所述光学透镜B之间的距离，d5为光学透镜A与所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1之间的距离，d3为所述光学透镜A后的样品面第一次成像面S1与所述光学透镜C之间的距离，d4为所述光学透镜C与所述光学透镜B之间的距离，fB为所述光学透镜B的焦距。
10.如权利要求9所述的角度依赖成像测量方法，其特征在于：所述样品与所述物镜之间的距离为所述物镜的焦距。
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