CN109414516A - 用于对较大规模的空间和设备消毒的系统 - Google Patents
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Abstract
本公开总体上涉及用于对空间和设备消毒的系统、装置和方法。尤其，本公开涉及使用诸如紫外(UV)光更具体地UV‑C光的光源对较大规模的设备或空间消毒的系统、装置和方法，例如，滚动的围场。本公开的系统和方法在用于处理医疗设备或空间的医疗设施中是尤其有用的，在所述医疗设施处病原体的流行要求频繁的消毒。
Description
相关申请的交叉参考
本申请根据35U.S.C.§119(e)要求享有于2016年5月24日提交的美国临时申请序列No.62/340,553；于2016年5月24日提交的美国临时申请62/340,554以及于2016年9月23日提交的美国临时申请序列No.62/398,840的优先权，其整个公开内容通过参考包含于此。
技术领域
本公开总体上涉及用于对空间和设备消毒的系统、装置和方法。尤其，本公开涉及使用诸如紫外(UV)光更具体地UV-C光的能量源对较大规模的设备消毒的围场(enclosure)。本公开的系统和方法在用于处理医疗设备的医疗设施中是尤其有用的，在所述医疗设施处病原体的流行要求频繁的消毒。
背景技术
已知使用紫外(UV)光对设备和空间消毒以减少个体之间的病原体的传播。例如，UV光用于对医院内的医疗设备和/或房间消毒，以降低对于已经不健康的患者群体而言传染的风险。
由Taylor等人在其整个公开内容通过参考包含于此的美国专利No.7,791,044和No.8,536,541中描述了用于对公共使用的设备消毒的UV消毒站。在这些专利中描述的固定单元尤其用于对移动设备消毒，例如，购物车、轮椅、轮床，等等。然而，这种围场在可以改进移动性、可达性、用法、安全性、追踪、生产率和效率以及其它特征的自动化和设计特征的范围内有一些限制。类似地，UV室消毒单元提供一种高效的补充消毒措施，并且有可能成为降低设备上和/或空间内的病原体负担的高效的主要措施。
已经表明，强度、接近度和视线对于从消毒系统发射的UV光高效地消除设备上和/或空间内的病原体的能力是至关重要的。然而，商业上可获得的“全室”UV-C消毒单元的高效性受到限制，这是因为这些单元是静止的。为了克服这种限制并且高效地降低整个“目标区域”的病原体负担，现有的单元必须在整个房间内手动地移动，或者多个单元被同时地使用。该限制可以潜在地需要多个消毒循环并且延长消毒过程。因此，这些单元在可以改进移动性、可达性、用法、安全性、追踪、生产率和效率以及其它特征的自动化和设计特征的范围内类似地受到阻碍。
因此，通过本公开的系统和/或方法可以实现各种有利的医疗结果，本公开的系统发射具有强度、接近度和视线的组合的益处的UV光，以高效地接触设备和/或空间和高效地对其消毒。
发明内容
在一个方面中，本公开涉及用于消毒的系统和方法，所述系统和方法提供并且提议添加的功能性和设计能力，以改进消毒能力、移动性、访问、安全性、效率和生产率、追踪，等等。
在一个方面中，本公开涉及便携式消毒系统，所述便携式消毒系统更高效地用于访问固定的或笨重的大型设备。这种系统可以是封闭系统，其在内部上具有向内引导光的光源，或者这种系统可以是开放系统，其在外部上具有向外引导光的光源。本文更详细地描述了在各种布置和配置中的、在这种移动单元的内部或外部上的、诸如UV-C管或LED的阵列的光源。
在另一个方面中，本公开涉及机器人单元，所述机器人单元能够通过使用例如基于“目标区域”中的预设传感器的预设路径点、漫游模式，或者通过使用在单元上的集成传感器，或者通过组合这些措施中的一个或多个，自主地穿过“目标区域”或外壳运动，如本文更详细地描述的。自主地穿过“目标区域”运动的能力使紫外线更接近于目标病原体放置，所述紫外线的接近度和强度可以给予更高效的病原体杀灭率，并且可以同样消除对于由操作员将该单元手动地放置在其它位置中的需要或者消除对于多个单元的需要，潜在地缩短了治疗程序时间。
在又一个方面中，本公开涉及一种消毒系统，所述消毒系统包括腔室，所述腔室包括限定内部的第一侧壁、第二侧壁和后壁。第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的内表面都可以包括至少一个反射单元。在每个反射单元内可以容纳有至少一个能量源。可以围绕腔室的底部部分设置有多个滚动元件。第一侧壁和第二侧壁可以从后壁的相对侧基本垂直地延伸。每个反射单元都可以面向腔室的内部。每个反射单元都可以限定基本凹入的形状。每个能量源都可以被容纳在每个反射单元内，使得从能量源发射的能量被引导到腔室的内部中。每个能量源都可以包括紫外光源。每个紫外光源都可以被配置成发射在1米处至少100μW/cm2的强度的紫外线能量。后壁的内表面的至少一部分可以包括反射表面。第一侧壁、第二侧壁和后壁中的一个或多个可以包括至少一个可移除面板。腔室可以被配置成在腔室的内部接收一件设备。消毒系统还可以包括顶壁，所述顶壁被附接到第一侧壁、第二侧壁和后壁的顶部部分。消毒系统还可以包括前壁以关闭腔室的开口。前壁可以包括窗，所述窗包括允许可见到腔室内部且同时基本阻隔从能量源发射的能量离开腔室的材料。前壁的内表面的至少一部分可以包括至少一个反射单元或反射表面。前壁可以通过至少一个铰链连接到第一侧壁或第二侧壁。前壁可以包括第一部分和第二部分，其中，前壁的第一部分通过至少一个铰链连接到第一侧壁，并且前壁的第二部分通过至少一个铰链连接到第二侧壁。前壁可以包括卷升门。消毒系统的前壁可以包括帘，所述帘被配置成关闭腔室的开口。帘的内表面的至少一部分可以包括反射表面。消毒系统还可以包括拉绳和滑轮，所述拉绳和滑轮被配置成使帘在打开构型和关闭构型之间运动。消毒系统还可以包括底壁，所述底壁被附接到第一侧壁、第二侧壁和后壁的底部部分。底壁的部分可以包括倾斜表面。底壁的部分可以朝向后壁下降。底壁可以包括至少一个止挡器。至少一个止挡器可以被可滑动地设置在至少一个轨道内，所述至少一个轨道被设置在底壁内。至少一个止挡器可以被附接到手柄。底壁的内表面可以包括至少一个反射单元。至少一个反射单元可以升高到底壁的内表面的上方。底壁还可以包括第一踏面和第二踏面，每个踏面的上表面都与升高的至少一个反射单元的上表面基本等高。消毒系统还可以包括斜坡，其中，斜坡的第一边缘与第一踏面和第二踏面的上表面齐平，并且斜坡的第二边缘与底壁的外表面齐平。多个滚动元件中的每个都可以被配置成在第一位置和第二位置之间运动。当滚动元件处于第一位置中时，滚动元件可以延伸超出腔室的底部部分，并且当滚动元件处于第二位置中时，滚动元件可以不延伸超出腔室的底部部分。滚动元件中的每个都可以包括活塞组件，所述活塞组件被配置成使每个滚动元件都在第一位置和第二位置之间运动。活塞组件可以包括活塞、控制杆和滚动元件的壳体。活塞的第一端部可以流体地连接到气体源，活塞的第二端部可以被附接到控制杆的第一端部，并且控制杆的第二端部可以被附接到壳体。每个滚动元件都可以通过将气体从气体源引入活塞中而从第二位置运动到第一位置，并且每个滚动元件都可以通过将引入的气体从活塞返回到气体源或者通过将引入的气体排放到大气而从第一位置运动到第二位置。气体源可以包括压缩气体源。消毒系统可以包括位于腔室的外表面上的控制面板，所述腔室的外表面例如是第一侧壁、第二侧壁、顶壁、后壁或前壁。控制面板可以被配置成与腔室上或腔室内的一个或多个传感器电通信。一个或多个传感器可以包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测腔室周围的运动。一个或多个传感器可以包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测腔室内的运动。一个或多个传感器可以被配置成确定前壁是否打开。一个或多个传感器可以被配置成确定与前壁平行的竖直平面是否被破坏。一个或多个传感器可以包括电子传感器，所述电子传感器被配置成检测和/或区分腔室上或腔室内的病原体。电子传感器可以被配置成确定腔室上或腔室内的病原体的近似量。一个或多个传感器可以包括UV光传感器，所述UV光传感器被配置成(i)输出表示发射在腔室内的UV光的强度的信息和/或(ii)检测从腔室发射的UV光。一个或多个传感器可以包括在消毒过程期间监测和/或记录腔室的照相机。控制面板可以包括腔室的状态的指示器。腔室的状态可以包括指示在消毒程序上的剩余时间的时钟。控制面板可以被配置成与备用电源电通信。控制面板可以包括用户界面，并且消毒系统还可以包括中央处理单元和非暂时性计算机可读存储介质，其中体现有计算机可执行代码，所述计算机可执行代码当由中央处理单元执行时促使消毒系统基于来自一个或多个传感器的反馈和/或用户输入来执行一个或多个管理功能或操作功能。一个或多个操作功能可以包括从反射单元中的一个或多个调节能量源的强度。
在又一个方面中，本公开涉及一种消毒系统，所述消毒系统包括基座，可旋转地附接到基座的顶表面的第一反射单元堆栈以及容纳在第一反射单元堆栈内的第一能量源阵列。第一反射单元堆栈可以通过中心轴可旋转地附接到基座的顶表面，所述中心轴从基座的顶表面延伸穿过第一反射单元堆栈的中心部分。第一反射单元堆栈可以包括第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元。第一堆栈的单元可以围绕中心轴对称地布置。第一能量源阵列可以包括第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源。消毒系统还可以包括第二反射单元堆栈和容纳在第二反射单元堆栈内的第二能量源阵列。第二反射单元堆栈可以包括第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元。第二堆栈的单元可以围绕中心轴对称地布置。第二能量源阵列可以包括第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源。第二反射单元堆栈可以被设置在第一反射单元堆栈的顶部上或旁边。第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元中的每个都可以围绕其在第一反射单元堆栈内的相应第一能量源、第二能量源、第三能量源或第四能量源旋转。第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元中的每个都可以与其在第一反射单元堆栈内的相应第一能量源、第二能量源、第三能量源或第四能量源一起旋转。第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元可以是可旋转的，以便当旋转时每个反射单元的相应反射表面都背对中心轴或朝向中心轴。第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元中的每个都可以围绕其在第二反射单元堆栈内的相应第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源旋转。第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元中的每个都可以与其在第二反射单元堆栈内的相应第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源一起旋转。第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元可以是可旋转的，以便当旋转时每个反射单元的相应反射表面都背对中心轴或朝向中心轴。消毒系统还可以包括延伸穿过中心轴的内部部分的枢转点驱动器，其中，相应的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂可以从枢转点驱动器的顶部部分延伸到第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元中的每个上的枢转点。相同的或另一个枢转点驱动器可以具有附加臂，所述附加臂从枢转点驱动器延伸到第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元中的每个上的枢转点。第一堆栈和第二堆栈的反射单元中的每个都可以限定基本凹入的形状。第一能量源阵列和第二能量源阵列可以包括紫外光源。每个紫外光源都可以被配置成发射在1米处至少100μW/cm2的强度的紫外线能量。消毒系统还可以包括附接到基座的底表面的多个滚动元件。基座可以是机器人基座，所述机器人基座被配置成利用消毒参数和空间的轮廓或路径点进行编程，由此机器人基座可以根据空间的轮廓和路径点中的一者或两者以及参数自动地围绕空间运动和对空间消毒。
在又一个方面中，本公开涉及一种消毒系统，所述消毒系统包括机器人腔室，所述机器人腔室包括第一侧壁、第二侧壁和后壁。第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的表面都可以包括至少一个反射单元。在每个反射单元内可以容纳有至少一个能量源。可以沿着腔室的底表面设置多个滚动元件。滚动元件可以被配置成在第一位置和第二位置之间运动，在所述第一位置处滚动元件延伸超出腔室的底表面，在所述第二位置处滚动元件不延伸超出腔室的底表面。机器人基座可以包括用户界面、中央处理单元和非暂时性计算机可读存储介质，其中体现有计算机可执行代码，所述计算机可执行代码当由中央处理单元执行时基于来自用户界面的输入或基于从一个或多个传感器接收的反馈促使机器人基座在消毒点之间运动，控制该系统的一个或多个消毒操作，监测该系统的一个或多个传感器，或调节反射单元中的一个或多个的能量源的强度。消毒系统还可以包括前壁，其中前壁的表面可以包括至少一个反射单元或反射表面。消毒系统还可以包括顶壁和底壁，其中顶壁和底壁中的每个的表面都可以包括至少一个反射单元。包括至少一个反射单元或反射表面的第一侧壁、第二侧壁、前壁、后壁、顶壁和底壁中的每个的表面都可以面向腔室的内部。包括至少一个反射单元或反射表面的第一侧壁、第二侧壁、前壁和后壁中的每个的表面都可以从腔室面朝外。
附图说明
参照附图以示例的方式描述了本公开的非限制性实施例，附图是示意性的并且不旨在按比例绘制。在附图中，所示出的每个相同或几乎相同的部件典型地由单个数字表示。出于清楚的目的，并非每个部件都标记在每个附图中，并且也不示出每个实施例的每个部件，其图示对于本领域的普通技术人员理解本公开来说是不必要的。在附图中：
图1A至图1I提供了根据本公开的一个实施例的消毒系统的透视图；
图2A至图2F提供了根据本公开的一个实施例的消毒系统的透视图；
图3A至图3B提供了根据本公开的一个实施例的消毒系统的透视图；
图4A至图4E提供了根据本公开的一个实施例的消毒系统的透视图；
图5提供了根据本公开的一个实施例的消毒系统的透视图；
图6示出了根据本公开的一个实施例的涉及使用消毒系统的示例性操作步骤。
图7示出了根据本公开的一个实施例的涉及使用消毒系统的示例性管理功能。
具体实施方式
本公开不限于本文描述的特定实施例。本文使用的术语仅用于描述特定实施例的目的，并且不旨在限制超出所附权利要求书的范围。除非另外定义，否则本文使用的所有技术术语具有与本公开所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。
虽然具体参考用于对医疗设备(例如，轮床、轮椅、IV注射杆、透析机等)或医疗围场(例如，医院病房、手术套件、诊断实验室等)消毒的系统和方法来描述本公开的实施例，但是应当理解，这样的系统和方法可以用于对公众使用或接触的各种物品(例如，购物车、购物篮、婴儿车、栏杆、门把手等)以及各种围场(例如，厨房、公共或私人浴室、自助餐厅、飞机、公共汽车等)消毒。
如本文所使用的，单数形式“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式，除非上下文另有明确说明以外。将进一步理解，当在本文中使用时，术语“包括”和/或“正包括”或“包含”和/或“正包含”指定所阐述的特征、区域、步骤元素和/或部件的存在，但是不排除存在或添加一个或多个其它特征、区域、整数、步骤、操作、元素、部件和/或其组。
如本文所使用的，术语“设备”是指在一个或多个物品所有者的严格控制和/或观察之外接触、携带和/或运动的任何便携式或可移动物品，并且可以包括例如上面提供的所有示例，以及其它示例。
如本文所用，术语“反射单元”是指反射段的集合。这种单元当以各种分组采用时一起在给定的光频率范围内反射一定百分比的光，例如，具有100nm至290nm的频率的光的至少60％。
如本文所使用的，术语“消毒”和“除菌”或其语法等同物指示其中将在辐照设备上基本减少或消除病原体(例如，细菌、病毒等)计数的预期。对于杀死病原体所需的UV光的剂量与作为时间的函数的UV光强度相对应。剂量响应级别对于每种微生物是独特的。另外地，依据微生物，不同波长的UV光具有不同的灭活速率。然而，对于大多数的微生物而言，峰值失活波长例如是在260纳米(nm)处或附近。
除非上下文指出相反情况以外，否则本文所阐述的所有范围应当解释为包含其端点，并且开放式范围应当解释为仅包含商业实用值。同样，除非上下文指出相反的情况以外，否则所有值的列表应当被视为包含中间值。
在各种实施例中，本公开涉及发射能量的系统和方法，包括例如UV光，其具有强度、接近度和视线的综合优势以对设备和/或空间消毒。参照图1A至图1I，在一个实施例中，本公开的消毒系统100可以包括腔室115，所述腔室115包括第一侧壁110(例如，左壁)、第二侧壁112(例如，右壁)、底壁116(例如，底板)、前壁117(例如，前门)、后壁118(例如，后门)和顶壁114(例如，天花板)。第一侧壁110的内表面110a可以包括至少一个反射单元120a，第二侧壁112的内表面112a可以包括至少一个反射单元120b，顶壁114的内表面114a可以包括至少一个反射单元120c，并且底壁116的内表面116a可以包括至少一个反射单元120d。类似地，前壁117的内表面117a的至少一部分可以包括反射表面，并且后壁118的内表面118a的至少一部分可以包括反射表面。至少一个能量源122a至122d可以可移除地或永久地设置在至少一个反射单元120a至120d中的每个内(例如，由至少一个反射单元120a至120d中的每个部分地包围)，使得从每个能量源发射的能量被引导到腔室中和/或设置在其中的一件设备中。例如，能量源122a可以设置在第一侧壁110的每个反射单元120a内，能量源122b可以设置在第二侧壁112的每个反射单元120b内，能量源122c可以设置在顶壁114的每个反射单元120c内，并且能量源122d可以设置在底壁116的每个反射单元120d内。可以沿着腔室115的底壁116的外表面116b设置多个滚动元件132a至132c(例如，轮、脚轮、雪橇等)。例如，第一滚动元件132a可以设置在腔室115的左前拐角下方，第二滚动元件132b可以设置在腔室115的右前拐角下方，并且第三滚动元件可以设置在腔室115的后壁118下方。
在各种实施例中，反射单元120a至120d中的每个都可以被取向或定位在第一侧壁110、第二侧壁112、顶壁114和底壁116的相应内表面110a、112a、114a、116a上，使得每个反射单元的反射表面都面向(例如，指向)腔室115。此外，每个反射单元120a至120d都可以是可独立地调节的，使得可以例如手动地或自动地调节反射单元的方向或角度。每个反射单元120a至120d都可以限定或包括基本凹入的形状，使得从相应的能量源112a至112d中的每个发射的能量被引导或聚焦到腔室115中。作为非限制性示例，每个反射单元120a至120d都可以包括后部段和至少三个反射段，所述至少三个反射段中的每个都可以相对于后部段偏离法线设置。反射段的这种配置可以允许从能量源发射的能量待在每个方向上而不仅在上下方向或左右方向上被引导到腔室115中。这样，消毒能量可以以适当的强度、接近度和视线被引导到容纳在腔室内的一件设备的多个表面上，以提供消毒一致性和最佳的能量覆盖，需要较少的能量源和/或较短的能量源暴露(例如，提高的效率)。在各种实施例中，反射单元120a至120d(包括反射表面)中的每个都可以包括一种或多种商业上合适的材料，包括例如镜子、粉末涂覆的和其它金属的片，以及PebbletoneTM和HammertoneTM饰面。
在各种实施例中，能量源122a至122d中的每个都可以被配置成发射紫外(UV)光。例如，每个能量源都可以包括汞蒸汽灯泡或管、氙气灯泡或管、发光二极管(LED)、发光纳米粒子或被配置成发射波长约为320nm至400nm(例如，UV-A)、波长约为290nm至320nm(例如，UV-B)和/或波长约为200nm至280nm(例如，UV-C)的紫外(UV)光的任何其它能量源。每个能量源122a至122d都可以包括双UV发射灯泡，但是灯泡的数量可以变化。虽然UV发射灯泡被描绘为细长灯泡，但是其它合适的UV发射源可以作为非限制性示例包括发射波长约为254nm的UV光的36瓦灯泡。虽然能量的UV-A、UV-B或UV-C波长中的任一个可以提供在腔室内的设备的充分消毒，但是在一个实施例中，这样的能量源可以提供最佳的消毒强度，即，所述能量源被配置成发射至少30瓦的UV能量，其至少75％是UV-C能量。另外地或可替代地，UV能量发射源可以包括在柔性金属表面上沉积或生长的发光二极管(LED)和/或发光纳米粒子，如这种部件和用于生产这种部件的方法在本领域中是已知的。
在一个实施例中，反射单元120a、120b、120d以及设置在其中的相应能量源122a、122b、122d可以沿着腔室115的第一侧壁110、第二侧壁112和底壁116的相应内表面110a、112a、116a布置在基本平行的排中，并且反射单元120c以及设置在其中的相应能量源122c可以沿着与反射单元120a、120b、120d垂直的顶壁114的内表面114a布置在基本平行的排中。然而，本公开绝不限于反射单元和/或能量源的这种布置，并且可以包括以任何合适的位置、取向、配置、尺寸和/或数量设置的反射单元和能量源，使得腔室115内的设备暴露于具有强度、接近度(例如，在1米处的至少100μW/cm2)和视线的能量，以促进高效的消毒。
在一个实施例中，前壁117可以是电子地或手动地操作的，并且前壁117的大小和尺寸可以设定成高效地覆盖通向腔室115的开口。前壁117还可以包括窗119以在整个消毒程序中允许用户监测正在腔室内消毒的设备和/或确保每个能量源122a至122d正常运行。窗119可以包括合适的UV反射、阻隔或吸收材料(例如，UV保护涂层、层或极化材料)以阻隔、过滤或以其它方式防止UV能量离开腔室，由此取消了暴露于UV能量的相关联的风险。在一个实施例中，前壁117可以包括柔性材料(例如，金属、布、织物、塑料等)片，其被配置成从关闭构型运动到打开构型，在所述关闭构型中柔性材料片覆盖通向腔室的开口，在所述打开构型中柔性材料片围绕设置在顶壁114的前部部分内的圆柱滚动。或者，前壁117可以通过至少一个铰链(未示出)或其它合适的枢转连接元件附接到腔室115，使得前壁可以在打开构型和关闭构型之间枢转。或者，前壁117可以包括分体式(例如，法式门)构型，其中前壁117的第一部分通过至少一个铰链(未示出)连接到第一侧壁110并且前壁117的第二部分通过至少一个铰链(未示出)连接到第二侧壁110，使得第一部分和第二部分可以在打开构型和关闭构型之间各个地枢转。前壁117的内表面的至少一部分可以包括反射表面，以将从能量源122a至122d发射的能量重新引导到腔室115中。另外地或可替代地，前壁178的内表面的至少一部分可以包括至少一个反射单元，其中容纳有至少一个能量源。无论具体构型如何，前壁117可以被配置成在能量源被激活的同时防止儿童、动物和其它进入腔室。在前壁117打开的情况下，一件或多件设备可以被引入腔室115中。对于腔室115，可以考虑到所有商业上可行的尺寸。作为非限制性示例，其尺寸设定成接收标准尺寸的轮椅的腔室可以包括约为48英寸的内部长度、约为48英寸的内部高度和约为36英寸的内部宽度。在各种实施例中，腔室的开口和内部部分的大小和尺寸可以根据待消毒的设备而变化，例如，医院轮床、医疗设备控制台、IV注射杆，等等。
在一个实施例中，后壁118可以提供通向腔室115的内部的替代进入点或开口。例如，用户可以打开后壁118以修理或检查腔室，帮助将设备引入腔室115中或帮助从腔室115移除设备和/或帮助移除设备的逐出部件，所述设备的逐出部件会阻止设备引入腔室115中或会阻止从腔室115移除设备。
在各种实施例中，可以与腔室一起采用滚动元件。例如，在一个实施例中，滚动元件132a至132c可以被配置成在第一位置和第二位置之间运动，在所述第一位置中滚动元件延伸超出底壁116的外表面116b(例如，延伸在其下方)(例如，图1E至图1G)，在所述第二位置中滚动元件不延伸超出底壁116的外表面116b(例如，图1A至图1D以及图1H至图1I)。在滚动元件132a至132c处于第一位置中(例如，展开或暴露)的情况下，腔室115可以手动地或用机器人运动(例如，滚动)。在滚动元件132a至132c处于第二位置中(例如，收回到形成在底壁116内的凹陷部中)的情况下，底壁116的底表面116d可以被放置成与腔室115下面的底板接触，由此使消毒系统100在储存和/或使用期间的运动最小化。在各种实施例中，在图1A至图1I中所描绘的三滚动元件的构型可以允许消毒系统100在紧密的半径内例如通过医院的走廊和/或房间来转动或回转以用于操纵。然而，本公开绝不限于本文描述的滚动元件的构型，并且可以包括沿着底壁116的底表面116b布置在各种位置中的任何数量的滚动元件。
在一个实施例中，本公开的滚动元件可以被附接到活塞133，所述活塞133被配置成使滚动元件在第一位置和第二位置之间运动。例如，活塞133的第一端部133a可以通过一段液压管材137流体地连接到压缩气体源134，并且活塞133的第二端部133b可以被附接到控制杆135的第一端部135a，并且控制杆135的第二端部135b可以被附接到滚动元件的壳体。每个滚动元件132a至132c都可以通过将气体从压缩气体源134引入(例如，流动)到活塞133中而同时地从第二位置运动到第一位置，使得控制杆135被向下(例如，远离底壁116的外表面116b)加压，由此同时地将每个滚动元件132a至132c放置成与底板接触以升高或升起消毒系统100，使得底壁116的外表面116b不再接触底板。类似地，通过将引入的气体从活塞133返回(例如，流动)到压缩气体源134，每个滚动元件132a至132c都可以同时地从第一位置运动到第二位置，使得控制杆135被向上(例如，朝向底壁116的外表面116b)拖曳，由此将每个滚动元件132a至132c收回到形成在底壁116内的凹陷部中以降低消毒系统100，使得底壁116的外表面116b接触底板。或者，每个滚动元件132a至132c都可以通过将引入的气体从活塞133内排放到大气而从第一位置运动到第二位置。根据期望，滚动元件还可以被配置成彼此独立地被控制以及升起和降低。气体源可以来自于房源，例如，由医院供应到房间的气体，或者气体源可以是容纳在腔室上的专用源，例如，如图1D中所示的压缩气体源，其可以被定期地重新装满或更换。
参照图1H，在一个实施例中，底壁116的部分可以包括倾斜表面116c，所述倾斜表面116c朝向前壁117以一角度下降，使得设备可以滚动进或出腔室115。倾斜表面116可以包括各种不同的长度和/或节距，例如，具有较浅梯度的长斜坡，以适应重型设备的滚动。底壁116的另一个部分可以包括朝向后壁118以一角度下降的倾斜表面140a和朝向前壁117下降的倾斜表面140b，使得设备(例如，轮上的设备等)不从腔室115滚出或不接触后壁。这可以有益于例如将设备在腔室内一直保持到前壁117关闭为止或者在消毒程序之后前壁117打开时防止设备从腔室滚出。
在各种实施例中，反射单元120c和能量源122c可以升高到底壁116的内表面116a上方。当将某一设备引入腔室115中时，这会存在一个问题，所述某一设备包括例如电动轮椅，其确实包括必要的间隙以越过反射单元120c。因此，在一个实施例中，本公开的腔室115可以包括设置在反射单元120c和能量源122c的相对侧上的第一踏面142和第二踏面143。第一踏面142和第二踏面143可以包括足够的厚度或高度，使得每个踏面的上表面142a、143a都可以与反射单元120c的上边缘等高或齐平。在一个实施例中，腔室115可以包括斜坡144，所述斜坡144包括与第一踏面142和第二踏面143的上表面142a、143a齐平或等高的第一边缘144a以及与底壁116的外表面116b齐平或等高的第二边缘144b。斜坡144可以包括各种不同的长度和/或节距，例如，具有较浅梯度的长斜坡，以适应重型设备的滚动。另外，斜坡144可以包括枢转连接部，以允许斜坡在消毒系统100的储存、运动和/或激活期间待旋转到腔室115中。在一个实施例中，第一止挡器146a可以被附接到第一踏面142，并且第二止挡器146b可以被附接到第二踏面143。第一止挡器146a和第二止挡器146b可以被配置成维持腔室115内的一件设备的适当位置和/或防止设备前进到腔室115中太远。例如，第一止挡器146a和第二止挡器146b可以为带有轮的设备提供接触点，以便防止设备接触后壁118，由此限制设备和/或后壁118损坏的可能性，而同时还将设备维持在适当位置中以用于最佳消毒。在一个实施例中，第一止挡器146a和第二止挡器146b可以设置在形成在第一踏面142和第二踏面143中的每个内的凹槽或轨道内，使得第一止挡器146a和第二止挡器146b沿着相应的第一踏面142和第二踏面143的位置可以被调节成适应各种尺寸的设备和/或多件设备。在一个实施例中，第一止挡器146a和第二止挡器146b可以通过手柄148附接，使得第一止挡器146a和第二止挡器146b的位置可以被同时地调节。在各种实施例中，第一止挡器146a和第二止挡器146b可以手动地或使用自动控制沿着相应的第一踏面142和第二踏面143运动或重新定位。另外地或可替代地，底壁116和/或第一踏面142和第二踏面143可以包括传送机系统，所述传送机系统被配置成自动地将设备送入和送出腔室115。例如，传送机系统可以包括传送机、带、轨道和/或其组合。或者，设备可以使用例如推车搬运工被手动地或自动地推入腔室中。
在一个实施例中，第一侧壁110可以包括至少一个可移除面板111，并且第二侧壁112壁可以包括至少一个可移除面板113，以允许反射单元120a、120b和能量源122a、112b待被检查、修理或更换(图1C)。腔室的其它壁可以包括至少一个可移除面板，以允许附接到面板的反射单元待被检查、修理或更换。
参照图2A至图2F，在一个实施例中，本公开的消毒系统200可以包括腔室215，所述腔室215包括第一侧壁210(例如，左壁)、第二侧壁212(例如，右壁)和后壁214(例如，后壁)。第一侧壁210和第二侧壁212可以与后壁214基本垂直地延伸，以限定具有U形横截面的腔室215。本公开不限于具有U形横截面的腔室(图2D)，而是可以包括各种形状和/或尺寸。例如，第一侧壁210和第二侧壁212可以从后壁以大于90度(例如，100度或更大，110度或更大，120度或更大等)的角度延伸，以限定腔室215，所述腔室215具有比后壁214的宽度(未示出)大的开口。第一侧壁210的内表面210a可以包括至少一个反射单元220a，第二侧壁212的内表面212a可以包括至少一个反射单元220b，并且后壁214的内表面214a可以包括至少一个反射单元220c。至少一个能量源222a至222c可以可移除地或永久地设置在至少一个反射单元220a至220c中的每个内(例如，由至少一个反射单元220a至220c中的每个部分地包围)，使得从每个能量源发射的能量被重新引导到消毒腔室中和/或设置在其中的一件设备中。例如，能量源222a可以设置在第一侧壁210的每个反射单元220a内，能量源222b可以设置在第二侧壁212的每个反射单元220b内，能量源222c可以设置在后壁214的每个反射单元220c内。在一个实施例中，第一侧壁110、第二侧壁212和后壁214中的每个都可以包括至少一个可移除面板(未示出)，以允许相应的反射单元220a、220b、220c以及能量源222a、222b、222c待被检查、修理或更换。可以沿着第一侧壁210、第二侧壁212和/或后侧壁214的底部部分设置多个滚动元件232a至232d(例如，轮、脚轮、雪橇等)。例如，第一滚动元件232a可以设置在第一侧壁210的前部部分下方，第二滚动元件232b可以设置在第一侧壁210和后壁214的接合处下方，第三滚动元件232c可以设置在第二侧壁212和后壁214的接合处下方，并且第四滚动元件232d可以设置在第二侧壁212的前部部分下方。作为另一个示例，三壁的腔室可以装配有三个如上所述的滚动元件，以允许用于在紧密的空间内转向和提高的机动性。
在各种实施例中，反射单元220a至220c中的每个都可以被取向或定位在第一侧壁210、第二侧壁212和后壁214的相应内表面210a、212a、214a上，使得每个反射单元的反射表面都面对(例如，指向)腔室215。此外，每个反射单元220a至220c都可以是可独立地调节的，使得可以例如手动地或自动地调节反射单元的方向或角度。每个反射单元220a至220c都可以限定或包括基本凹入的形状，使得从相应的能量源222a至222c中的每个发射的能量被引导或聚焦到腔室215中。作为非限制性示例，每个反射单元220a至220c都可以包括后部段和至少三个反射段，所述至少三个反射段中的每个都可以相对于后部段偏离法线设置。反射段的这种配置可以允许从能量源发射的能量待在每个方向上而不仅在上下方向或左右方向上被引导到腔室215中。这样，消毒能量可以以适当的强度、接近度和视线被引导到容纳在腔室内的一件设备的多个表面上，以提供消毒一致性，需要较少的能量源和/或较短的能量源暴露(例如，提高的效率)。在各种实施例中，反射单元220a至220c(包括反射表面)中的每个都可以包括一种或多种商业上合适的材料，包括例如镜子、粉末涂覆的和其它金属的片，以及PebbletoneTM和HammertoneTM饰面。
在各种实施例中，能量源222a至222c中的每个都可以被配置成发射紫外(UV)光。例如，每个能量源都可以包括汞蒸汽灯泡或管、氙气灯泡或管、发光二极管(LED)、发光纳米粒子或被配置成发射波长约为320nm至400nm(例如，UV-A)、波长约为290nm至320nm(例如，UV-B)和/或波长约为200nm至280nm(例如，UV-C)的紫外(UV)光的任何其它能量源。每个能量源222a至222c都可以包括双UV发射灯泡，但是灯泡的数量可以变化。虽然UV发射灯泡被描绘为细长灯泡，但是其它合适的UV发射源可以作为非限制性示例包括发射波长约为254nm的UV光的36瓦灯泡。虽然能量的UV-A、UV-B或UV-C波长中的任一个可以提供在腔室内的设备的充分消毒，但是在一个实施例中，这样的能量源可以提供最佳的消毒强度，即，所述能量源被配置成发射至少30瓦的UV能量，其至少75％是UV-C能量。另外地或可替代地，UV能量发射源可以包括在柔性金属表面(图2C)上沉积或生长的发光二极管(LED)和/或发光纳米粒子，如这种部件和用于生产这种部件的方法在本领域中是已知的。
在一个实施例中，反射单元220a、220b、220c以及设置在其中的相应能量源222a、222b、222c可以沿着腔室215的第一侧壁210、第二侧壁212和后壁214的相应内表面210a、212a、214a布置在基本平行的排中。然而，本公开绝不限于反射单元和/或能量源的这种布置，并且可以包括以任何合适的位置、取向、配置、尺寸和/或数量设置的反射单元和能量源，使得腔室215内的设备暴露于具有足够的强度、接近度(例如，在1米处的至少100μW/cm2)和视线的能量，以促进高效的消毒。
在一个实施例中，腔室215还可以包括作为前壁的帘216，其被配置成在打开构型和关闭配置之间运动(图2E)以密封或关闭腔室215的开口。例如，腔室215可以包括滑轮218和拉绳217，所述滑轮218和拉绳217被配置成使帘216在打开构型和关闭构型之间手动地或自动地运动。帘216可以包括柔性材料(例如，金属、布、织物、塑料等)片，其大小和尺寸被设计成高效地覆盖通向腔室215的开口。帘216还可以包括足够的长度以当处于关闭构型中时接触底板，以在消毒程序期间防止从能量源222a至222c发射的能量离开腔室215。帘216的内表面216a的至少一部分可以包括反射表面，以将从能量源222a至222c发射的能量重新引导到腔室215中。
在一个实施例中，腔室215还可以包括前壁219(例如，门)，所述前壁219被配置成在打开构型和关闭配置之间手动地或自动地运动，以密封或关闭腔室215的开口。例如，前壁219可以通过至少一个铰链(未示出)或其它合适的枢转连接元件附接到腔室215，以便使前壁可以在打开构型和关闭构型之间枢转(图3A)。或者，前壁219可以包括通过至少一个铰链(未示出)连接到第一侧壁210的第一部分219b以及通过至少一个铰链(未示出)连接到第二侧壁210的第二部分219c，使得第一部分219b和第二部分219c可以在打开构型和关闭构型之间各个地枢转(图3B)。前壁219的内表面219a的至少一部分可以包括反射表面，以将从能量源222a至222c发射的能量重新引导到腔室215中。另外地或可替代地，前壁219的内表面219a的至少一部分可以包括至少一个反射单元，其中容纳有至少一个能量源。前壁219还可以包括窗(未示出)以在整个消毒程序中允许用户监测正在腔室内消毒的设备和/或确保每个能量源222a至222c正常运行。窗可以包括合适的UV反射、阻隔或吸收材料(例如，UV保护涂层、层或极化材料)以阻隔、过滤或以其它方式防止UV能量离开腔室，由此取消了暴露于UV能量的相关联的风险。无论具体构型如何，前壁219可以被配置成在能量源被激活的同时防止儿童、动物和其它进入腔室。
在一个实施例中，腔室215还可以包括顶壁(例如，天花板，未示出)，其附接到第一侧壁210、第二侧壁212和后壁214的顶部部分。顶壁的内表面的至少一部分可以包括反射表面，以将从能量源222a至222c发射的能量重新引导到腔室215中。或者，顶壁的内表面可以包括至少一个反射单元和至少一个能量源，所述至少一个反射单元和所述至少一个能量源被可移除地或永久地设置在其中(如上所述)，使得从每个能量源发射的能量被重新引导到腔室215中和/或设置在其中的一件设备中。
一件或多件设备270可以被引入腔室215中以用于消毒程序(图2F)。例如，一件设备可以被手动地放置在腔室内(例如，图2F中所示的IV注射杆)。或者，腔室215可以围绕一件固定设备手动地或自动地前进(例如，滚动)。在这一件设备被定位在腔室内的情况下，前壁219或帘216可以被关闭以密封或关闭腔室，并且消毒程序可以被启动。所有商业上可行的尺寸被考虑到用于腔室115。作为非限制性示例，其尺寸被设定成接收标准尺寸的静脉杆的腔室可以包括约为30英寸的内部长度、约为60英寸的内部高度和约为30英寸的内部宽度。在各种实施例中，腔室的开口和内部部分的大小和尺寸可以根据待消毒的设备而变化。
在一个实施例中，滚动元件232a至232d可以被配置成在第一位置和第二位置之间运动，在所述第一位置中滚动元件延伸超出第一侧壁210、第二侧壁212和后壁214的底部部分(例如，延伸在其下方)，在所述第二位置中滚动元件不延伸超出第一侧壁210、第二侧壁212和后壁214的底部部分。例如，滚动元件可以被附接到活塞和压缩气体源，如上所述。在滚动元件232a至232d处于第一位置中(例如，展开或暴露)的情况下，消毒系统200可以手动地或用机器人运动(例如，滚动)。在滚动元件232a至232d处于第二位置中(例如，收回到形成在第一侧壁、第二侧壁和后壁的底部部分内的凹陷部中)的情况下，第一侧壁210、第二侧壁212和后壁214的底部部分可以被放置成与消毒系统200下面的底板接触，由此防止能量离开腔室并且取消了暴露于例如UV能量的相关联的风险。在各种实施例中，图2A至图2C、图2E和图2F中描绘的四滚动元件的构型可以允许消毒腔室在医院的走廊和/或房间内和通过医院的走廊和/或房间操纵。然而，本公开绝不限于本文描述的滚动元件的构型，并且可以包括沿着第一侧壁210、第二侧壁212和/或后壁214的底部部分布置在各种位置中的任何数量的滚动元件。
在一个实施例中，本公开的消毒系统100、200可以包括在第一侧壁、第二侧壁、前壁或后壁的外表面上的控制面板150、250。控制面板150、250可以被配置成接收和处理用户输入以控制和/或监测消毒系统100、200的至少一个功能。
在各种实施例中，控制面板150、250可以被配置成与腔室115、215上或腔室115、215内的一个或多个传感器电通信。一个或多个传感器可以包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测在腔室115、215附近和/或腔室115、215内的非预期的运动。一个或多个传感器可以被配置成确定是否腔室115、215的前壁关闭、打开或部分地打开(例如，半开)。一个或多个传感器可以被配置成确定是否前壁的平面被例如腔室115、215内的一件设备破坏。例如，传感器可以包括“激光帘”，其横过腔室115、215的开口发射可见光束或不可见光束，以检测阻碍或阻隔开口的对象。控制面板150、250可以被配置成当一个或多个传感器中的任一个检测到非预期的运动、打开或部分打开的前壁和/或对腔室的开口的障碍时改变消毒系统100、200的状态。例如，控制面板150、25可以提供声音报警(例如，警报)、视觉报警(例如，闪烁或闪光的灯)或电子报警(例如，发送到移动装置的消息)以向消毒系统100、200的用户指示腔室115、215的状态。另外地或者可替代地，如果用户在预定的时间内对声音报警、视觉报警或电子报警没有响应，则控制面板150、250可以自动地停用消毒系统100、200以停止消毒程序。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括电子传感器，例如，电子“鼻”，其被配置成检测、区分和/或量化腔室115、215上或腔室115、215内的病原体。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括UV光传感器，所述UV光传感器被配置成监测腔室115、215内的UV能量的强度或波长。另外地或可替代地，UV光传感器可以被配置成检测从腔室115、215(例如，通过部分打开的前壁等)发射(例如，逃逸或泄漏)的UV能量。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括在消毒程序期间监测和/或记录腔室115、215的照相机。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括射频识别(RFID)传感器，其被配置成识别出消毒系统100、200的特定用户。例如，RFID传感器可以认出RFID“徽章”以允许特定人员访问消毒系统100、200。另外地或可替代地，RFID传感器可以认出RFID“标记”以识别和记录经历消毒程序的一件特定设备。
在各种实施例中，控制面板150、250可以被配置成指示消毒系统100、200的状态。例如，控制面板150、250可以包括倒计时时钟，其指示在消毒程序上的剩余时间。控制面板150、250还可以包括腔室115、215内的UV能量的强度或波长的实时指示器。控制面板还可以包括需要定期安排或紧急维护消毒系统100、200的指示器。
在各种实施例中，控制面板150、250可以包括具有”开”和“关”设置的电源按钮，以通过切断腔室115、215的电源来帮助防止未经授权的使用，除非电源开关处于“开”位置中以外。
在各种实施例中，控制面板150、250可以被配置成与备用电源或电池电通信，以在电力损失的情况下对消毒系统100、200再充电。备用电源可以被集成在消毒系统100、200内或单独的基站的部件内。
在各种实施例中，控制面板150、250可以包括自动化用户界面、中央处理单元(CPU)和非暂时性计算机可读存储介质，所述自动化用户界面包括对消毒系统100、200的机载或远程控制或访问，所述非暂时性计算机可读存储介质具有计算机可执行代码，所述计算机可执行代码当由CPU执行时允许：处理和内存功能，以读取、记录、存储、分析、监测、追踪和控制消毒系统100、200的活动和安全特征；基于来自本文所述的传感器中的任一个的反馈和/或可编程设置的用户选择和自动控制；以及互联网网络能力，用于使用例如平板电脑、电话、计算机或应用程序来访问、监测和/或控制消毒系统100、200，以及可以自动化、预设或预编程的系统的其它管理功能或操作功能。
现在参照图6，示出了对在根据本公开的实施例的消毒系统(作为示例参考系统100、200)内的一件设备消毒所涉及的基本操作步骤的流程图。在步骤1处，可以使用访问徽章或输入进入控制面板150、250中的授权号码来激活消毒系统100、200。在步骤2处，可以通过扫描待消毒的设备上的识别标签或输入进入控制面板150、250中的识别号码来识别出待消毒的设备。在步骤3中，可以在腔室115、215内放置待消毒的设备并且关闭前壁或帘。在步骤4中，可以通过按下控制面板150、250上的“开启”或“激活”按钮来启动消毒程序。控制面板150、250可以实时指示消毒程序的状态。在步骤5A中，一旦消毒程序已经结束，则可以打开前壁或帘，并且将设备从消毒腔室115、125移除。然后，可以关闭前壁或帘，并且通过按下控制面板150、250上的“关闭”或“注销”按钮来将消毒系统100、200返回到停用状态。或者，在步骤5B中，一旦消毒程序已经结束，则可以打开前壁或帘，并且可以将设备从消毒腔室115、215移除，并且然后，可以将第二件设备加载到消毒腔室115、215中，并且重复步骤1至4以执行另一个消毒程序。
参照图7，提供了可用在根据本公开的实施例的控制面板(作为示例参考消毒系统100、200的控制面板150、250)上的基本管理功能的流程图。在步骤1处，用户可以从访问菜单选择各种选项。这样的选项的非限制性示例可以包括“机器指标”、“报告”、“故障排除”、“用户管理”、“设置时钟/日期”、“设置”和“主页”。在步骤2处，可以通过按下“用户管理”按钮而将用户添加到消毒系统100、200。然后，可以将关于新用户的相关信息输入到“用户管理”屏幕中，包括例如用户的姓名、登录号码或RFID徽章号码。在步骤3处，技术人员可以通过按下“机器指标”按钮来查看或监测消毒系统100、200的状态。“机器指标”屏幕可以显示每个UV光源的使用的小时数，由消毒系统100、200执行的消毒程序的总数，由消毒系统100、200执行的消毒时间的总小时数，以及消毒系统100、200的门循环总数(例如，打开和关闭)。在步骤4处，用户可以通过按下“报告”按钮和将所选信息保存到存储介质而从消毒系统100、200下载报告。在步骤5处，技术人员可以通过按下“故障排除”按钮并且继而查看上面讨论的传感器、UV光、反射单元、门、帘或滚动元件中的任一个的操作状态来对消毒系统100、200进行故障排除。在步骤6处，用户可以按下“设置时钟/日期”按钮并且输入适当的年、月、周、日、小时、分钟和秒。在步骤7处，技术人员可以按下“设置”按钮以设置或改变消毒程序的参数。例如，技术人员可以输入28秒至60秒之间的消毒时间。技术人员还可以增大或减小在消毒系统100、200上或消毒系统100、200内的每个UV传感器的通过阈值/失败阈值。技术人员还可以增大或减小每个UV光的强度阈值。
参照图4A至图4E，在一个实施例中，本公开的消毒系统300可以包括基座310(例如，平台等)和第一反射单元堆栈320，所述第一反射单元堆栈320可旋转地附接(例如，360度旋转)到基座310的顶表面310a。可以在第一反射单元堆栈320内容纳有第一能量源阵列322。多个滚动元件332a至332d(例如，轮、脚轮、雪橇等)可以附接到基座310的底表面310c。在一个实施例中，第一反射单元堆栈320可以通过中心轴312可旋转地附接到基座310的顶表面310a，所述中心轴312从基座310的顶表面310a延伸穿过第一反射单元堆栈320的中心部分。或者，基座310的顶表面310a可以包括滚珠轴承组件或其它合适的旋转平台(未示出)，其被配置成允许第一反射单元堆栈320围绕其旋转或枢转。第一反射单元堆栈320可以包括第一反射单元320a、第二反射单元320b、第三反射单元320c和第四反射单元320d。在一个实施例中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d可以围绕中心轴312对称地布置，并且包括基本正方形的横截面(图4B)。第一能量源阵列322可以包括可移除或永久地设置在第一反射单元320a内的第一能量源322a、可移除地或永久地设置在第二反射单元320b内的第二能量源322b、可移除地或永久地设置在第三反射单元320c内的第三能量源322c和可移除地或永久地设置在第四反射单元320d内的第四能量源322d。在各种实施例中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d中的每个都可以被取向成使得从每个相应的第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d发射的能量从第一反射单元堆栈320向外引导到例如定位有消毒系统300的房间或围场中。
在一个实施例中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d中的每个都可以被配置成在第一反射单元堆栈内旋转。例如，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d可以被配置成从第一位置旋转到第二位置，在所述第一位置中每个反射单元都设置在相应的第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d的后方(图4B)，在所述第二位置中每个反射单元都设置在相应的第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d的前方(图4D)。在第一位置中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d中的每个都可以被配置成将从第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d中的每个发射的能量远离消毒系统300引导，如上所述。在第二位置中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d中的每个都可以被配置成阻隔或屏蔽从第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d中的每个发射的能量离开第一反射单元堆栈320。另外，在第二位置中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d中的每个都可以被配置成例如在消毒系统300的运动和/或储存期间保护第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d中的每个免受损坏。在一个实施例中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d可以围绕相应的第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源322a至322d旋转(例如，能量源322a至322d保持静止)。在另一个实施例中，第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d以及相应的第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源(322a至322d)可以一起旋转。
在一个实施例中，消毒系统300还可以包括延伸穿过中心轴312的内部部分的枢转点驱动器324。枢转点驱动器324的顶部部分可以包括被配置成在第一枢转点处接触第一反射单元320a的外表面的第一控制臂327a、被配置成在第二枢转点处接触第二反射单元320b的外表面的第二控制臂327b、被配置成在第三枢转点处接触第三反射单元320c的外表面的第三控制臂327c和被配置成在第四枢转点处接触第四反射单元320d的外表面的第四控制臂327d。第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元320a至320d中的每个都可以被配置成在相应的第一枢转点、第二枢转点、第三枢转点或第四枢转点处围绕相应的第一控制臂、第二控制臂、第三控制臂和第四控制臂327a至327d各个地旋转(例如，在180度至360度之间)。该旋转可以是均匀的速度、阶梯式的速度或可变的速度，并且可以通过各种手动或自动或机动措施或类似措施来实现。
在一个实施例中，消毒系统300可以包括容纳在第二反射单元堆栈321内的第二能量源阵列323。第二反射单元堆栈321可以包括第五反射单元321a、第六反射单元321b、第七反射单元321c和第八反射单元321d。第二能量源阵列323可以包括可移除地或永久地设置在第五反射单元321a内的第五能量源323a、可移除或永久地设置在第六反射单元321b内的第六能量源323b、可移除或永久地设置在第七反射单元321c内的第七能量源323c和可移除地或永久地设置在第八反射单元321d内的第八能量源323d。在各种实施例中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321c中的每个都可以被取向成使得从每个相应的第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d发射的能量从第二反射单元堆栈321向外引导到例如定位有系统300的房间或围场中。
在一个实施例中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d中的每个都可以被配置成在第二反射单元堆栈321内旋转。例如，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d可以被配置成从第一位置旋转到第二位置，在所述第一位置中每个反射单元都设置在相应的第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d的后方(图4B)，在所述第二位置中每个反射单元都设置在相应的第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d的前方(图4D)。在第一位置中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d中的每个都可以被配置成将从第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d中的每个发射的能量远离消毒系统300引导，如上所述。在第二位置中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d中的每个都可以被配置成阻隔或屏蔽从第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d中的每个发射的能量离开第二反射单元堆栈321。另外，在第二位置中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d中的每个都可以被配置成例如在消毒系统300的运动和/或储存期间保护第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d中的每个免受损坏。在一个实施例中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d可以围绕相应的第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源323a至323d旋转(例如，能量源323a至323d保持静止)。在另一个实施例中，第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d以及相应的第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源(323a至323d)可以一起旋转。
在一个实施例中，第二反射单元堆栈321可以设置在第一反射单元堆栈320的顶部上，使得中心轴312从基座310的顶表面310a延伸穿过第一反射单元堆栈320和第二反射单元堆栈321的中心部分。第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元321a至321d可以围绕中心轴312对称地布置，并且包括基本正方形的横截面(图4B)。在一个实施例中，第一反射单元堆栈320和第二反射单元堆栈321可以围绕中心轴312在相同方向上旋转(例如，第一反射单元堆栈和第二反射单元堆栈两者顺时针旋转，或者第一反射单元堆栈和第二反射单元堆栈两者逆时针旋转)。在另一个实施例中，第一反射单元堆栈320和第二反射单元堆栈321可以围绕中心轴312在相反方向上旋转(例如，第一反射单元堆栈顺时针旋转，并且第二叠反射单元逆时针旋转)。或者，第一反射单元堆栈320可以在第二叠反射单元321旁边设置例如在并排构型(未示出)中。可以选择和控制堆栈的旋转速度以相对于正被处理的对象或区域提供UV光的特定应用和/或强度水平。例如，在各种应用中，如果堆栈与对象或空间有一定接近度，则每分钟1转至4转的旋转将是合适的。与第一堆栈类似，第二堆栈的旋转可以是均匀的速度、阶梯式的速度或可变的速度，并且可以通过各种手动或自动或机动措施或类似措施来实现。
可以选择和控制堆栈的旋转速度，以相对于正被处理的对象或区域提供UV光的特定应用和/或强度水平。例如，在各种应用中，如果堆栈与对象或区域有一定接近度，则每分钟1转至4转的旋转将是合适的。第一堆栈相对于第二堆栈的旋转速度可以相同或不同。
在各种实施例中，反射单元320a至320d和321a至321d中的每个都可以是可在相应的第一反射单元堆栈320或第二反射单元堆栈321内独立地调节的，使得可以例如手动地或自动地调节反射单元的方向或角度。在一个实施例中，反射单元320a至320d和321a至321d中的每个都可以限定或包括基本凹入的形状，使得从相应的能量源322a至322d和323a至323d中的每个发射的能量远离消毒系统300被引导或聚焦。作为非限制性示例，反射单元320a至320d和321a至321d中的每个都可以包括后部段和至少三个反射段，所述至少三个反射段中的每个都可以相对于后部段偏离法线设置。反射段的这种配置可以允许从能量源发射的能量待在每个方向上而不仅在上下方向或左右方向上被引导到围场中。这样，消毒能量可以被引导到定位有消毒系统300的围场内的多个表面(例如，设备、桌子、墙壁、底板、天花板、门、门把手、把柄、栏杆等)上。在各种实施例中，反射单元320a至320d和321a至321d(包括反射表面)中的每个都可以包括一种或多种商业上合适的材料，包括例如镜子、粉末涂覆的和其它金属的片，以及PebbletoneTM和HammertoneTM饰面。
在各种实施例中，能量源322a至322d和323a至323d中的每个都可以被配置成发射紫外(UV)光。例如，每个能量源都可以包括汞蒸汽灯泡或管、氙气灯泡或管、发光二极管(LED)、发光纳米粒子或被配置成发射波长约为320nm至400nm(例如，UV-A)、波长约为290nm至320nm(例如，UV-B)和/或波长约为200nm至280nm(例如，UV-C)的紫外(UV)光的任何其它能量源。能量源322a至322d和323a至323d中的每个都可以包括双UV发射灯泡，但是灯泡的数量可以变化。虽然UV发射灯泡被描绘为细长灯泡，但是其它合适的UV发射源可以作为非限制性示例包括发射波长约为254nm的UV光的36瓦灯泡。
虽然能量的UV-A、UV-B或UV-C波长中的任一个可以提供在腔室内的设备的充分消毒，但是在一个实施例中，这样的能量源可以提供最佳的消毒强度，即，所述能量源被配置成发射至少30瓦的UV能量，其至少75％是UV-C能量。另外地或可替代地，UV能量发射源可以包括在柔性金属表面上沉积或生长的发光二极管(LED)和/或发光纳米粒子，如这种部件和用于生产这种部件的方法在本领域中是已知的。
本公开绝不限于反射单元堆栈和/或能量源堆栈的数量和/或布置(例如图4A中所示)，并且可以包括以任何合适的位置、取向、配置、尺寸和/或数量设置(例如，设置在基座310的顶部上，包括例如串联布置的第一反射单元堆栈和第二反射单元堆栈(图4E))的反射单元和能量源。参照图5，在一个实施例中，能量源322a至322d和/或323a至323d中的任一个或全部可以以一角度设置在相应的反射单元320a至320d和/或321a至321d内，以便优先地将能量朝向围场的底板和/或天花板引导来对围场内的以其它方式隐藏或遮挡的对象或表面消毒。这种取向可以应用于上述的各种实施例中的任一个的反射单元。
在一个实施例中，基座310可以是机器人的并且被配置成自主地运动到一系列预定的、映射的、获取的或学习的路径点，以在围场内执行单独的和顺序的消毒程序。例如，机器人基座可以运动到围场内的第一路径点并且激活第一能量源阵列322和/或第二能量源阵列323足够量的时间(例如，五分钟)以对围场的第一区域消毒。然后，机器人基座可以运动到第二路径点并且重新激活第一能量源阵列322和/或第二能量源阵列323以对围场的第二区域消毒，并且然后运动到第三路径点并且重新激活第一能量源阵列322和/或第二能量源阵列323以对围场的第三区域消毒。或者，随着机器人基座在路径点之间运动，第一能量源322和/或第二能量源323可以保持激活，以对围场进一步消毒。第一反射单元堆栈320和/或第二反射单元堆栈321可以在这些路径点中的任一个或全部处围绕机器人基座310旋转(或同时在路径点之间运动)，以发射具有适当的强度、接近度和视线的能量来对围场内的设备和/或表面消毒。另外地或可替代地，反射单元320a至320d和/或321a至321d中的一个或多个可以在相应的第一反射单元堆栈320或第二反射单元堆栈321内倾斜或旋转，以便以各种角度发射能量来对可能藏有病原体的以其它方式遮挡的表面消毒。
虽然本公开的消毒系统300通常包括机器人基座，所述机器人基座具有可旋转地设置在其上的第一和/或第二反射单元堆栈和能量源阵列，但是在各种实施例中，基座可以是非机器人的，例如，要求用户手动地将基座滚动到围场内的所需位置以执行消毒程序。另外地或可替代地，基座可以是机器人的，并且第一和/或第二反射单元堆栈和能量源阵列可以被不可旋转地设置在其上。
在一个实施例中，本公开的消毒系统300可以包括位于基座310的外表面上的控制面板350。控制面板350可以被配置成接收和处理用户输入以控制和/或监测消毒系统300的至少一个功能。控制器350可以被配置成与基座310上或基座310内的一个或多个传感器和/或第一反射单元堆栈320或第二反射单元堆栈321电通信。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括运动传感器。运动传感器可以被配置成检测在消毒系统300附近的非预期的运动。在各种实施例中，一个或多个传感器可以被配置成确定是否在消毒程序之前或在消毒程序期间在围场内存在可能被UV光伤害的人。一个或多个传感器可以被配置成检测围场内的静止对象，使得消毒系统300能够用机器人围绕这些对象导航。控制面板350可以被配置成当一个或多个传感器检测到在围场内的这种非预期的运动时改变消毒程序的状态。例如，控制面板350可以提供声音报警(例如，警报)、视觉报警(例如，闪烁或闪光的灯)或电子报警(例如，发送到移动装置的消息)以向围场内的用户指示消毒系统300的存在。另外地或者可替代地，如果用户在预定的时间内对声音报警、视觉报警或电子报警没有响应，则控制面板350可以自动地停用消毒系统300以停止消毒程序。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括电子传感器，例如，电子“鼻”，其被配置成检测、区分和/或量化围场上或围场内的病原体。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括UV光传感器，所述UV光传感器被配置成监测从消毒系统300发射的UV能量的强度或波长。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括在消毒程序期间监测和/或记录消毒系统300和/或围场的照相机。
在各种实施例中，一个或多个传感器可以包括射频识别(RFID)传感器，其被配置成识别出消毒系统300的特定用户。例如，RFID传感器可以被包含在消毒系统300的内部或外部中的一者或两者上。例如，具有适当的徽章访问权的授权用户可以刷RFID传感器并且被允许访问控制面板显示器，以便激活系统。RFID传感器还可以被包含在消毒系统300上，例如，以识别出与特定围场相关联的徽章，所述特定围场经历重复的消毒循环。读取特定围场(例如，围场的门)上的徽章可以允许用于围场的识别和记录，并且可以与针对围场和/或围场内的设备的预编程的激活循环相关联。RFID传感器还可以用作故障保护，防止激活，除非RFID传感器拾取识别出特定围场且指示安排待执行消毒协议的徽章的存在以外。
在各种实施例中，控制面板350可以被配置成提供消毒系统300的指示器或状态。例如，控制面板350可以包括倒计时时钟，其指示在消毒程序上的剩余时间。倒计时时钟可以无线地传输到在围场外侧的用户，以监测消毒程序的状态。控制面板350还可以无线地传输从消毒系统300发射的UV的强度或波长的实时指示器。控制面板350还可以包括需要定期安排或紧急维护消毒系统300的指示器。
在各种实施例中，控制面板350可以包括具有“开”和“关”设置的电源按钮，以通过切断消毒系统300的电源来帮助防止未经授权的使用，除非电源开关处于“开”位置中以外。
在各种实施例中，控制面板350可以被配置成与备用电源或电池电通信，以在电力损失的情况下对消毒系统300再充电。备用电源可以被集成在消毒系统300内或单独的基站的部件内。
在各种实施例中，控制面板350可以包括自动化用户界面、CPU和非暂时性计算机可读存储介质，所述自动化用户界面包括对消毒系统300的机载或远程控制或访问，所述非暂时性计算机可读存储介质具有计算机可执行代码，所述计算机可执行代码当由CPU执行时允许：处理和内存功能，以读取、记录、存储、分析、监测、追踪和控制消毒系统300的活动和安全特征；基于来自本文所述的传感器中的任一个的反馈和/或可编程设置的用户选择和自动控制；以及互联网网络能力，用于使用例如平板电脑、电话、计算机或应用程序来访问、监测和/或控制消毒系统300，以及可以自动化、预设或预编程的系统的其它管理功能或操作功能。上述传感器和/或机器人功能中的任一个可以例如在没有用户输入的情况下或在提供某一用户输入之后被计算机自动化，并且可以被编程到CPU中，作为相对于消毒系统300的激活、设置、维护、运动和/或监测自动地执行的可执行指令。另外，上述操作步骤中的任一个(例如，图6至图7)可以类似地被计算机自动化，包括与在任选地机器人基座上的反射单元或能量源的旋转、方向和/或取向有关的功能。例如，可编程的旋转可以是由一个或多个传感器确定的UV光强度水平的函数，使得基于消毒系统300与围场内的特定一件设备的接近度和/或在给定的路径点处执行消毒程序所花费的时间来加快或减慢该旋转。
鉴于本公开，在没有过度的实验的情况下可以制作和执行本文公开的和要求保护的所有系统和/或方法。虽然已经按照优选的实施例描述了本公开的装置和方法，但是对于本领域的技术人员来说会显而易见的是可以在不脱离本公开的概念、精神和范围的情况下对装置和/或方法并且在本文描述的方法的步骤或步骤顺序中应用变型方案。对于本领域的技术人员显而易见的是所有这样的类似的替代方案和修改方案被认为是处于如由所附权利要求书限定的本公开的精神、范围和概念内。
Claims (77)
1.一种消毒系统，其包括：
腔室，所述腔室包括限定内部的第一侧壁、第二侧壁和后壁；
所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的内表面，所述内表面包括至少一个反射单元；
容纳在每个反射单元内的至少一个能量源；以及
围绕所述腔室的底部部分设置的多个滚动元件。
2.根据权利要求1所述的消毒系统，其中，所述第一侧壁和第二侧壁从所述后壁的相对侧基本垂直地延伸。
3.根据权利要求1或2所述的消毒系统，其中，每个反射单元都面向所述腔室的内部。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的消毒系统，其中，每个反射单元都限定基本凹入的形状。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的消毒系统，其中，每个能量源都被容纳在每个反射单元内，使得从所述能量源发射的能量被引导到所述腔室的内部中。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的消毒系统，其中，每个能量源都是紫外光源。
7.根据权利要求6所述的消毒系统，其中，每个紫外光源都被配置成发射在1米处至少100μW/cm2的强度的紫外线能量。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的消毒系统，其中，所述后壁的所述内表面的至少一部分包括反射表面。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的一个或多个包括至少一个能移除面板。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的消毒系统，其中，所述腔室被配置成在所述腔室的内部接收一件设备。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的消毒系统，还包括顶壁，所述顶壁被附接到所述第一侧壁、第二侧壁和后壁的顶部部分。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的消毒系统，还包括用于关闭所述腔室的开口的前壁。
13.根据权利要求12所述的消毒系统，其中，所述前壁包括窗，所述窗包括允许能见到所述腔室内部且同时基本阻隔从所述能量源发射的能量离开所述腔室的材料。
14.根据权利要求12或13所述的消毒系统，其中，所述前壁的内表面的至少一部分包括至少一个反射单元或反射表面。
15.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁通过至少一个铰链连接到所述第一侧壁或第二侧壁。
16.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁包括第一部分和第二部分，并且其中，所述前壁的所述第一部分通过至少一个铰链连接到所述第一侧壁，并且所述前壁的所述第二部分通过至少一个铰链连接到所述第二侧壁。
17.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁包括卷升门。
18.根据权利要求12至14中任一项所述的消毒系统，其中，所述前壁包括帘，所述帘被配置成关闭所述腔室的开口。
19.根据权利要求18所述的消毒系统，其中，所述帘的内表面的至少一部分包括反射表面。
20.根据权利要求18或19所述的消毒系统，还包括拉绳和滑轮，所述拉绳和滑轮被配置成使所述帘在打开构型和关闭构型之间运动。
21.根据权利要求1至20中任一项所述的消毒系统，还包括底壁，所述底壁被附接到所述第一侧壁、第二侧壁和后壁的底部部分。
22.根据权利要求21所述的消毒系统，其中，所述底壁的部分包括倾斜表面。
23.根据权利要求21或22所述的消毒系统，其中，所述底壁的部分朝向所述后壁下降。
24.根据权利要求21至23中任一项所述的消毒系统，其中，所述底壁包括至少一个止挡器。
25.根据权利要求24所述的消毒系统，其中，所述至少一个止挡器被可滑动地设置在至少一个轨道内，所述至少一个轨道被设置在所述底壁内。
26.根据权利要求24或25所述的消毒系统，其中，所述至少一个止挡器被附接到手柄。
27.根据权利要求21至26中任一项所述的消毒系统，其中，所述底壁的内表面包括至少一个反射单元。
28.根据权利要求27所述的消毒系统，其中，所述至少一个反射单元升高到所述底壁的所述内表面的上方。
29.根据权利要求28所述的消毒系统，其中，所述底壁还包括第一踏面和第二踏面，并且每个踏面的上表面都与所述升高的至少一个反射单元的上表面基本等高。
30.根据权利要求29所述的消毒系统，还包括斜坡，其中，所述斜坡的第一边缘与所述第一踏面和第二踏面的上表面齐平，并且所述斜坡的第二边缘与所述底壁的外表面齐平。
31.根据权利要求1至30中任一项所述的消毒系统，其中，所述多个滚动元件中的每个都被配置成在第一位置和第二位置之间运动。
32.根据权利要求31所述的消毒系统，其中，当所述滚动元件处于所述第一位置中时，所述滚动元件延伸超出所述腔室的底部部分，并且当所述滚动元件处于所述第二位置中时，所述滚动元件不延伸超出所述腔室的底部部分。
33.根据权利要求31或32所述的消毒系统，其中，所述滚动元件中的每个都包括活塞组件，每个活塞组件都包括活塞、控制杆和所述滚动元件的壳体，所述活塞组件被配置成使每个滚动元件都在所述第一位置和所述第二位置之间运动。
34.根据权利要求33所述的消毒系统，其中，所述活塞的第一端部流体地连接到气体源，所述活塞的第二端部被附接到所述控制杆的第一端部，并且所述控制杆的第二端部被附接到所述壳体。
35.根据权利要求34所述的消毒系统，其中，每个滚动元件都通过将气体从所述气体源引入所述活塞中而从所述第二位置运动到所述第一位置，并且每个滚动元件都通过将所引入的气体从所述活塞返回到所述气体源或者通过将所引入的气体排放到大气而从所述第一位置运动到所述第二位置。
36.根据权利要求35所述的消毒系统，其中，所述气体源是压缩气体源。
37.根据权利要求1至36中任一项所述的消毒系统，还包括在所述第一侧壁、第二侧壁、顶壁、后壁或前壁的外表面上的控制面板。
38.根据权利要求37所述的消毒系统，还包括在所述腔室上或所述腔室内的一个或多个传感器，其中，所述控制面板被配置成与所述一个或多个传感器电通信。
39.根据权利要求38所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测所述腔室周围的运动。
40.根据权利要求38或39所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括运动传感器，所述运动传感器被配置成检测所述腔室内的运动。
41.根据权利要求38至40中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器被配置成确定所述前壁是否打开。
42.根据权利要求38至41中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器被配置成确定与所述前壁平行的竖直平面是否被破坏。
43.根据权利要求38至42中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括电子传感器，所述电子传感器被配置成检测和/或区分所述腔室上或所述腔室内的病原体。
44.根据权利要求43所述的消毒系统，其中，所述电子传感器被配置成确定所述腔室上或所述腔室内的病原体的近似量。
45.根据权利要求38至44中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括UV光传感器，所述UV光传感器被配置成(i)输出表示在所述腔室内发射的UV光的强度的信息和/或(ii)检测从所述腔室发射的UV光。
46.根据权利要求38至45中任一项所述的消毒系统，其中，所述一个或多个传感器包括在消毒程序期间监测和/或记录所述腔室的照相机。
47.根据权利要求37至46中任一项所述的消毒系统，其中，所述控制面板包括所述腔室的状态的指示器。
48.根据权利要求47所述的消毒系统，其中，所述腔室的状态包括指示在消毒程序上的剩余时间的时钟。
49.根据权利要求37至48中任一项所述的消毒系统，其中，所述控制面板被配置成与备用电源电通信。
50.根据权利要求38至49中任一项所述的消毒系统，其中，所述控制面板包括用户界面，并且所述系统还包括中央处理单元和非暂时性计算机可读存储介质，其中体现有计算机可执行代码，所述计算机可执行代码当由所述中央处理单元执行时促使所述系统基于来自所述一个或多个传感器的反馈和/或用户输入来执行一个或多个管理功能或操作功能。
51.根据权利要求50所述的消毒系统，其中，所述一个或多个操作功能包括从所述反射单元中的一个或多个调节所述能量源的强度。
52.一种消毒系统，其包括：
基座；
第一反射单元堆栈，其可旋转地附接到所述基座的顶表面；以及
第一能量源阵列，其被容纳在所述第一反射单元堆栈内。
53.根据权利要求52所述的消毒系统，其中，所述第一反射单元堆栈通过中心轴可旋转地附接到所述基座的所述顶表面，所述中心轴从所述基座的所述顶表面延伸穿过所述第一反射单元堆栈的中心部分。
54.根据权利要求52或53所述的消毒系统，其中，所述第一反射单元堆栈包括第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元，所述第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元围绕所述中心轴对称地布置，并且所述第一能量源阵列包括第一能量源、第二能量源、第三能量源和第四能量源。
55.根据权利要求52至54中任一项所述的消毒系统，还包括第二反射单元堆栈和容纳在所述第二反射单元堆栈内的第二能量源阵列。
56.根据权利要求55所述的消毒系统，其中，所述第二反射单元堆栈包括第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元，所述第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元围绕所述中心轴对称地布置，并且所述第二能量源阵列包括第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源。
57.根据权利要求55或56所述的消毒系统，其中，所述第二反射单元堆栈被设置在所述第一反射单元堆栈的顶部上或旁边。
58.根据权利要求54至57中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元中的每个都围绕其在所述第一反射单元堆栈内的相应的所述第一能量源、第二能量源、第三能量源或第四能量源旋转。
59.根据权利要求54至57中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元中的每个都与其在所述第一反射单元堆栈内的相应的所述第一能量源、第二能量源、第三能量源或第四能量源一起旋转。
60.根据权利要求54至59中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元是能旋转的，以便当旋转时每个反射单元的相应反射表面都背对所述中心轴或朝向所述中心轴。
61.根据权利要求56至60所述的消毒系统，其中，所述第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元中的每个都围绕其在所述第二反射单元堆栈内的相应的所述第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源旋转。
62.根据权利要求56至60所述的消毒系统，其中，所述第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元中的每个都与其在所述第二反射单元堆栈内的相应的所述第五能量源、第六能量源、第七能量源和第八能量源一起旋转。
63.根据权利要求61或62中任一项所述的消毒系统，其中，所述第五反射单元、第六反射单元、第七反射单元和第八反射单元是能旋转的，以便当旋转时每个反射单元的相应反射表面都背对所述中心轴或朝向所述中心轴。
64.根据权利要求54至63中任一项所述的消毒系统，还包括延伸穿过所述中心轴的内部部分的枢转点驱动器，其中，相应的第一臂、第二臂、第三臂和第四臂从所述枢转点驱动器的顶部部分延伸到所述第一反射单元、第二反射单元、第三反射单元和第四反射单元中的每个上的枢转点。
65.根据权利要求55至64中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一堆栈和第二堆栈的反射单元中的每个都限定基本凹入的形状。
66.根据权利要求55至65中任一项所述的消毒系统，其中，所述第一能量源阵列和第二能量源阵列是紫外光源。
67.根据权利要求66所述的消毒系统，其中，每个紫外光源都被配置成发射在1米处至少100μW/cm2的强度的紫外线能量。
68.根据权利要求52至67中任一项所述的消毒系统，还包括附接到所述基座的底表面的多个滚动元件。
69.根据权利要求68所述的消毒系统，其中，所述基座是机器人基座，所述机器人基座被配置成利用消毒参数和空间的轮廓或路径点进行编程，由此所述机器人基座能够根据所述空间的所述轮廓和路径点中的一者或两者以及所述参数自动地围绕所述空间运动和对所述空间消毒。
70.一种消毒系统，其包括：
机器人腔室，所述机器人腔室包括第一侧壁、第二侧壁和后壁；
所述第一侧壁、第二侧壁和后壁中的每个的表面，所述表面每个都包括至少一个反射单元；以及
容纳在每个反射单元内的至少一个能量源。
71.根据权利要求70所述的消毒系统，还包括沿着所述腔室的底表面设置的多个滚动元件。
72.根据权利要求71所述的消毒系统，其中，所述滚动元件被配置成在第一位置和第二位置之间运动，在所述第一位置处所述滚动元件延伸超出所述腔室的底表面，在所述第二位置处所述滚动元件不延伸超出所述腔室的底表面。
73.根据权利要求70至72中任一项所述的消毒系统，其中，所述机器人腔室包括用户界面、中央处理单元和非暂时性计算机可读存储介质，其中体现有计算机可执行代码，所述计算机可执行代码当由所述中央处理单元执行时基于来自所述用户界面的输入或基于从所述一个或多个传感器接收的反馈促使所述机器人腔室在消毒点之间运动，控制所述系统的一个或多个消毒操作，监测所述系统的一个或多个传感器，或调节所述反射单元中的一个或多个的能量源的强度。
74.根据权利要求70至73中任一项所述的消毒系统，还包括前壁，所述前壁的表面包括至少一个反射单元或反射表面。
75.根据权利要求70至74中任一项所述的消毒系统，还包括顶壁和底壁，所述顶壁和所述底壁中的每个的表面都包括至少一个反射单元。
76.根据权利要求75所述的消毒系统，其中，包括所述至少一个反射单元或反射表面的所述第一侧壁、第二侧壁、前壁、后壁、顶壁和底壁中的每个的所述表面都面向所述腔室的内部。
77.根据权利要求74所述的消毒系统，其中，包括所述至少一个反射单元或反射表面的所述第一侧壁、第二侧壁、前壁和后壁中的每个的所述表面都从所述腔室面朝外。
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