CN109461683A - 一种清洗装置及其控制方法、清洗设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种清洗装置及其控制方法、清洗设备,涉及显示器件制备技术领域。其中,该清洗装置包括:水箱;紫外线发射装置,设置于水箱的腔室内;液位传感器,设置于水箱的任一侧壁上,被配置为在水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,向紫外线发射装置的控制器发出液位信号;控制器,分别与紫外线发射装置和液位传感器连接,被配置为在接收到液位传感器的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。本发明实施例中,控制器接收到液位传感器的液位信号时,可以控制紫外线发射装置开启,紫外线发射装置发出的紫外线可以对水箱进行灭菌,从而提高了显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。

Description

一种清洗装置及其控制方法、清洗设备
技术领域
本发明涉及显示器件制备技术领域,特别是涉及一种清洗装置及其控制方法、清洗设备。
背景技术
在薄膜晶体管等显示器件的常见制备过程中,可以首先在基板上形成材料膜层,然后通过湿法刻蚀工艺对材料膜层进行刻蚀,从而形成显示器件。在实际应用中,在对基板进行刻蚀之后,通常需要将刻蚀后的基板依次传送至各个清洗腔室进行多次清洗,以清除掉残留的药液和反应生成物,从而保证基板表面的清洁度。
在实际应用中,出于节水考虑,清洁用水需要进行循环利用,也即是干净的水体首先进入最后一个清洁腔室,除最后一个清洁腔室之外,其余清洁腔室的清洁用水均来源于位于其后的清洁腔室排出的水,第一个清洁腔室的废水则直接排掉。其中,除第一个清洁腔室之外,其余每个清洁腔室排出的水可以分别存储在各个水箱中,进而通过水箱进入前一个清洁腔室中。
然而,由于基板在经过药液与水的置换单元时,其上会携带有微量的化学反应生成物,而这些化学反应生成物会随着清洗过程进入到水箱中,从而导致水箱及其管道处于微酸或微碱环境,极易滋生菌体。当清洗设备运转时,菌体胶状物会随水体喷淋在基板上,难以清洗,从而降低了显示器件的清洁度,极易引起显示不良问题,甚至严重影响显示器件的电学性能。
发明内容
本发明提供一种清洗装置及其控制方法、清洗设备,以解决显示器件清洁设备中的水箱极易滋生菌体,从而显示器件的清洁度低下,极易导致显示器件不良的问题。
为了解决上述问题,本发明公开了一种清洗装置,包括:
水箱;
紫外线发射装置,设置于所述水箱的腔室内;
液位传感器,设置于所述水箱的任一侧壁上,被配置为在所述水箱中的液位超过所述液位传感器的感应高度时,向所述紫外线发射装置的控制器发出液位信号;
所述控制器,分别与所述紫外线发射装置和所述液位传感器连接,被配置为在接收到所述液位传感器的液位信号时,控制所述紫外线发射装置开启,以对所述水箱进行灭菌。
可选地,所述控制器被配置为在检测到所述清洗装置处于运行状态,且接收到所述液位传感器的液位信号时,控制所述紫外线发射装置开启。
可选地,所述清洗装置还包括:
循环泵,分别与所述水箱和所述控制器连接,被配置为在接收到所述控制器的开启指令时,对所述水箱中的水体进行循环处理。
可选地,所述控制器还被配置为在检测到所述清洗装置处于空闲状态,且接收到所述液位传感器的液位信号时,向所述循环泵发送开启指令。
可选地,所述紫外线发射装置包括至少一个水银紫外灯。
可选地,所述水银紫外灯的灯管采用石英材料。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种清洗装置的控制方法,该方法应用于上述清洗装置,包括:
控制器接收液位传感器发送的液位信号;
所述控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。
可选地,所述控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌,包括:
所述控制器检测所述清洗装置的工作状态;
当所述清洗装置处于运行状态时,控制紫外线发射装置开启。
可选地,所述清洗装置还包括循环泵,分别与所述水箱和所述控制器连接;所述控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌,还包括:
当所述清洗装置处于空闲状态时,控制紫外线发射装置开启,以及向循环泵发送开启指令,以使所述循环泵在接收到所述开启指令时,对所述水箱中的水体进行循环处理。
为了解决上述问题,本发明还公开了一种清洗设备,包括上述清洗装置。
与现有技术相比,本发明包括以下优点:
在本发明实施例中,紫外线发射装置可以设置于水箱的腔室内,液位传感器设置于水箱的任一侧壁上,可以被配置为在水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,向紫外线发射装置的控制器发出液位信号,控制器分别与紫外线发射装置和液位传感器连接,可以被配置为在接收到液位传感器的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。在本发明实施例中,控制器可以在接收到液位传感器发出的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,紫外线发射装置发出的紫外线可以对水箱中的水体,以及水箱的内壁进行灭菌,从而提高了显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。
附图说明
图1示出了本发明实施例一的一种清洗装置的结构示意图;
图2示出了本发明实施例二的一种清洗装置的控制方法的流程图。
附图标记说明:
01-水箱,02-紫外线发射装置,03-液位传感器,04-控制器,05-循环泵,011-水箱的下单元喷淋管,012-水箱的排水管,031-防波管,051-循环泵的抽水管,052-循环泵的排水管。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
图1示出了本发明实施例一的一种清洗装置的结构示意图。参照图1,该清洗装置可以包括水箱01、紫外线发射装置02、液位传感器03和控制器04,其中,紫外线发射装置02可以设置于水箱01的腔室内,液位传感器03可以设置于水箱01的任一侧壁上,被配置为在水箱01中的液位超过液位传感器03的感应高度时,向紫外线发射装置02的控制器04发出液位信号,该控制器04可以分别与紫外线发射装置02和液位传感器03连接,被配置为在接收到液位传感器03的液位信号时,控制紫外线发射装置02开启,以对水箱01进行灭菌。
具体地,紫外线发射装置02在开启时可以发出紫外线,其波长范围可以为240纳米至280纳米之间,该波段的紫外线可以使细菌内部蛋白质变性,从而达到灭菌效果。优选的,紫外线发射装置02的波长为254纳米时,灭菌效果通常最佳。
进一步地,根据药液的酸碱度不同,水箱中的酸碱环境也将有所不同,而不同的酸碱环境可能会滋生不同种类的菌体,且不同菌体的最佳灭菌波长可能不同,因此,在实际应用中,可以根据药液的不同,更换不同波长的紫外线发射装置,从而可以对不同种类的菌体进行高效灭菌。
另外,紫外线发射装置02的有效灭菌范围与紫外线发射装置02的功率、波长、数量等因素有关,在实际应用中,可以首先根据灭菌需求,确定期望达到的有效灭菌范围,进而可以根据期望达到的有效灭菌范围,确定紫外线发射装置02在水箱腔室内的安装位置。例如在实际应用中,紫外线发射装置02可以包括至少一个水银紫外灯,在一种实现方式中,紫外线发射装置02可以仅包括一个水银紫外灯,参照图1,该水银紫外灯可以竖直设置于水箱腔室的中间位置,以使该水银紫外灯的有效灭菌范围可以覆盖到水箱腔室的各个位置,从而不仅可以对水箱01内的水体(一般为去离子水)进行灭菌,还能够对水箱的内壁进行灭菌,避免菌体在水箱内壁上生长附着。
在另一种实现方式中,紫外线发射装置02可以包括两个或两个以上的水银紫外灯,且多个水银紫外灯可以距离均匀的竖直设置在水箱腔体中,从而提高灭菌效果。需要说明的是,在实际应用中,由于清洗装置在清洗薄膜晶体管等显示器件时,水箱01中的水体处于流动状态,且通常会进行搅拌,因此,水银紫外灯的数量不宜过多,以避免水银紫外灯过多而降低搅拌效果,从而影响水体的流动性。
在本发明实施例中,为了保证较高的紫外线利用率,水银紫外灯的灯管可以采用石英材料,石英材料的透光率可以达到90%以上,从而可以保证水银紫外灯发射的紫外线能够得到充分利用,进而能够节约电能。当然,在实际应用中,水银紫外灯的灯管还可以采用其他透明度较高,甚至接近全透明的材料,本发明实施例对此不作具体限定。
紫外线发射装置02通常需要在水体达一定的量时对水体进行灭菌,从而避免设备能源浪费,因此,可以在水箱任一侧壁上的预设高度处设置液位传感器03,该预设高度即为实际灭菌时需要达到的水体高度,例如可以为该预设高度可以为水箱最高水位的1/3高度、1/2高度等等,本发明实施例对此不作具体限定。当水箱01中水体的液位超过液位传感器03的感应高度时,液位传感器03可以向紫外线发射装置02的控制器04发出液位信号。
另外,在一种实现方式中,液位传感器03可以直接安装在水箱01的任一侧壁上。在另一种实现方式中,由于清洗装置在清洗显示器件时,水箱01中的水体流动性较大,因此可以为液位传感器03配置防波管031,如图1所示,或者配置防波板,进而可以将配置有防波管或防波板的液位传感器03安装在水箱01的任一侧壁上,从而能够避免液面波动过大而导致液位检测不准的问题,能够提高液位检测的准确度。
需要说明的是,出于液位监控的考虑,在实际应用中,水箱侧壁可以设置至少一个液位传感器,且每个液位传感器的感应高度可以不同,本发明实施例对此不作具体限定。
在本发明实施例中,为了增大水体与紫外线的接触面积和接触时长,参照图1,该清洗装置还可以包括循环泵05,循环泵05可以分别与水箱01和控制器04连接,并被配置为在接收到控制器04的开启指令时,对水箱01中的水体进行循环处理。具体地,循环泵05可以包括与水箱01连接的抽水管051和排水管052,其中,循环泵05可以通过抽水管051,对水箱01中的水体进行抽取,之后可以通过排水管052,将水排入到水箱01中,从而对水箱01中的水体进行循环处理。水体经过循环泵05进行循环,能够增强水体的流动性,进而水体在流动过程中与紫外线的接触增强,从而提高了灭菌效果。
控制器04可以在接收到液位传感器03发出的液位信号时,控制紫外线发射装置02开启,紫外线发射装置02发出的紫外线可以对水箱01中的水体,以及水箱01的内壁进行灭菌,从而提高了显示器件表面的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。
进一步地,在本发明实施例中,清洗装置的工作模式可以分为三种,RUN模式、IDLE模式和PM&MANUAL&ALARM模式。当清洗装置的RUN模式开启时,清洗装置处于运行状态,此时,清洗装置可以对显示器件进行正常的清洗工作。当清洗装置的IDLE模式开启时,清洗装置处于空闲状态,此时,清洗装置开启但不进行清洗工作。当清洗装置的PM&MANUAL&ALARM模式开启时,清洗装置处于进行专业维护(PM,precision maintenance)的状态,或者处于手动控制(manual)的状态,或者处于因故障报警(alarm)的状态。
针对RUN模式,控制器04可以被配置为在检测到清洗装置处于运行状态,且接收到液位传感器03的液位信号时,控制紫外线发射装置02开启。由于清洗装置处于运行状态时,水箱01中的水体由于进行清洗而处于流动状态,因此,控制器04在检测到清洗装置处于运行状态,且接收到液位传感器03的液位信号时,控制紫外线发射装置02开启即可,从而可以借助水体在清洗时的流动性增强与紫外线的接触,而无需开启循环泵05,从而能够节约用电。
针对IDLE模式,且清洗装置包括循环泵05时,控制器04还可以被配置为在检测到清洗装置处于空闲状态,且接收到液位传感器03的液位信号时,向循环泵05发送开启指令,也即是可以控制紫外线发射装置02和循环泵05同时开启。由于清洗装置处于空闲状态时,水箱01中的水体处于较为静止的状态,因此,控制器04在检测到清洗装置处于空闲状态,且接收到液位传感器03的液位信号时,可以在控制紫外线发射装置02开启的同时,也控制循环泵05开启,从而可以通过循环泵05提高水体的流动性,以增强水体与紫外线的接触,能够提高灭菌效果。
针对PM&MANUAL&ALARM模式,由于清洗装置可能在进行维护、或者被手动控制,或者出现故障,因此,紫外线发射装置02和循环泵05可以被配置为在PM&MANUAL&ALARM模式下均处于关闭状态,但是可以保留人为开启紫外线发射装置02和循环泵05的权限。在该模式下,循环泵05和液位传感器03为互锁装置,只有在液位传感器03点亮时,也即水箱01中的液位超过液位传感器03的感应高度时,循环泵05才能被开启,从而可以避免循环泵空转。
进一步地,参照图1,水箱01可以包括设置在水箱底部的下单元喷淋管011和排水管012。其中,下单元喷淋管011可以与清洗设备的喷淋头连接,从而喷淋头可以向传送装置上的基板喷水,从而对基板上的显示器件进行清洗。另外,水箱中的水体可以排水管012排出,或是排入到其他设备中。需要说明的是,图1仅示例性的示出了包括两个管道的水箱,在实际应用中,出于其他需求,水箱底部可以设置更多的管道,本发明实施例对此不作具体限定。
另外,该清洗装置中的控制器04还可以与清洗设备的主控制器连接,从而控制器04可以接收到主控制器的各种指令,并进行相应的控制操作。
在本发明实施例中,紫外线发射装置可以设置于水箱的腔室内,液位传感器设置于水箱的任一侧壁上,可以被配置为在水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,向紫外线发射装置的控制器发出液位信号,控制器分别与紫外线发射装置和液位传感器连接,可以被配置为在接收到液位传感器的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。在本发明实施例中,控制器可以在接收到液位传感器发出的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,紫外线发射装置发出的紫外线可以对水箱中的水体,以及水箱的内壁进行灭菌,从而提高了显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。
实施例二
参照图2,示出了本发明实施例二的一种清洗装置的控制方法的步骤流程图。该方法包括以下步骤:
步骤201:控制器接收液位传感器发送的液位信号。
在本发明实施例中,液位传感器可以在检测到水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,向紫外线发射装置的控制器发出液位信号,进而控制器可以接收到液位传感器发送的液位信号。
步骤202:控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。
在本发明实施例中,控制器在接收到液位传感器发送的液位信号之后,可以控制紫外线发射装置开启,从而能够对水箱中的水体,以及水箱内壁进行灭菌,如此,能够提高显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示不良的问题。
具体地,本步骤可以通过下述方式实现,包括:控制器检测清洗装置的工作状态;当清洗装置处于运行状态时,控制紫外线发射装置开启。
其中,清洗装置的工作模式可以分为三种,RUN模式、IDLE模式和PM&MANUAL&ALARM模式,不同的工作模式可以通过不同的按钮或电信号进行触发。控制器可以首先检测清洗装置的工作状态,也即清洗装置当前在哪种工作模式下运行,当检测到清洗装置的工作模式为RUN模式时,可以确定此时清洗装置处于运行状态,此时,控制器可以控制紫外线发射装置开启,从而利用紫外线进行灭菌。
进一步地,清洗装置还可以包括循环泵,循环泵分别与水箱和控制器连接。相应的,本步骤可以通过下述方式实现,包括:当清洗装置处于空闲状态时,控制紫外线发射装置开启,以及向循环泵发送开启指令,以使循环泵在接收到开启指令时,对水箱中的水体进行循环处理。
当控制器检测到清洗装置的工作模式为IDLE模式时,可以确定此时清洗装置处于空闲状态,此时,由于清洗装置并未进行清洗工作,因此水箱中的水体流动性较低,因此,控制器可以在控制紫外线发射装置开启的同时,向循环泵发送开启指令,从而能够增强水体与紫外线的接触,提高了灭菌效果。
另外,当控制器检测到清洗装置的工作模式为PM&MANUAL&ALARM模式时,可以确定此时清洗装置处于进行专业维护的状态,或者处于手动控制的状态,或者处于因故障报警的状态,此时,紫外线发射装置和循环泵可以被配置为在PM&MANUAL&ALARM模式下均处于关闭状态,但是可以保留人为开启紫外线发射装置和循环泵的权限。在该模式下,循环泵和液位传感器为互锁装置,只有在液位传感器点亮时,也即水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,循环泵才能被开启,从而可以避免循环泵空转。
在本发明实施例中,控制器可以接收液位传感器发送的液位信号,之后控制器可以控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。在本发明实施例中,控制器可以在接收到液位传感器发出的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,紫外线发射装置发出的紫外线可以对水箱中的水体,以及水箱的内壁进行灭菌,从而提高了显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。
实施例三
本发明实施例还公开了一种清洗设备,包括上述清洗装置。
在本发明实施例中,紫外线发射装置可以设置于水箱的腔室内,液位传感器设置于水箱的任一侧壁上,可以被配置为在水箱中的液位超过液位传感器的感应高度时,向紫外线发射装置的控制器发出液位信号,控制器分别与紫外线发射装置和液位传感器连接,可以被配置为在接收到液位传感器的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。在本发明实施例中,控制器可以在接收到液位传感器发出的液位信号时,控制紫外线发射装置开启,紫外线发射装置发出的紫外线可以对水箱中的水体,以及水箱的内壁进行灭菌,从而提高了显示器件的清洁度,避免因水体或水箱内壁存在菌体而导致显示器件不良的问题。
对于前述的各方法实施例,为了简单描述,故将其都表述为一系列的动作组合,但是本领域技术人员应该知悉,本发明并不受所描述的动作顺序的限制,因为依据本发明,某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次,本领域技术人员也应该知悉,说明书中所描述的实施例均属于优选实施例,所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个......”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种清洗装置及其控制方法、清洗设备,进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种清洗装置,其特征在于,包括:
水箱;
紫外线发射装置,设置于所述水箱的腔室内;
液位传感器,设置于所述水箱的任一侧壁上,被配置为在所述水箱中的液位超过所述液位传感器的感应高度时,向所述紫外线发射装置的控制器发出液位信号;
所述控制器,分别与所述紫外线发射装置和所述液位传感器连接,被配置为在接收到所述液位传感器的液位信号时,控制所述紫外线发射装置开启,以对所述水箱进行灭菌。
2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述控制器被配置为在检测到所述清洗装置处于运行状态,且接收到所述液位传感器的液位信号时,控制所述紫外线发射装置开启。
3.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置还包括:
循环泵,分别与所述水箱和所述控制器连接,被配置为在接收到所述控制器的开启指令时,对所述水箱中的水体进行循环处理。
4.根据权利要求3所述的清洗装置,其特征在于,所述控制器还被配置为在检测到所述清洗装置处于空闲状态,且接收到所述液位传感器的液位信号时,向所述循环泵发送开启指令。
5.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述紫外线发射装置包括至少一个水银紫外灯。
6.根据权利要求5所述的清洗装置,其特征在于,所述水银紫外灯的灯管采用石英材料。
7.一种清洗装置的控制方法,其特征在于,所述方法应用于权利要求1至6任一项所述的清洗装置,所述方法包括:
控制器接收液位传感器发送的液位信号;
所述控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌,包括:
所述控制器检测所述清洗装置的工作状态;
当所述清洗装置处于运行状态时,控制紫外线发射装置开启。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述清洗装置还包括循环泵,分别与所述水箱和所述控制器连接;所述控制器控制紫外线发射装置开启,以对水箱进行灭菌,还包括:
当所述清洗装置处于空闲状态时,控制紫外线发射装置开启,以及向循环泵发送开启指令,以使所述循环泵在接收到所述开启指令时,对所述水箱中的水体进行循环处理。
10.一种清洗设备,其特征在于,包括权利要求1至6任一所述的清洗装置。
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Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62160188A (ja) * 1986-01-10 1987-07-16 Nec Kansai Ltd 純水タンク
JPH04110851A (ja) * 1990-08-30 1992-04-13 Fujitsu Ltd マスク洗浄装置及び洗浄方法
JPH11147051A (ja) * 1997-11-17 1999-06-02 Ebara Corp 収納空間の清浄化方法及びその装置
CN2548627Y (zh) * 2002-05-15 2003-05-07 尚晓东 手术室用消毒储水箱
CN201021832Y (zh) * 2007-02-09 2008-02-13 广州佳仕峰机电实业有限公司 紫外线灭菌环保空气调节机
CN101838921A (zh) * 2010-05-26 2010-09-22 方益民 紫外杀菌洗衣机
CN203875055U (zh) * 2014-05-23 2014-10-15 北京京东方显示技术有限公司 一种回水管路及清洗设备
KR20160018915A (ko) * 2014-08-07 2016-02-18 전자부품연구원 자외선 발광 다이오드를 이용한 유체 살균 장치
CN106477666A (zh) * 2015-08-26 2017-03-08 Lg电子株式会社 净水系统及杀菌方法
CN206213228U (zh) * 2016-09-29 2017-06-06 王泽武 一种用于农业的蔬菜清洗机
CN206951689U (zh) * 2017-06-08 2018-02-02 徐风亮 一种检验科用试管内外同步清洗装置
CN208019049U (zh) * 2017-12-28 2018-10-30 宋慧丽 医疗器械用新型清洗机

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62160188A (ja) * 1986-01-10 1987-07-16 Nec Kansai Ltd 純水タンク
JPH04110851A (ja) * 1990-08-30 1992-04-13 Fujitsu Ltd マスク洗浄装置及び洗浄方法
JPH11147051A (ja) * 1997-11-17 1999-06-02 Ebara Corp 収納空間の清浄化方法及びその装置
CN2548627Y (zh) * 2002-05-15 2003-05-07 尚晓东 手术室用消毒储水箱
CN201021832Y (zh) * 2007-02-09 2008-02-13 广州佳仕峰机电实业有限公司 紫外线灭菌环保空气调节机
CN101838921A (zh) * 2010-05-26 2010-09-22 方益民 紫外杀菌洗衣机
CN203875055U (zh) * 2014-05-23 2014-10-15 北京京东方显示技术有限公司 一种回水管路及清洗设备
KR20160018915A (ko) * 2014-08-07 2016-02-18 전자부품연구원 자외선 발광 다이오드를 이용한 유체 살균 장치
CN106477666A (zh) * 2015-08-26 2017-03-08 Lg电子株式会社 净水系统及杀菌方法
CN206213228U (zh) * 2016-09-29 2017-06-06 王泽武 一种用于农业的蔬菜清洗机
CN206951689U (zh) * 2017-06-08 2018-02-02 徐风亮 一种检验科用试管内外同步清洗装置
CN208019049U (zh) * 2017-12-28 2018-10-30 宋慧丽 医疗器械用新型清洗机

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