CN109581718A - 阵列基板母版、阵列基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提出了阵列基板母版、阵列基板、显示面板和显示装置。该阵列基板母版包括：基板，该基板上限定有至少一个显示区和非显示区，非显示区环绕显示区设置；配向层，设置在基板的一侧且至少覆盖至少一个显示区；保护层，与配向层同层设置且覆盖非显示区，并且，保护层和配向层在基板上的正投影之和完全覆盖基板。本发明所提出的阵列基板母版，在显示区以外的区域增设与配向膜同层设置的保护层，如此，在摩擦工艺中可有效减少摩擦布在周边区域产生的碎屑，从而从异物源上减少杂质的产生，进而可进一步提高制作出的显示面板的良品率。

Description

阵列基板母版、阵列基板、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体的，本发明涉及阵列基板母版、阵列基板、显示面板和显示装置。
背景技术
在液晶显示器(LCD)制程工序中，使液晶分子按一定方向排列是一个不可或缺的工艺，而Rubbing工艺便是其中之一：通过摩擦布(Rubbing Cloth，例如尼龙、纤维或棉绒等)，按一定方向对配向膜进行定向摩擦，从而使配向膜的膜表面状况发生有规律的变化，进而使配向膜能配向液晶，最终使液晶排列具有预期的预倾角。
然而，在摩擦(Rubbing)的过程中，由于阵列基板(TFT)的切割残留(Glass Dummy)区、周边电路(GOA)区及扇出成型(FanOut)区等组成的周边区域最上层一般为氮化硅(SiNx)，而SiNx比显示区中配向膜的聚酰亚胺(PI)更硬，所以摩擦工艺时，参考图1，周边区域更易产生摩擦布的碎屑。并且，这种碎屑在清洗时不能被完全清洗掉，而可能被清洗或吹扫到显示(AA)区，从而容易导致显示面板(Panel)边缘的TFT侧的配向膜异常散状不良(Zara)。根据这种不良的微观现象，发现其不良发生于TFT侧，且方向与AK吹洗的方向一致。
发明内容
本发明是基于发明人的下列发现而完成的：
本发明的发明人在研究过程中发现，现有技术的降低配向膜异常散状Zara的手段为，参考图1，在Dummy区涂覆一层Dummy PI，以减少Dummy区异物的产生，但是，为了避免其他不良的产生而不能在封框胶(Sealant)区域涂覆PI，从而不能实现彻底地消除异物源，配向膜异常散状Zara还是难以得到改善，导致产品的品质也无法提升。
发明人经过深入研究发现，可在非显示区(包括切割残留区、周边电路区和虚拟像素区)中涂覆一层软质的保护层，该保护层与配向层是同层设置的，如此，可有效减少摩擦工艺在周边产生的摩擦布碎屑，能够从异物源上减少杂质的产生，从而提高产品的良品率。
在本发明的第一方面，本发明提出了一种阵列基板母版。
根据本发明的实施例，所述阵列基板母版包括：基板，所述基板上限定有至少一个显示区和非显示区，所述非显示区环绕所述显示区设置；配向层，所述配向层设置在所述基板的一侧，且至少覆盖所述至少一个显示区；保护层，所述保护层与所述配向层同层设置，且覆盖所述非显示区，并且，所述保护层和所述配向层在所述基板上的正投影之和完全覆盖所述基板。
发明人经过研究发现，本发明实施例的阵列基板母版，在显示区以外的区域增设与配向膜同层设置的保护层，如此，在摩擦工艺中可有效减少摩擦布在周边区域产生的碎屑，从而从异物源上减少杂质的产生，进而可进一步提高制作出的显示面板的良品率。
另外，根据本发明上述实施例的显示面板母版，还可以具有如下附加的技术特征：
根据本发明的实施例，所述非显示区包括周边电路区和切割残留区，且所述切割残留区环绕所述周边电路区设置，并且，所述保护层覆盖所述周边电路区和所述切割残留区。
根据本发明的实施例，形成所述保护层的材料为不吸水的有机绝缘材料。
根据本发明的实施例，所述保护层的厚度与所述配向层的厚度相同。
根据本发明的实施例，所述阵列基板母版进一步包括：
阻挡墙，所述阻挡墙设置在所述配向层远离所述基板的一侧，且设置在所述周边电路区中，并且，所述阻挡墙由光刻胶形成。
根据本发明的实施例，所述非显示区进一步包括虚拟像素区，且所述虚拟像素区设置在所述显示区与所述周边电路区之间，并且，所述阵列基板母版进一步包括至少一个凹槽，所述至少一个凹槽设置在所述虚拟像素区中。
根据本发明的实施例，所述凹槽的个数为2个，且所述凹槽的深度为0.1～1微米。
在本发明的第二方面，本发明提出了一种阵列基板。
根据本发明的实施例，所述阵列基板是将上述的阵列基板母版进行摩擦并切割后获得的。
发明人经过研究发现，本发明实施例的阵列基板，在非显示区具有软质保护层的阵列基板母版经过摩擦、清洗和吹扫后，显示区内的碎屑更少，如此，在切割后获得的阵列基板的表面不良更少，从而使含有该阵列基板的显示面板的配向不良导致的显示画面异常更少。本领域技术人员能够理解的是，前面针对阵列基板母版所描述的特征和优点，仍适用于该阵列基板，在此不再赘述。
在本发明的第三方面，本发明提出了一种显示面板。
根据本发明的实施例，所述显示面板包括彩膜基板和上述的阵列基板。
发明人经过研究发现，本发明实施例的显示面板，其包括的阵列基板的显示区表面残留的摩擦碎屑更少，从而使该显示面板的良品率更高。本领域技术人员能够理解的是，前面针对阵列基板母版、阵列基板所描述的特征和优点，仍适用于该显示面板，在此不再赘述。
在本发明的第四方面，本发明提出了一种显示装置。
根据本发明的实施例，所述显示装置包括上述的显示面板。
发明人经过研究发现，本发明实施例的显示装置，包括因配向不良导致的显示画面异常更少的显示面板，从而使该显示装置的显示效果更佳。本领域技术人员能够理解的是，前面针对阵列基板母版、阵列基板、显示面板所描述的特征和优点，仍适用于该显示装置，在此不再赘述。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述的方面结合下面附图对实施例的描述进行解释，其中：
图1是现有技术中的摩擦清洗吹扫后的阵列基板母版上存在的显示不良的示意图；
图2是现有技术的显示面板的截面结构示意图；
图3是本发明一个实施例的阵列基板母版的截面结构图；
图4是本发明一个实施例的阵列基板母版的俯视结构示意图；
图5是本发明一个实施例的基板上各区域的分布关系示意图；
图6是本发明另一个实施例的阵列基板母版的截面结构示意图；
图7是本发明另一个实施例的阵列基板母版上的一个显示区周边的俯视结构示意图；
图8是本发明另一个实施例的阵列基板母版的截面结构示意图。
附图标记
100 基板
200 配向层
210 Dummy PI
300 保护层
400 阻挡墙
500 凹槽
600 封框胶
AA 显示区
DA 非显示区
GD 切割残留区
GOA 周边电路区
DP 虚拟像素区
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，本技术领域人员会理解，下面实施例旨在用于解释本发明，而不应视为对本发明的限制。除非特别说明，在下面实施例中没有明确描述具体技术或条件的，本领域技术人员可以按照本领域内的常用的技术或条件或按照产品说明书进行。
在本发明的一个方面，本发明提出了一种阵列基板母版。
根据本发明的实施例，参考图3(图3是沿着图4中的中心线aa的截面结构图)，阵列基板母版包括基板100、配向层200和保护层300；其中，基板100上限定有至少一个显示区AA和非显示区DA，非显示区DA环绕显示区AA设置；配向层200设置在基板100的一侧，且配向层200至少覆盖至少一个显示区AA；而保护层300与配向层200是同层设置的，且保护层300覆盖大部分的非显示区DA，并且，保护层300和配向层200在基板100上的正投影之和完全覆盖基板100。
目前，虽然现有技术为减少非显示区异物的产生，选择在切割残留区GD涂覆一层Dummy PI 210，具体可参考图2(图2是沿着图1中的中心线aa的截面结构图)，不过，为了避免其他不良的产生而无法同样在封框胶600的区域涂覆PI，也就无法完全避免摩擦过程中在周边区产生的摩擦布碎屑。所以，参考图3，发明人在显示区AA以外的区域增设与配向层200同层设置的保护层300，软质的保护层300可显著减少摩擦布在非显示区产生的碎屑，从而降低显示区残留的摩擦布碎屑，进而使阵列基板母版切割出的阵列基板的表面不良更少。
根据本发明的实施例，基板100上显示区AA具体的个数和分布形式都不受特别的限制限制，具体例如图4所示的基板100上包括10个阵列排布的显示区AA，等等，本领域技术人员可根据基板100和显示区AA的实际尺寸进行相应地设计，如此，再确定出设置在多个显示区AA之间的非显示区DA的区域。
在本发明的一些实施例中，参考图5，非显示区DA可包括周边电路区GOA和切割残留区GD，且切割残留区GD环绕周边电路区GOA设置，并且参考图6，保护层300覆盖切割残留区GD和部分的周边电路区GOA，如此，同层设置的配向膜200覆盖显示区AA和部分的周边电路区GOA，而软质的配向膜200和保护层300能完全覆盖周边区域，从而能显著减少摩擦步骤产生的碎屑。
根据本发明的实施例，形成保护层300的材料只要是软质的有机材料即可。在本发明的一些实施例中，形成保护层300的材料可为不吸水的有机绝缘材料，例如感光性性树脂等，如此，采用不吸水的软质材料形成的保护层300不会影响后续制作的密封胶的密封效果。
在本发明的一些实施例中，保护层300的厚度可与配向层200的厚度相同，如此，保护层300还可起到平坦化的作用，从而使摩擦处理时摩擦布产生的碎屑更少，进而使制作出的阵列基板组成的显示面板的配向膜异常散装不良更少、良品率更高。
在本发明的一些实施例中，参考图6，阵列基板母版可进一步包括阻挡墙400，阻挡墙400设置在配向层200远离基板100的一侧，且阻挡墙400设置在周边电路区GOA中，并且阻挡墙400由光刻胶形成，如此，参考图7，围绕显示区AA新增一圈阻挡墙400，可进一步减少摩擦布碎屑进入显示区AA的概率，并且，光刻胶材料的阻挡墙的宽度、高度都更容易调控。在一些具体示例中，阻挡墙400的高度可以与彩膜基板上的柱状支撑物(PS)的高度相同，如此，采用此高度的阻挡墙400可更好地起到阻挡摩擦布碎屑的作用。
在本发明的另一些实施例中，参考图5，非显示区DA可进一步包括虚拟像素区DP，且虚拟像素区DP设置在显示区AA与周边电路区GOA之间，即虚拟像素区DP环绕显示区AA设置、周边电路区GOA环绕虚拟像素区DP设置，并且，参考图8，阵列基板母版还可进一步包括至少一个凹槽500，且至少一个凹槽500设置在虚拟像素区DP中。如此，即使有摩擦布碎屑在清洗或吹扫步骤中跨过GOA区的阻挡墙400，也可能落入虚拟像素区DP的凹槽500中，可更进一步少摩擦布碎屑进入显示区AA的概率。
根据本发明的实施例，凹槽500具体的个数和深度都不受特别的限制，本领域技术人员可根据虚拟像素区DP的实际宽度和基板100上实际各层结构的总厚度进行相应地设计。在本发明的另一些实施例中，凹槽的个数可为2个，且凹槽的深度可为0.1～1微米，如此，采用2个深度相同或深度不同的凹槽500，且凹槽500的深度可与基板100上制作的其他层结构的总厚度都在0.1～1微米之间，可进一步更有效将周边区产生的摩擦布碎屑拦截在显示区AA以外。
在本发明的一些具体示例中，基板100与配向层200、保护层300之间还可包括其他必要的结构，具体例如薄膜晶体管(TFT)、公共电极和/或像素电极、栅极线、数据线，等等，本领域技术人员可根据该阵列基板的实际控制电路进行相应地选择和补充，在此不再赘述。如此，凹槽500可以是通过刻蚀掉虚拟像素区DP的薄膜晶体管、钝化层或平坦化层等层结构形成的。
综上所述，本发明提出了一种阵列基板母版，在显示区以外的区域增设与配向膜同层设置的保护层，如此，在摩擦工艺中可有效减少摩擦布在周边区域产生的碎屑，从而从异物源上减少杂质的产生，进而可进一步提高制作出的显示面板的良品率。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种阵列基板。根据本发明的实施例，阵列基板是将上述的阵列基板母版进行摩擦并切割后获得的。
综上所述，本发明提出了一种阵列基板，在非显示区具有软质保护层的阵列基板母版经过摩擦、清洗和吹扫后，显示区内的摩擦布碎屑更少，如此，在切割后获得的阵列基板的表面不良更少，从而使含有该阵列基板的显示面板的配向不良导致的显示画面异常更少。本领域技术人员能够理解的是，前面针对阵列基板母版所描述的特征和优点，仍适用于该阵列基板，在此不再赘述。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种显示面板。根据本发明的实施例，显示面板包括彩膜基板和上述的阵列基板。
需要说明的是，该显示面板除了上述的彩膜基板、阵列基板以外，还包括其他必要的组成和结构，具体例如封框胶、填充在彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，等等，本领域技术人员可根据该显示面板的具体设计进行相应地补充，在此不再赘述。
综上所述，本发明提出了一种显示面板，其包括的阵列基板的显示区表面残留的摩擦碎屑更少，从而使该显示面板的良品率更高。本领域技术人员能够理解的是，前面针对阵列基板母版、阵列基板所描述的特征和优点，仍适用于该显示面板，在此不再赘述。
在本发明的另一个方面，本发明提出了一种显示装置。根据本发明的实施例，显示装置包括上述的显示面板。
根据本发明的实施例，该显示装置的具体类型不受特别的限制，具体例如显示屏、电视、手机、平板电脑或智能手表等，本领域技术人员可根据显示装置的实际使用要求进行相应地选择，在此不再赘述。需要说明的是，该显示装置中除了显示面板以外，还包括其他必要的组成和结构，以LCD显示屏为例，具体例如外壳、控制电路板或电源线，等等，本领域技术人员可根据该显示装置的功能进行相应地补充，在此不再赘述。
综上所述，本发明提出了一种显示装置，包括因配向不良导致的显示画面异常更少的显示面板，从而使该显示装置的显示效果更佳。本领域技术人员能够理解的是，前面针对阵列基板母版、阵列基板、显示面板所描述的特征和优点，仍适用于该显示装置，在此不再赘述。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种阵列基板母版，其特征在于，包括：
基板，所述基板上限定有至少一个显示区和非显示区，所述非显示区环绕所述显示区设置；
配向层，所述配向层设置在所述基板的一侧，且至少覆盖所述至少一个显示区；
保护层，所述保护层与所述配向层同层设置，且覆盖所述非显示区，并且，所述保护层和所述配向层在所述基板上的正投影之和完全覆盖所述基板。
2.根据权利要求1所述的阵列基板母版，其特征在于，所述非显示区包括周边电路区和切割残留区，且所述切割残留区环绕所述周边电路区设置，并且，所述保护层覆盖所述周边电路区和所述切割残留区。
3.根据权利要求1所述的阵列基板母版，其特征在于，形成所述保护层的材料为不吸水的有机绝缘材料。
4.根据权利要求1所述的阵列基板母版，其特征在于，所述保护层的厚度与所述配向层的厚度相同。
5.根据权利要求2所述的阵列基板母版，其特征在于，进一步包括：
阻挡墙，所述阻挡墙设置在所述配向层远离所述基板的一侧，且设置在所述周边电路区中，并且，所述阻挡墙由光刻胶形成。
6.根据权利要求2所述的阵列基板母版，其特征在于，所述非显示区进一步包括虚拟像素区，且所述虚拟像素区设置在所述显示区与所述周边电路区之间，并且，所述阵列基板母版进一步包括至少一个凹槽，所述至少一个凹槽设置在所述虚拟像素区中。
7.根据权利要求6所述的阵列基板母版，其特征在于，所述凹槽的个数为2个，且所述凹槽的深度为0.1～1微米。
8.一种阵列基板，其特征在于，是将所述权利要求1～7中任一项所述的阵列基板母版进行摩擦并切割后获得的。
9.一种显示面板，其特征在于，包括彩膜基板和权利要求8所述的阵列基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
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