CN109420185B - 破坏臭氧的紫外光清洁系统以及方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及破坏臭氧的紫外光清洁系统以及方法。一种紫外(UV)光清洁系统构造成清洁部件的表面。该UV光清洁系统包括UV光组件，该UV光组件包括UV光源，该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的所述表面上。气流发生器构造成在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流。由所述气流发生器产生的所述气流破坏臭氧的形成。

Description

破坏臭氧的紫外光清洁系统以及方法

技术领域

本公开的实施方式总体涉及用于利用紫外光清洁例如商用飞行器的盥洗室内的表面的系统以及方法，更特别地涉及破坏臭氧的紫外光清洁系统以及方法。

背景技术

商用飞行器用于在多个位置之间运送乘客。一般的商用飞行器包括位于内部舱内的一个或者多个盥洗室。

系统当前发展成使用紫外(UV)光消毒或者清洁飞行器盥洗室内的表面。例如，远UV光有效消毒盥洗室内的裸露表面。

UV光与空气相互作用产生臭氧。当UV光穿过空气时，UV光与氧分子相互作用产生臭氧分子。

臭氧对个体以及结构两者都有刺激性。例如，某些个体可能由于长期暴露至臭氧而易受呼吸障碍的影响。而且，臭氧是可以降解各种结构的表面的活性气体。

因此，一般控制受限空间内的臭氧的量。联邦航空局(FAA)提出了关于飞行器上臭氧的存在的监管与指导方针。例如，FAA监管指导方针将飞行器的内部舱内的臭氧的量限制至在八小时时间表内平均十亿分之一百的臭氧。而且，FAA监管指导方针还将飞行器的内部舱内的臭氧的量限制至在三小时高峰时间内十亿分之二百五十的臭氧。

因此，飞行器操作者试图限制飞行器内臭氧的量。一种公知的消毒方法通过紧密邻近待灭菌的表面安放灭菌UV光而限制产生的臭氧的量。例如，UV光可以在离待灭菌表面一至六英寸内。UV光紧密邻近表面，这限制臭氧产生，因为臭氧行经较短距离的环境空气。然而，多种结构不能在这样紧密邻近UV光的范围内。例如，UV光可能不会有效定位在马桶或者盥洗室内的地板的若干英寸的范围内。

发明内容

对限制受限空间内的臭氧的量的系统与方法存在需求。对破坏受限空间内臭氧的产生的系统与方法存在需求。

考虑到这些需求，本公开的特定实施方式提供一种构造成清洁部件的表面的紫外(UV)光清洁系统。该UV光清洁系统包括：包括UV光源的UV光组件，该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的所述表面上；以及气流发生器，该气流发生器构造成在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流。由所述气流发生器产生的所述气流破坏臭氧的形成。

在至少一个实施方式中，UV光清洁系统包括壳体。所述UV光组件固定在所述壳体内。所述气流发生器可以固定至所述壳体。可选地，所述气流发生器可以远离所述壳体定位。例如，所述气流发生器构造成邻近部件的一部分固定。

在至少一个实施方式中，UV光控制单元可操作地联接至所述UV光组件以及所述气流发生器。所述UV光控制单元构造成控制所述UV光组件以及所述气流发生器的操作。所述UV光控制单元构造成在清洁周期中启用所述UV光源。所述UV光控制单元构造成在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器。

在至少一个实施方式中，所述气流发生器包括风扇组件。该风扇组件可以包括可操作地联接至至少一个致动器的至少一个风扇。

所述气流发生器构造成沿以及/或者横过所述UV光发射区域产生气流。

本公开的特定实施方式提供一种构造成清洁部件的表面的紫外(UV)光清洁方法。该UV光清洁方法包括：利用UV光组件的UV光源将UV光发射到所述部件的所述表面上；使用气流发生器以在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流；以及用由所述气流发生器产生的所述气流破坏臭氧的形成。

本公开的特定实施方式提供一种包括内部舱的交通工具。盥洗室位于内部舱内。所述盥洗室包括一部件。紫外(UV)光清洁系统布置在所述盥洗室内并且构造成清洁所述部件的表面。

附图说明

图1根据本公开的一个实施方式示出了紫外(UV)光清洁系统的示意图。

图2根据本公开的一个实施方式示出了用于封闭空间的UV光清洁系统的示意图。

图3根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统的简化视图。

图4根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统的简化视图。

图5根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统的简化视图。

图6根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统的简化视图。

图7根据本公开的一个实施方式示出了用UV光清洁部件的方法的流程图。

图8根据本公开的一个实施方式示出了飞行器的立体前视图。

图9根据本公开的一个实施方式示出了盥洗室的立体内部视图。

具体实施方式

当结合附图阅读时会更好地理解前面的概要以及特定实施方式的以下的详细描述。如本文中使用的，以单数形式叙述并且在前面加上词“一”的元件或者步骤应理解成不必排除多个元件或者步骤。而且，“一个实施方式”的提法不意图解释成排除存在也结合所述特征的另外的实施方式。而且，除非有清楚地相反声明，“包括”或者“具有”具有特定条件的元件或者多个元件的实施方式可以包括不具有此条件的另外的元件。

本公开的特定实施方式提供一种这样的紫外(UV)光清洁系统，该UV光清洁系统包括：诸如远UV光源之类的光源；以及风扇组件，该风扇组件构造成邻近UV光源以及/或者邻近构造成用UV光源发射的UV光灭菌的部件的表面产生气流。在操作过程中，由风扇组件产生的气流将空气驱散(例如，吹走)离开光源，因而消除臭氧、使臭氧最少化或者减少臭氧。

图1根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统100的示意图。UV光清洁系统100包括保持UV光组件104的壳体102、气流发生器106以及UV光控制单元108。UV光组件104、气流发生器106以及UV光控制单元108可以布置在壳体102内，例如布置在由外壁限定的内部室内。可选地，UV光组件104、气流发生器106以及UV光控制单元108中的一者或者多者可以安装在壳体102的外表面上。在至少一个其它实施方式中，气流发生器106以及/或者UV光控制单元108可以远离壳体102定位。例如，气流发生器106可以固定在构造成被从UV光组件104发射的UV光清洁的部件的表面上并且/或者邻近该部件的表面(例如，在小于五英寸的范围内)。

UV光组件104包括UV光源110以及反射器112。UV光源110可以固定在由反射器112限定的空间的体积范围内。例如，反射器112可以是抛物面反射器(例如由铝形成，并且/或者具有内部的反射镜面)，并且UV光源110可以在由抛物面反射器限定的空间的内部体积范围内。可选地，反射器112可以不同于抛物面成形。作为另一实施例，UV光源110本身可以包括反射器112。在至少一个其它实施方式中，UV光组件104可以不包括反射器112。

UV光源110可操作地联接至UV光控制单元108。UV光源110可以包括一个或者多个诸如弧光灯、激光、发光二极管(LED)、微丝、电灯泡、光纤元件之类的UV光元件114，UV光元件114构造成在清洁周期中将UV光发射到在受限空间内的一个或者多个结构上。在至少一个实施方式中，UV光元件114构造成发射远UV光。另选地，UV光元件114可以构造成发射其它类型的诸如长波紫外(UVA)光、中波紫外(UVB)光、短波紫外(UVC)光、真空UV光之类的UV光。在至少一个实施方式中，UV光源110可以包括构造成发射具有不同UV波段(例如，不同波长以及不同频率)的UV光的UV光元件。例如，一个UV光元件可以构造成发射远UV光，而另一UV光元件可以构造成发射UVC光。

UV光控制单元108经由一个或者多个有线或者无线连接联接至UV光组件104，并且构造成控制UV光组件104的操作。UV光控制单元108输出启用信号，UV光组件104(特别是UV光源110)接收该启用信号。在清洁周期中，启用信号启用并控制UV光源110，UV光源110将UV光发射到受限空间内的一个或者多个结构上。UV光控制单元108可以包括或者联接至储存关于清洁周期的数据的存储器。

气流发生器106例如经由一个或者多个有线或者无线连接也可操作地联接至UV光控制单元108。在至少一个实施方式中，气流发生器106包括风扇组件116，该风扇组件包括风扇118(例如，具有叶片的转子)，该风扇可操作地联接至致动器120(例如电动马达)。气流发生器106可以是或者包括电转子风扇、无叶风扇、一个或者多个摆头风扇等。气流发生器106构造成在UV光源110发射UV光的区域中产生气流并且/或者将气流产生到发射的UV光被送往的表面上。

在操作中，在清洁周期中，UV光控制单元108启用UV光源110以将UV光发射到待清洁的表面上。当UV光源110被启用以发射UV光时，UV光控制单元还启用气流发生器106以在UV光发射的区域(例如，在UV光源110与待被发射的UV光清洁的表面之间)产生气流。在至少一个实施方式中，当UV光控制单元108启动清洁周期时，UV光控制单元108可以在启用UV光源110以发射UV光之前首先启用气流发生器106以产生气流。例如，可以在启用UV光源110之前一秒启用气流发生器106以便在从UV光源110发射UV光之前气流发生器106达到充分的操作速度。可选地，可以在启用UV光源110之前小于一秒的时段启用气流发生器106。在至少一个其它的实施方式中，可以同时启用UV光源110与气流发生器106。另选地，可以在启用UV光源110之后启用气流发生器106。

在清洁周期中操作气流发生器106。例如，气流发生器106可以被操作成在用和UV光源110发射UV光一样长的时间(例如两或者三秒)产生穿过UV光发射的区域的气流并且/或者在UV光发射的区域内产生气流。在至少一个实施方式中，在UV光源110停用后，气流发生器106可以保持活跃成在预定时段(例如额外的一秒或者两秒)产生气流。

如表明的，气流发生器106可以包括风扇组件116，该风扇组件可以包括风扇118，该风扇可操作地联接至致动器120。UV光控制单元108可以例如经由一个或者多个有线或者无线连接可操作地联接至致动器120。致动器120可以是电子马达或电动马达、一个或者多个螺线管等，致动器120例如经由可操作地联接至该致动器120的转子而使风扇118旋转。当风扇的转子旋转时，联接至转子的叶片产生气流。风扇118可以使气流朝UV光源110送，越过UV光源110并且/或者越过壳体102中的孔或者其它这样的开口，UV光发射穿过该孔或者开口。例如，风扇118可以操作成将空气吹到UV光源110上以及/或者UV光源110周围。可选地，风扇118可以操作成将空气抽到UV光源110中、抽到UV光源110上以及/或者抽到UV光源110周围。风扇118可以使气流朝构造成被从UV光源110发射的UV光清洁的表面送，并且越过该表面。例如，风扇118可以操作成将空气吹到正被UV光清洁的表面并且/或者越过该表面。可选地，风扇118可以操作成将空气抽到正被UV光清洁的表面中，抽到该表面上以及/或者抽到该表面周围。

概括而言，气流发生器106构造成在位于UV光源110与正被UV光源110发射的UV光清洁的部件的表面之间的UV光发射区域的至少一部分中产生气流。气流发生器106沿并且/或者越过UV光产生区域产生气流。

UV光清洁系统100利用这样的化学过程，借助该化学过程，UV光将氧气(O₂)分子转化成臭氧(O₃)分子。为了产生一个臭氧分子，UV光子将两个O₂分子从基态激发至激发态。这两个被激发的O₂分子一般在它们衰退至不活跃态之前彼此碰撞。因此，给定体积中臭氧产生的比率关于激发的O₂分子的浓度不是线性的。然而，臭氧产生的比率与激发的O₂分子的浓度的平方成比例。在一般的盥洗室应用中，UV光在盥洗室内的小体积(例如，UV光源110与待消毒的诸如台上盆之类的表面之间的区域)中是密集的。几乎所有的被激发的O₂分子产生在空间的小体积中。

气流发生器106通过在UV光产生的区域的至少一部分中产生气流而破坏臭氧的产生，从而驱散被激发的O₂分子。在这样做的过程中，被激发的O₂分子在它们衰退至不活跃态之前不可能(或者不太可能)相互碰撞。气流发生器106邻近(例如，在6英寸或者更小的范围内)UV光源110以及/或者待消毒的表面产生气流。然后，产生的气流遍布封闭空间流通，携带着被激发的O₂分子与其一起，从而将被激发的O₂分子从靠近UV光源110的区域驱散到诸如盥洗室之类的整个封闭空间中。

例如，假定UV光源110的区域与盥洗室的整个区域的体积比是1：100。在小区域中具有浓度X的被激发的O₂分子扩散至在整个盥洗室中X/100的浓度。因为臭氧产生比率与浓度的平方成比例，所以扩散使臭氧产生比率减小100²倍(即，10000倍)。被激发的O₂分子衰退至基态O₂的时间常数不变，从而衰退相比臭氧产生变得更为可能。臭氧产生的显著减少减小了对代价高的臭氧对策的需求。

UV光清洁系统100通过UV光发射到表面上而提供高效率以及有效果的清洁。与从封闭空间完全奔涌空气的另选相比，UV光清洁系统100节省能量、周期以及调节的空气。而且，与使用臭氧过滤器相比，UV光清洁系统100节省能量、周期以及维护时间与工作。

如本文中使用的，术语“控制单元”、“中央处理器”、“CPU”、“计算机”等可以包括任一基于处理器或者基于微处理器的系统，该系统包括使用微控制器、精简指令集计算机(RISC)、特定用途集成电路(ASIC)、逻辑电路以及任何其它电路或者包括能够执行本文中描述的功能的硬件、软件或者其组合的处理器的系统。这仅是示例性的，因而不意图以任何方式限制这些术语的定义以及/或者含义。例如，UV光控制单元108可以是或者包括一个或者多个处理器。

UV光控制单元108构造成执行储存在一个或者多个数据存储单元或者元件(例如一个或者多个存储器)中的一组指令以便处理数据。例如，UV光控制单元108可以包括或者联接至一个或者多个存储器。数据存储单元也可以根据期望或者需要储存数据或者其它信息。数据存储单元可以呈处理机内的信息源或者物理存储器元件的形式。

这组指令可以包括指导作为处理机的UV光控制单元108进行诸如本文中描述的主题的各个实施方式的方法与处理之类的特定操作的各种命令。这组指令可以呈软件程序的形式。软件可以呈诸如系统软件或者应用软件之类的各种形式。而且，软件可以呈单独的程序的集合、较大程序的程序子集或者程序的一部分的形式。软件还可以包括呈面向对象的程序设计的形式的模块化程序设计。由处理机进行的输入数据的处理可以响应于用户命令，或者响应于先前处理的结果，或者响应于由另一处理机做出的要求。

本文中实施方式的图可以示出一个或者多个诸如UV光控制单元108之类的控制或处理单元。要理解，处理或控制单元可以代表电路、电路系统或者其一部分，这些可以与相关指令(例如，储存在有形的并且非暂时性计算机可读存储介质(例如计算机硬盘驱动器、ROM、RAM)等)上的软件，)一起实施成进行本文中描述的操作的硬件。硬件可以包括状态机电路系统，其硬连线以执行本文中描述的功能。可选地，硬件可以包括电子电路，这些电子电路包括并且/或者连接至一个或者多个诸如微处理器、处理器、控制器之类的基于逻辑的装置。可选地，UV光控制单元108可以代表处理电路系统，例如现场可编程门陈列(FPGA)、特定用途集成电路(ASIC)、微处理器等中的一者或者多者。各个实施方式中的电路可以构造成执行一种或者多种算法以进行本文中描述的功能。无论流程图或者方法中是否明确确定，一种或者多种算法可以包括本文中公开的实施方式的多方面。

如本文中使用的，术语“软件”与“固件”是可交换的，并且包括储存在数据存储单元(例如，一个或者多个存储器)中的由计算机执行的任何计算机程序，数据存储单元包括RAM存储器、ROM存储器、EPROM存储器、EEPROM存储器以及非易失性RAM(NVRAM)存储器。以上的数据存储单元类型仅是示例性的，因而不限于可用于计算机程序的存储的存储器的类型。

图2根据本公开的一个实施方式示出了用于封闭空间200的UV光清洁系统100的示意图。封闭空间200可以由地板204、天花板206以及在地板204与天花板206之间延伸的壁208限定。门210可以可移动地固定至壁208中的一者。门210可以包括锁212，该锁构造成将门210固定地锁在闭合位置中。当锁212位于锁定位置中时，门210不能被打开。当锁212位于非锁定位置中时，门210可以被打开。

封闭空间200可以是商用飞行器上的受限空间。例如，封闭空间200可以是飞行器上的盥洗室。作为另一实施例，封闭空间200可以是飞行器上的厨房。作为再一实施例，封闭空间200可以是飞行器上的乘客区。封闭空间200可以包括或者不包括门210。封闭空间200可以在各种其它交通工具、结构等内。例如，封闭空间200可以是商业、市政或者住宅建筑内的房间或者火车、客车、船等上的房间。

封闭空间200可以包括使用后待清洁(例如，消毒、灭菌或者其它清理)的至少一个部件214。例如，部件214可以是飞行器的盥洗室内的马桶、水槽、地板、橱柜、壁等。

如所示，UV光清洁系统100可以与壁208中的一者嵌装在一起。可选地，UV光清洁系统100可以安装在壁208的外表面上。在至少一个其它实施方式中，UV光清洁系统100可以固定至天花板206。在至少一个其它实施方式中，UV光清洁系统100可以固定至地板204以及/或者部件214。

UV光组件104构造成在清洁周期中将UV光220发射到部件214的表面上。在清洁周期中，在UV光组件104与部件214的表面之间的UV光发射区域221中发射UV光220。如以上描述的，可以包括可操作地联接至致动器120的风扇118的气流发生器106(例如在从UV光组件104发射UV光之前、过程中以及/或者之后)在UV光发射区域中的至少一部分中产生气流，从而破坏臭氧的产生。

图3根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统100的简化视图。壳体102可以包括连接至光出口通道152的不透明外壁150，所述光出口通道诸如孔或者其它这样的开口、透明窗(例如由玻璃或者透明塑料形成)之类。光源110可以借助紧固件、托架或者其它这样的安装特征固定至壳体102。在至少一个实施方式中，光源110可以借助至少一个诸如插座、托架、紧固件、导轨、轨道、扣钩、套筒之类的保持构件固定至反射器112。

气流产生器106可以包括邻近光出口通道152固定至壳体102的一个或者多个风扇118。风扇118可以取向成横过光出口通道152吹并且/或者抽空气。即，风扇118可以取向并且构造成横过UV光发射区域的一部分吹并且/或者抽空气。

图4根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统100的简化视图。在此实施方式中，气流发生器106可以在UV光源110后面安装至壳体102。气流发生器106可以包括一个或者多个风扇118，风扇118构造成将空气吹并且/或者抽到UV光源110中以及/或者UV光源110周围，从而减少臭氧形成并且同时冷却UV光源110处。

图5根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统100的简化视图。在此实施方式中，气流发生器106可以远离壳体102定位。例如，气流发生器106可以安装到部件214上并且/或者邻近部件214安装，并且构造成将空气吹并且/或者抽到构造成被UV光源110发射的UV光清洁的部件214的表面上并且或者横过部件214的表面吹并且/或者抽空气。

图6根据本公开的一个实施方式示出了UV光清洁系统100的简化视图。在此实施方式中，气流发生器106可以经由一个或者多个托架160安装至壳体102。一个或者多个风扇118指向壳体102并且/或者UV光源110的内部。

参照图1至图6，在清洁周期之前、过程中以及/或者之后，气流发生器106在位于UV光源110与被UV光源110产生的UV光清洁的部件214之间的UV光发射区域的至少一部分内产生气流。通过在UV光发射区域的至少一部分内产生气流，被激发的氧气分子扩散遍布封闭空间200，从而减少臭氧分子形成的可能性。

封闭空间200还可以包括定位在其中以及/或者遍布的通风孔以及/或者额外的风扇。通风孔以及/或者额外的风扇构造成减少封闭空间200内的区域处的空气停滞。

图7根据本公开的一个实施方式示出了用UV光清洁部件的方法的流程图。参照图1以及图7，在300处，UV光控制单元108启动清洁周期(例如，在由个体使用飞行器上的盥洗室后)。在302处，UV光控制单元108启用气流发生器106以产生气流。在304处，UV光控制单元108启用UV光源110以将UV光发射到待清洁的部件上。步骤302可以在步骤304之前发生。可选地，步骤302与304可以同时发生。在306处，产生的气流破坏UV光发射区域内的臭氧的形成。

在308处，UV光控制单元108确定是否完成清洁周期。如果未完成清洁周期，则方法返回至304。然而，如果在308处完成清洁周期，则方法进行至310，在310处，UV光控制单元108使UV光源110停用。然后，在312处，UV光控制单元108使气流发生器106停用。步骤310可以在步骤312之前发生。可选地，步骤310与312可以同时发生。方法在314处终止。

图8根据本公开的一个实施方式示出了飞行器400的前视立体图。飞行器400包括推进系统412，该推进系统可以包括例如两个涡轮风扇发动机414。可选地，推进系统412可以包括比所示更多的发动机414。发动机414被飞行器400的机翼416携载。在其它实施方式中，发动机414可以被机身418以及/或者尾翼420携载。尾翼420也可以支撑水平稳定器422以及竖向稳定器424。

飞行器400的机身418限定内舱，该内舱可以包括驾驶舱430、一个或者多个工作区间(例如，厨房、员工随身行李区等)、一个或者多个乘客区间(例如，头等客舱、商务客舱以及二等客舱)以及机尾区间，机尾休息区组件可以定位在该机尾区间中。各个区间均可以被舱过渡区隔开，舱过渡区可以包括一个或者多个客舱隔板组件。头顶上的行李架组件可以遍布内部舱定位。内部舱包括一个或者多个诸如盥洗室之类的室。一个或者多个UV光清洁系统100(例如，参照图1至图7示出并且描述的)可以定位在内部舱内。

另选地，代替飞行器，本公开的实施方式可以与各种其他诸如汽车、客车、机车以及拖车、水运工具船之类的交通工具一起使用。而且，本公开的实施方式可以关于诸如商业建筑以及住宅建筑之类的固定结构使用。

图9根据本公开的一个实施方式示出了盥洗室200的内部立体图。如提到的，例如，盥洗室200是关于图2所示以及描述的封闭空间200的实施例。如以上描述的，盥洗室200可以在飞行器上。可选地，盥洗室200可以在各种其它交通工具上。在其它实施方式中，盥洗室200可以在诸如商业建筑以及住宅建筑之类的固定结构内。

盥洗室200包括支撑马桶500、橱柜506以及水槽502的基部地板502。UV光清洁系统100固定在盥洗室200内并且构造成在清洁周期中被启用以清洁(例如，消毒、灭菌或者其它清理)盥洗室200内的诸如马桶500、地板502、橱柜506以及/或者水槽502之类的各种结构。

而且，本公开包括根据下面条款的实施方式：

条款1.一种构造成清洁部件的表面的紫外(UV)光清洁系统，该UV光清洁系统包括：

包括UV光源的UV光组件(104)，该UV光源构造成将UV光发射到部件的表面上；以及

气流发生器(106)，该气流发生器构造成在位于UV光源与部件的表面之间的UV光发射区域内产生气流，其中，由气流发生器(106)产生的气流破坏臭氧的形成。

条款2.根据条款1的UV光清洁系统，该UV光清洁系统进一步包括壳体(102)，其中，UV光组件(104)固定在壳体(102)内。

条款3.根据条款2的UV光清洁系统，其中，气流发生器(106)固定至壳体(102)。

条款4.根据条款2或者3的UV光清洁系统，其中，气流发生器(106)远离壳体(102)定位，其中，气流发生器(106)构造成邻近部件的一部分固定。

条款5.根据条款1至4中任一项的UV光清洁系统，该UV光清洁系统进一步包括UV光控制单元(108)，该UV光控制单元可操作地联接至UV光组件(104)以及气流发生器(106)，其中，UV光控制单元(108)构造成控制UV光组件(104)以及气流发生器(106)的操作。

条款6.根据条款5的UV光清洁系统，其中，UV光控制单元(108)构造成在清洁周期中启用UV光源。

条款7.根据条款6的UV光清洁系统，其中，UV光控制单元(108)构造成在清洁周期中在UV光源被启用之前启用气流发生器(106)。

条款8.根据条款1至7中任一项的UV光清洁系统，其中，气流发生器(106)包括风扇组件，该风扇组件包括可操作地联接至至少一个致动器(120)的至少一个风扇(118)。

条款9.根据条款1至8中任一项的UV光清洁系统，其中，气流发生器(106)构造成沿UV光发射区域产生气流。

条款10.根据条款1至9中任一项的UV光清洁系统，其中，气流发生器(106)构造成横过UV光发射区域产生气流。

条款11.一种构造成清洁部件的表面的紫外(UV)光清洁方法，该UV光清洁方法包括：

利用UV光组件(104)的UV光源将UV光发射到部件的表面上；

使用气流发生器(106)以在位于UV光源与部件的表面之间的UV光发射区域内产生气流；以及

用由气流发生器(106)产生的气流破坏臭氧的形成。

条款12.根据条款11的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括将UV光组件(104)固定在壳体(102)内。

条款13.根据条款12的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括将气流发生器(106)固定至壳体(102)。

条款14.根据条款12或者13的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括使气流发生器(106)远离壳体(102)定位，其中，远程定位包括使气流发生器(106)邻近部件的一部分定位。

条款15.根据条款11至14中任一项的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括：

将UV光控制单元(108)可操作地联接至UV光组件(104)以及气流发生器(106)；并且

使用UV光控制单元(108)以控制UV光组件(104)以及气流发生器(106)的操作。

条款16.根据条款15的UV光清洁方法，其中，使用UV光控制单元(108)包括在清洁周期中启用UV光源。

条款17.根据条款16的UV光清洁方法，其中，使用UV光控制单元(108)包括在清洁周期中在UV光源被启用之前启用气流发生器(106)。

条款18.根据条款15、16或者17的UV光清洁方法，其中，使用气流发生器(106)包括沿UV光发射区域产生气流。

条款19.根据条款15至18中任一项的UV光清洁方法，其中，使用气流发生器(106)包括横过UV光发射区域产生气流。

条款20.一种交通工具，该交通工具包括：

内部舱；

内部舱内的盥洗室，其中盥洗室包括一部件；以及

紫外(UV)光清洁系统，该UV光清洁系统布置在盥洗室内并且构造成清洁所述部件的表面，该UV光清洁系统包括：

壳体(102)；

包括UV光源的UV光组件(104)，该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的表面上，其中，UV光组件(104)固定在壳体(102)内；

气流发生器(106)，该气流发生器构造成在位于UV光源与部件的表面之间的UV光发射区域内产生气流，其中，由气流发生器(106)产生的气流破坏臭氧的形成，其中，气流发生器(106)构造成在沿UV光发射区域并且横过UV光发射区域这之中的一者或者两者产生气流；以及

UV光控制单元(108)，该UV光控制单元可操作地联接至UV光组件(104)以及气流发生器(106)，其中，UV光控制单元(108)构造成控制UV光组件(104)以及气流发生器(106)的操作，其中，UV光控制单元(108)构造成在清洁周期中启用UV光源。

如本文中描述的，本公开的实施方式提供在受限空间内消除臭氧、使臭氧最少化或者减少臭氧的UV光清洁系统以及方法。UV光清洁系统以及方法破坏受限空间内的臭氧产生。

尽管诸如顶部、底部、下部、中部、横向、水平、垂直、前面之类的各种空间以及方向性术语可以用于描述本公开的实施方式，但是要理解这些术语仅关于图中所示的取向使用。取向可以颠倒、旋转或者改变，使得上部是下部，反之亦然，水平成为垂直，等。

如本文中使用的，以对应任务或者操作的方式特别地在结构上形成、构建或者适应“构造成”执行任务或者操作的结构、限制因素或者元件。出于清楚并且避免疑惑的目的，如本文中使用的，仅能够变型成执行任务或者操作的客体不“构造成”执行任务或者操作。

要理解，以上描述理应是例示性的，并且不是限制性的。例如，上述实施方式(以及/或者其方面)可以相互结合使用。此外，在不脱离本公开的各种实施方式的教导的情况下可以对这些教导做出变型以适应特定的情形或者材料。尽管本文中描述的材料的维度与类型意图限定本公开的各种实施方式的参数，但是这些实施方式绝不是限制性的而是例示性的实施方式。对于本领域中的技术人员而言，在阅读以上描述的基础上会清楚其他实施方式。因此，应当参照所附权利要求连同这些权利要求赋予的同等物的全部范围一起确定本公开的各种实施方式的范围。在所附权利要求中，术语“包括”以及“在……中”用作相应术语“包含”以及“其中”的简明英语同等物。而且，术语“第一”、“第二”以及“第三”等仅用作标注，并不意图对他们的客体施加数值要求。而且，不以手段加功能的格式撰写所附权利要求的限定，并且不意图基于35U.S.C.§112(f)解释这些限定，除非并且直到这样的权利要求限定明确地使用伴有没有其他结构的功能的陈述的短语“用于……的手段”。

此书面描述利用实施例以公开本公开的各种实施方式(包括最佳方式)，并且也使得本领域中的技术人员能够实践本公开的各种实施方式(包括制作并使用任一装置或系统并且执行任一组合的方法)。本公开的各种实施方式的可取得专利权的范围由权利要求限定，并且可以包括本领域的技术人员想到的其他实施例。如果这样的其他实施例具有与权利要求的字面语言无区别的结构性元件，或者如果这样的其他实施例包括与权利要求的字面语言无实体性差异的等同结构元件，那么这些实施例理应在权利要求的范围内。

Claims (14)

1.一种构造成清洁部件的表面的紫外即UV光清洁系统，该UV光清洁系统包括：

包括UV光源的UV光组件（104），该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的所述表面上；以及

气流发生器（106），该气流发生器构造成在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流，

其中，由所述气流发生器（106）产生的所述气流破坏臭氧的形成；

该UV光清洁系统进一步包括UV光控制单元（108），该UV光控制单元能操作地联接至所述UV光组件（104）以及所述气流发生器（106），其中，所述UV光控制单元（108）构造成控制所述UV光组件（104）以及所述气流发生器（106）的操作，

其中，所述UV光控制单元（108）构造成在清洁周期中启用所述UV光源，

其中，所述气流发生器（106）构造成横过所述UV光发射区域产生气流。

2.根据权利要求1所述的UV光清洁系统，该UV光清洁系统进一步包括壳体（102），其中，所述UV光组件（104）固定在所述壳体（102）内。

3.根据权利要求2所述的UV光清洁系统，其中，所述气流发生器（106）固定至所述壳体（102）。

4.根据权利要求2或者3所述的UV光清洁系统，其中，所述气流发生器（106）远离所述壳体（102）定位，其中，所述气流发生器（106）构造成邻近所述部件的一部分固定。

5.根据权利要求1所述的UV光清洁系统，其中，所述UV光控制单元（108）构造成在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器（106）。

6.根据权利要求1至3中的任一项所述的UV光清洁系统，其中，所述气流发生器（106）包括风扇组件，该风扇组件包括能操作地联接至至少一个致动器（120）的至少一个风扇（118）。

7.根据权利要求1至3中的任一项所述的UV光清洁系统，其中，所述气流发生器（106）构造成沿所述UV光发射区域产生气流。

8.一种构造成清洁部件的表面的紫外即UV光清洁方法，该UV光清洁方法包括：

利用UV光组件（104）的UV光源将UV光发射到所述部件的所述表面上；

使用气流发生器（106）以在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流；以及

用由所述气流发生器（106）产生的所述气流破坏臭氧的形成，

该UV光清洁方法进一步包括：

将UV光控制单元（108）能操作地联接至所述UV光组件（104）以及所述气流发生器（106）；并且

使用所述UV光控制单元（108）以控制所述UV光组件（104）以及所述气流发生器（106）的操作，

其中，使用所述UV光控制单元（108）包括在清洁周期中启用所述UV光源，

其中，使用所述气流发生器（106）包括横过所述UV光发射区域产生气流。

9.根据权利要求8所述的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括将所述UV光组件（104）固定在一壳体（102）内。

10.根据权利要求9所述的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括将所述气流发生器（106）固定至所述壳体（102）。

11.根据权利要求9或者10所述的UV光清洁方法，该UV光清洁方法进一步包括使所述气流发生器（106）远离所述壳体（102）定位，其中，远离所述壳体（102）定位包括使所述气流发生器（106）邻近所述部件的一部分定位。

12.根据权利要求8所述的UV光清洁方法，其中，所述使用UV光控制单元（108）包括在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器（106）。

13.根据权利要求8所述的UV光清洁方法，其中，使用所述气流发生器（106）包括沿所述UV光发射区域产生气流。

14.一种交通工具，该交通工具包括：

内部舱；

所述内部舱内的盥洗室，其中所述盥洗室包括一部件；以及

紫外即UV光清洁系统，该UV光清洁系统布置在所述盥洗室内并且构造成清洁所述部件的表面，所述UV光清洁系统包括：

壳体（102）；

包括UV光源的UV光组件（104），该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的所述表面上，其中，所述UV光组件（104）固定在所述壳体（102）内；

气流发生器（106），该气流发生器构造成在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流，其中，由所述气流发生器（106）产生的所述气流破坏臭氧的形成，其中，所述气流发生器（106）构造成横过UV光发射区域产生气流；以及

UV光控制单元（108），该UV光控制单元能操作地联接至所述UV光组件（104）以及所述气流发生器（106），其中，所述UV光控制单元（108）构造成控制UV光组件（104）以及所述气流发生器（106）的操作，其中，所述UV光控制单元（108）构造成在清洁周期中启用所述UV光源。

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